CN106583144B - 用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质的涂膜装置 - Google Patents

用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质的涂膜装置 Download PDF

Info

Publication number
CN106583144B
CN106583144B CN201611060489.7A CN201611060489A CN106583144B CN 106583144 B CN106583144 B CN 106583144B CN 201611060489 A CN201611060489 A CN 201611060489A CN 106583144 B CN106583144 B CN 106583144B
Authority
CN
China
Prior art keywords
platform
holder
working medium
film
substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
CN201611060489.7A
Other languages
English (en)
Other versions
CN106583144A (zh
Inventor
李南雷
洪延姬
叶继飞
文明
周伟静
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Peoples Liberation Army Strategic Support Force Aerospace Engineering University
Original Assignee
Peoples Liberation Army Strategic Support Force Aerospace Engineering University
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Peoples Liberation Army Strategic Support Force Aerospace Engineering University filed Critical Peoples Liberation Army Strategic Support Force Aerospace Engineering University
Priority to CN201611060489.7A priority Critical patent/CN106583144B/zh
Publication of CN106583144A publication Critical patent/CN106583144A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN106583144B publication Critical patent/CN106583144B/zh
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C1/00Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating
    • B05C1/04Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length
    • B05C1/06Apparatus in which liquid or other fluent material is applied to the surface of the work by contact with a member carrying the liquid or other fluent material, e.g. a porous member loaded with a liquid to be applied as a coating for applying liquid or other fluent material to work of indefinite length by rubbing contact, e.g. by brushes, by pads
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C13/00Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles
    • B05C13/02Means for manipulating or holding work, e.g. for separate articles for particular articles

Abstract

本发明设计了一种用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质膜片的涂膜装置。基于刮涂法原理,通过配合刮刀、恒温加热器等设备,可实现不同厚度的圆盘状工质膜片的加工。装置由涂膜平台和旋转机构组成,涂膜平台包括盖板、平台;旋转机构包括支架、弹簧、螺杆、底座。盖板放置于平台的上表面;支架安装在螺杆上,通过旋转螺杆可使支架上下移动进行位置调整;在螺杆上装配有弹簧,弹簧张力作用在支架和平台上,确保在涂膜过程中旋转机构和平台接触紧密;底座可与恒温加热器或其它调节机构连接;整个装置采用金属铜作为材质,确保装置具有良好的导热性能。本发明装置的结构简单,使用方便,操作周期短,制备精度高,实现了圆盘状工质膜片的可靠高效制备。

