CN107190932A - 一种景观石材饰面防泛碱工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种景观石材饰面防泛碱工艺,包括以下步骤:1)结构层处理,所述结构层包括混凝土结构和砖墙结构,混凝土结构在混凝土中加入氢氧化钙消耗剂,砖墙结构在浇砖时控制砖湿度为60%‑‑90%;2)待结构层干透后,进行防水处理;3)对饰面石材进行六面防护处理,防护剂渗透入饰面石材,封堵饰面石材孔隙,对饰面石材面层进行隔水保护;4)安装饰面石材;5)封闭饰面石材之间的渗透通道,压顶饰面石材挤浆安装到位后,将石材拼缝的砂浆清理干净,用密闭性良好的填缝剂材料将所有缝隙密封,在侧面石材在好灌浆前对石材拼缝内外进行严格密封打胶。从而防止景观石材饰面泛碱。

Description

一种景观石材饰面防泛碱工艺
技术领域
本发明涉及景观工艺,具体涉及一种景观石材饰面防泛碱工艺。
背景技术
泛碱指混凝土中的主要成分硅酸钙(弱酸强碱性盐),遇水后发生水化反应,形成游离钙、硅酸和氢氧根。当混凝土中有足够多的水时,在毛细压作用下,水会流出,此时游离的钙、钠、钾等物质会以水为载体流出。到达石材表面后,随着水份蒸发,这些物质就残留在石材表面,形成白色粉末状晶体,或者与空气中二氧化碳反应在石材表面形成白色硬块。这些形成的白色物质就是俗称的泛碱。
发明内容
本发明的目的在于提供一种景观石材饰面防泛碱工艺, 为了解决景观石材饰面泛碱的问题。
为了达到上述目的,本发明的技术方案是:一种景观石材饰面防泛碱工艺,包括以下步骤:
1)结构层处理,所述结构层包括混凝土结构和砖墙结构,混凝土结构在混凝土中加入氢氧化钙消耗剂,砖墙结构在浇砖时控制砖湿度为60%--90%;
2)待结构层干透后,进行防水处理;
3)对饰面石材进行六面防护处理,防护剂渗透入饰面石材,封堵饰面石材孔隙,对饰面石材面层进行隔水保护;
4)安装饰面石材;
5)封闭饰面石材之间的渗透通道,压顶饰面石材挤浆安装到位后,将石材拼缝的砂浆清理干净,用密闭性良好的填缝剂材料将所有缝隙密封,在侧面石材在好灌浆前对石材拼缝内外进行严格密封打胶。
所述氢氧化钙消耗剂包括天然火山灰和人工火山。
所述防护剂包括有机硅型防护剂,氟硅型防护剂和成膜型防护剂。
所述填缝剂包括硅酮密封胶。
本发明的有益效果是:防止景观石材饰面泛碱。
具体实施方式
实施例1
一种景观石材饰面防泛碱工艺,包括以下步骤:在混凝土结构浇筑时加入氢氧化钙消耗剂,氢氧化钙消耗剂包括天然火山灰和人工火山灰与氢氧化钙进一步反应形成硅酸钙而硅酸钙本身不溶于水,也就不会被水通过毛细孔带到结构表面。同时延缓混凝土硬化速度,空气中二氧化碳进入结构体内部,氢氧化钙在结构体内部发生反应形成固体钙。待结构层干透后,进行防水处理。对饰面石材进行六面防护处理,有机硅型防护剂或氟硅型防护剂可渗透入饰面石材,封堵饰面石材孔隙,饰面石材面层采用成膜型防护剂进行隔水保护。然后将饰面石材安装于混凝土结构层上。然后封闭饰面石材之间的渗透通道,压顶饰面石材挤浆安装到位后,将石材拼缝的砂浆清理干净,用密闭性良好的填缝剂材料将所有缝隙密封,在侧面石材在好灌浆前对石材拼缝内外进行严格密封打胶。
实施例2
一种景观石材饰面防泛碱工艺,包括以下步骤:砖墙结构层在浇砖时控制砖湿度为60%--90%。待结构层干透后,进行防水处理。对饰面石材进行六面防护处理,有机硅型防护剂或氟硅型防护剂可渗透入饰面石材,封堵饰面石材孔隙,饰面石材面层采用成膜型防护剂进行隔水保护。然后将饰面石材安装于混凝土结构层上。然后封闭饰面石材之间的渗透通道,压顶饰面石材挤浆安装到位后,将石材拼缝的砂浆清理干净,用硅酮密封胶将所有缝隙密封,在侧面石材在好灌浆前对石材拼缝内外进行严格密封打胶。

Claims (4)

1.一种景观石材饰面防泛碱工艺,其特征在于,包括以下步骤:
1)结构层处理,所述结构层包括混凝土结构层和砖墙结构层,混凝土结构层在混凝土中加入氢氧化钙消耗剂,砖墙结构层在浇砖时控制砖湿度为60%--90%;
2)待结构层干透后,进行防水处理;
3)对饰面石材进行六面防护处理,防护剂渗透入饰面石材,封堵饰面石材孔隙,对饰面石材面层进行隔水保护;
4)安装饰面石材;
5)封闭饰面石材之间的渗透通道,压顶饰面石材挤浆安装到位后,将石材拼缝的砂浆清理干净,用密闭性良好的填缝剂材料将所有缝隙密封,在侧面石材在好灌浆前对石材拼缝内外进行严格密封打胶。
2.根据权利要求1所述一种景观石材饰面防泛碱工艺,其特征在于:所述氢氧化钙消耗剂包括天然火山灰和人工火山。
3.根据权利要求1所述一种景观石材饰面防泛碱工艺,其特征在于:所述防护剂包括有机硅型防护剂,氟硅型防护剂和成膜型防护剂。
4.根据权利要求1所述一种景观石材饰面防泛碱工艺,其特征在于:所述填缝剂包括硅酮密封胶。
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RJ01 Rejection of invention patent application after publication
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