CN106435616A - 一种TiNC膜的退镀液及退镀工艺 - Google Patents

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Abstract

本发明适用于镀膜处理技术领域，提供了一种TiNC膜的退镀液，所述退镀液的溶剂为去离子水或蒸馏水，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：氯化铵1‑6g/L，氯化铈0.01‑0.5g/L，表面活性剂5‑30g/L，防腐络合剂3‑35g/L，缓蚀剂1‑30g/L。本发明还提供了一种TiNC膜的退镀液的退镀工艺。本发明提供的TiNC膜的退镀液，无毒副作用。在对工件进行退镀处理时，不仅可将工件表面的TiNC膜彻底去除，又不会对工件的基底造成损害。

Description

一种TiNC膜的退镀液及退镀工艺
技术领域
本发明属于镀膜处理技术领域，尤其涉及一种TiNC膜的退镀液及退镀工艺。
背景技术
镀膜过程中会产生不合格的镀层，需要回收利用，这需要将基体表面的镀层彻底退除，而退镀液通常适用于基体表面镀层的退除。传统的退镀工艺中退镀液含有用硝酸、氰化物、硝基化合物硫酸等氧化性强安全性差，污染性严重的物质。此外，在退镀过程中极易对基体本身造成腐蚀，并且产生有毒或者有害气体污染环境。而一部分的铜会与硝酸反应，产生污染性的NOX气体，不仅对人体有较大危害，且对设备及厂房均有一定的危害。
发明内容
本发明所要解决的技术问题在于提供一种TiNC膜的退镀液及退镀工艺，旨在针对TiNC膜进行退镀，且退镀彻底、高效、对环境无污染。
本发明是这样实现的，一种TiNC膜的退镀液，所述退镀液的溶剂为去离子水或蒸馏水，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：
进一步地，所述氯化铵为分析纯氯化铵。
进一步地，所述表面活性剂包括烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠及烷基磺酸钠中的至少一种。
进一步地，所述防腐络合剂包括乙二胺四乙酸二钠及柠檬酸钠。
进一步地，所述缓蚀剂包括六次甲基四胺、柠檬三铵中的至少一种。
进一步地，所述TiNC膜的基底为钛合金或不锈钢基底。
进一步地，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：
本发明还提供了一种TiNC膜的退镀液的退镀工艺，包括：
清洗步骤：将表面镀有TiNC膜的工件进行清洗；
退镀步骤：将经所述清洗步骤处理后的工件放入退镀液中进行退镀处理；所述退镀处理的速度为0.4um/min；
二次清洗：将经所述退镀液处理后的工件用蒸馏水或去离子水冲洗两次，每次水洗时间为20-50秒；干燥处理。
进一步地，所述清洗步骤包括
水洗步骤：将表面镀有TiNC膜的工件放置室温水中漂洗25-45秒；
有机溶剂超声清洗步骤：将经所述水洗步骤处理过的工件放入无水乙醇或者丙酮溶液中超声清洗10-15分钟。
进一步地，所述干燥处理为在70-90℃下真空干燥20-30分钟。
本发明与现有技术相比，有益效果在于：本发明实施例提供的TiNC膜的退镀液，无毒副作用。在对工件进行退镀处理时，不仅可将工件表面的TiNC膜彻底去除，又不会对工件的基底造成损害。在进行退镀处理时，氯化钠和氯化铈会与所述TiNC膜进行化学反应，从而将其去除。所述表面活性剂、防腐络合剂及缓蚀剂起到保护工件的基底的作用，此外还可以控制氯化钠和氯化铈对所述TiNC膜进行化学方应的速度，从而控制退镀处理的速度。
本发明实施例通过合理调配退镀液的溶质的各组分及其含量，使所述退镀液对所述镀TiNC膜的工件进行退镀处理时，对所述TiNC膜的处理程度及处理速度均较适宜，从而获得相应的技术效果。
具体实施方式
为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。
本发明实施例提供了一种TiNC膜的退镀液，所述退镀液的溶剂为去离子水或蒸馏水，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：