Description

用于制备激光烧蚀微推力商圆盘状工质的涂膜装置
技术领域
[0001 ]本发明属于激光推进技术领域,是一种制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质的涂膜 装置。 、’、
背景技术
[0002]激光烧蚀等离子体微推力器是以激光烧蚀微推进技术为基础,利用激光与微推力 器上携带的靶材工质相互作用产生高温高压的等离子体微射流,从而产生与喷射方向相反 的微冲量。由于化学能释放参与到激光烧蚀的过程中,含能材料的透射式激光烧蚀微推进 的能量转化效率得到较大提升,在获得较高的冲量耦合系数的同时,也产生较高的比冲,因 而含能材料的透射式烧蚀在目前激光烧蚀微推进研宄领域中受到国内外学者的广泛关注。 [0003]由于透射式激光烧蚀能够避免光学器件的污染,且喷射方向性好,在激光烧蚀微 推进领域应用前景较好。靶材烧蚀层材料特性是影响透射式烧蚀推进性能的重要因素,激 光烧蚀含能材料过程中存在化学能的参与,使得能量转化效率能够超过100%。
[0004]透射式激光烧蚀是指激光透过一层透明的基底薄膜,烧蚀涂覆在基底上的烧蚀层 材料(一般为特殊制备的材料),在未受透明基底约束的一侧产生微射流,从而产生微小冲 量。透射式激光烧蚀主要包括以下优点:1)喷射发生在光学设备的异侧,喷射产物不会对聚 焦镜头等光学设备造成污染;2)烧蚀物与激光的相互作用被约束在透明基底和烧蚀层薄膜 之间延长了等离子体的膨胀时间使得烧蚀更加充分;3)烧蚀产物突破靶材时具有较好的方 向性,无需设置微型约束喷管。
发明内容
[0005]透射式烧蚀一般使用双层或多层靶材,靶材由烧蚀层和透明的基底薄膜组成。使 用本发明装置,采用刮涂法,将自行制备的烧蚀层工质溶液均匀涂覆在圆盘状透明基底上, 制成了双层IE材。
[0006] 本发明提供了一种用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质膜片的涂膜装置,包括 涂膜平台和旋转机构。其中涂膜平台包括盖板、平台;旋转机构包括支架、弹簧、螺杆、底座。
[0007] 盖板作为活动部件可自由拆卸,使用时通过螺丝固定于平台上,与平台的上表面 紧密贴合;支架安装在螺杆上,通过旋转螺杆可使支架上下移动,使用时将待加工的圆盘状 工质基底放置于支架上,通过旋转螺杆调整基底位置,直到基底上表面与盖板接触,保证了 基底上表面和平台表面处于同一平面内;基底位置调整好后即可将盖板卸下,使用不同厚 度刮涂刀在平台和基底材料表面上进行工质膜制备;在螺杆上装配有弹簧,弹簧张力作用 在支架和平台上,确保在涂膜过程中旋转机构和涂膜平台接触紧密无法相对运动,保证了 制备精度;螺杆下端安装有底座,底座可与恒温加热器或其它调节机构连接;整个装置采用 热导率高的金属铜作为材质,确保装置配合恒温加热器使用时具有良好的导热性能。
[0008] 本发明的主要优点是:
[0009] (1)针对特定圆盘状尺寸的需求,直接在玻璃基底上进行工质涂膜,保证了透射式 工质膜片的一体成型,避免了烧蚀层和基底材料之间因粘连引起的厚度不均等缺陷;
[0010] (2)装置通过涂膜平台和旋转机构的相互紧密配合保证了烧蚀层工质的厚度控制 精度,根据采用刮刀的不同规格,精度可达十微米量级。
附图说明
[0011] 图1(a)为本发明的用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质膜片的涂膜装置结构 的正视图;
[0012] 图1(b)为本发明的用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质膜片的涂膜装置结构 的左视图;
[0013] 图1(c)为本发明的用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质膜片的涂膜装置结构 的俯视图。
具体实施方式
[0014] 现结合附图,通过具体的实例,对本发明涂膜装置做进一步详细描述。
[0015] 如图1所示,本发明的涂膜装置包括涂膜平台和旋转机构,其中涂膜平台包括盖板 6、平台1;旋转机构包括支架2、弹簧3、螺杆4、底座5;整个装置的材质采用热导率高的金属 铜,确保装置配合恒温加热器使用时具有良好的导热性能。
[0016] 本发明的涂膜装置的涂膜平台部分包括平台1和盖板6;盖板6作为活动部件可自 由拆卸,使用时先将待加工的圆盘状工质基底放置平板1中间的圆盘状凹槽中,基底下表面 由支架2支撑,旋转支架2使圆盘状基底下沉值平台凹槽内,然后通过螺丝将盖板6固定在平 台1上,使盖板6与平台1的上表面紧密贴合。
[0017]本发明的涂膜装置的旋转机构部分包括支架2、弹簧3、螺杆4、底座5;支架2安装在 螺杆4上,通过旋转螺杆4可使支架2上下移动,使用时将待加工的圆盘状工质基底放置于支 架2上,通过旋转螺杆4调整基底位置,直到基底上表面与盖板6接触,保证了基底上表面和 平台1的上表面处于同一平面内;基底位置调整好后即可将盖板6卸下,使用不同厚度刮涂 刀在平台1和圆盘状基底材料表面上进行工质膜制备;在螺杆4上装配有弹簧3,弹簧3的张 力作用在支架和平台上,确保在涂膜过程中旋转机构和涂膜平台接触紧密无法相对运动, 保证了制备精度;螺杆4下端安装有底座5,底座5可与恒温加热器或其它调节机构连接;由 于采用热导率高的金属铜作为材质,确保了装置配合恒温加热器使用时具有良好的导热性 能。
[0018]利用恒温加热器作为底部加热装置,提供50°C〜70 °C的环境给涂膜装置加热,力口 快液体的凝固速率,使得液膜快速粘附在圆盘状基底上;滴适量的溶液在基底上,采用不同 型号(25_,50_,75_,100_,125_,150_,200_)的刮刀在涂膜装置的平台1上均匀刮 涂;刮涂完成待凝固后,将靶材置于室温下晾晒24小时,之后重复涂膜晾晒过程,直到固态 薄膜达到理想的厚度。

Claims (1)

1.一种用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质膜片的涂膜装置,其特征在于,包括涂 膜平台和旋转机构,其中涂膜平台包括盖板、平台;旋转机构包括支架、弹簧、螺杆、底座; 盖板作为活动部件可自由拆卸,使用时通过螺丝固定于平台上,与平台的上表面紧密 贴合;支架安装在螺杆上,通过旋转螺杆可使支架上下移动,使用时将待加工的圆盘状工质 基底放置于支架上,通过旋转螺杆调整基底位置,直到基底上表面与盖板接触,保证了基底 上表面和平台表面处于同一平面内;基底位置调整好后即可将盖板卸下,使用不同厚度刮 涂刀在平台和基底材料表面上进行工质膜制备;在螺杆上装配有弹簧,弹簧张力作用在支 架和平台上,确保在涂膜过程中旋转机构和涂膜平台接触紧密无法相对运动,保证了制备 精度;螺杆下端安装有底座,底座可与恒温加热器或其它调节机构连接;整个装置采用热导 率高的金属铜作为材质,确保装置配合恒温加热器使用时具有良好的导热性能。
CN201611060489.7A 2016-11-25 2016-11-25 用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质的涂膜装置 Active CN106583144B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611060489.7A CN106583144B (zh) 2016-11-25 2016-11-25 用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质的涂膜装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201611060489.7A CN106583144B (zh) 2016-11-25 2016-11-25 用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质的涂膜装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN106583144A CN106583144A (zh) 2017-04-26
CN106583144B true CN106583144B (zh) 2018-11-13

Family

ID=58594985

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201611060489.7A Active CN106583144B (zh) 2016-11-25 2016-11-25 用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质的涂膜装置

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN106583144B (zh)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101323215B1 (ko) * 2011-12-28 2013-10-30 엘아이지에이디피 주식회사 증착 챔버
JP5442054B2 (ja) * 2012-02-23 2014-03-12 パナソニック株式会社 塗布装置および塗布方法
CN103341694B (zh) * 2013-07-01 2015-02-04 江苏大学 一种激光间接冲击微成形中复合飞片的制备方法
CN203812095U (zh) * 2014-04-18 2014-09-03 中国计量学院 一种激光转印微加工微距调节器
CN205329152U (zh) * 2016-01-29 2016-06-22 郑州启航精密科技有限公司 靶材的旋转移动支撑装置

Also Published As

Publication number Publication date
CN106583144A (zh) 2017-04-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104112544A (zh) 一种防硫化氢气体腐蚀的银纳米线透明导电薄膜的制备方法
CN108570652B (zh) 一种可承受高功率溅射的旋转靶材及其制备方法
CN106583144B (zh) 用于制备激光烧蚀微推力器圆盘状工质的涂膜装置
CN105116570A (zh) 玻璃基板烘烤装置
EP2355133A3 (en) Substrate heating apparatus, substrate heating method and substrate processing system
CN105842767B (zh) 采用显微图案电极热极化制备衍射光学元件的设备及方法
CN105779957A (zh) 一种ito靶材的背面金属化方法
CN105563958A (zh) 一种高隔热降噪防辐射真空玻璃及其制造方法
CN101640233A (zh) 用磁控溅射法生产CdS/CdTe太阳能电池的装置
CN105177502B (zh) 一种超光滑金属薄膜表面的制备方法
CN205258591U (zh) 用于蒸镀的加热装置和蒸镀设备
CN204365535U (zh) 石墨烯散热膜喷涂装置
JP6194239B2 (ja) 気化−液化方式の湿し水塗布システムを用いる、インクベースのデジタル印刷を実行するシステムおよび方法
CN203754797U (zh) 一种真空蒸发镀膜装置
CN104409332A (zh) 一种在疏水绝缘层表面涂布光刻胶的方法
CN103160815B (zh) 化学水浴法镀膜设备
CN204570035U (zh) 一种超声喷雾热解镀膜装置
CN106293245B (zh) 一种基于pet薄膜的纳米触控膜的制备方法
CN204892272U (zh) 一种在基膜上涂覆热熔胶的设备
CN204325498U (zh) 一种一体式可旋转气相沉积基片加热装置
CN204853963U (zh) 板材固化炉供油管道双温控制系统
CN205385619U (zh) 一种靶材涂铟加热平台
CN203595409U (zh) 热处理整形架
JPWO2016072250A1 (ja) 塗布装置、塗布ヘッド及び塗布方法
CN104762613A (zh) 一种超声喷雾热解镀膜装置

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
CB02 Change of applicant information
CB02 Change of applicant information

Address after: 101416 3380 mailbox No. 86, equipment college, Bayi Road, Huairou District, Beijing, No. 86

Applicant after: China People's Liberation Army Strategic Support Unit Space Engineering University

Address before: 101416 3380 mailbox No. 86, equipment college, Bayi Road, Huairou District, Beijing, No. 86

Applicant before: PLA 'S Equipment College

GR01 Patent grant
GR01 Patent grant