本发明实施例提供的TiNC膜的退镀液，无毒副作用。在对工件进行退镀处理时，不仅可将工件表面的TiNC膜彻底去除，又不会对工件的基底造成损害。在进行退镀处理时，氯化钠和氯化铈会与所述TiNC膜进行化学方应，从而将其去除。所述表面活性剂、防腐络合剂及缓蚀剂起到保护工件的基底的作用，此外还可以控制氯化钠和氯化铈对所述TiNC膜进行化学方应的速度，从而控制退镀处理的速度。
本发明实施例通过合理调配退镀液的溶质的各组分及其含量，使所述退镀液对所述镀TiNC膜的工件进行退镀处理时，对所述TiNC膜的处理程度及处理速度均较适宜，从而获得相应的技术效果。
具体地，所述氯化铵为分析纯氯化铵。所述表面活性剂包括烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠及烷基磺酸钠中的至少一种。所述防腐络合剂包括乙二胺四乙酸二钠及柠檬酸钠。所述缓蚀剂包括六次甲基四胺、柠檬三铵中的至少一种。所述TiNC膜的基底为钛合金或不锈钢基底。
在本发明实施例提供的TiNC膜的退镀液中，由于退镀液中含有稀土元素的缓蚀剂从而有效的保护了基底材料，对钛合金或不锈钢基底完全没有腐蚀。
作为优选，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：
本发明实施例还提供了一种TiNC膜的退镀液的退镀工艺，包括：
清洗步骤：将表面镀有TiNC膜的工件进行清洗；
退镀步骤：将经所述清洗步骤处理后的工件放入退镀液中进行退镀处理；所述退镀处理的速度为0.4um/min；
二次清洗：将经所述退镀液处理后的工件用蒸馏水或去离子水冲洗两次，每次水洗时间为20-50秒；干燥处理。
在本发明实施例提供的TiNC膜的退镀液的退镀工艺，简单易操作，高效率，且无污染。采用本发明实施例提供的TiNC膜的退镀液对表面镀有TiNC膜的工件进行退镀处理时，不仅可将工件表面的TiNC膜彻底去除，又不会对工件的基底造成损害。
具体地，所述清洗步骤包括：
水洗步骤：将表面镀有TiNC膜的工件放置室温水中漂洗25-45秒；
有机溶剂超声清洗步骤：将经所述水洗步骤处理过的工件放入无水乙醇或者丙酮溶液中超声清洗10-15分钟。
具体地，所述超声清洗中超声频率为20～40kHz。
具体地，所述干燥处理为在70-90℃下真空干燥20-30分钟。
在本发明实施例提供的TiNC膜的退镀液的退镀工艺，通过控制退镀过程中各参数，使退镀处理取得了相应的效果，不仅可将工件表面的TiNC膜彻底去除，又不会对工件的基底造成损害。
以上所述仅为本发明的较佳实施例而已，并不用以限制本发明，凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种TiNC膜的退镀液，其特征在于，所述退镀液的溶剂为去离子水或蒸馏水，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：
2.如权利要求1所述的退镀液，其特征在于，所述氯化铵为分析纯氯化铵。
3.如权利要求1所述的退镀液，其特征在于，所述表面活性剂包括烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、十二烷基苯磺酸钠及烷基磺酸钠中的至少一种。
4.如权利要求1所述的退镀液，其特征在于，所述防腐络合剂包括乙二胺四乙酸二钠及柠檬酸钠。
5.如权利要求1所述的退镀液，其特征在于，所述缓蚀剂包括六次甲基四胺、柠檬三铵中的至少一种。
6.如权利要求1所述的退镀液，其特征在于，所述TiNC膜的基底为钛合金或不锈钢基底。
7.如权利要求1所述的退镀液，其特征在于，所述退镀液的溶质的各组分及其含量包括：
8.一种TiNC膜的退镀液的退镀工艺，其特征在于，包括：
清洗步骤：将表面镀有TiNC膜的工件进行清洗；
退镀步骤：将经所述清洗步骤处理后的工件放入退镀液中进行退镀处理；所述退镀处理的速度为0.4um/min；
二次清洗：将经所述退镀液处理后的工件用蒸馏水或去离子水冲洗两次，每次水洗时间为20-50秒；干燥处理。
9.如权利要求8所述的退镀工艺，其特征在于，所述清洗步骤包括
水洗步骤：将表面镀有TiNC膜的工件放置室温水中漂洗25-45秒；
有机溶剂超声清洗步骤：将经所述水洗步骤处理过的工件放入无水乙醇或者丙酮溶液中超声清洗10-15分钟。
10.如权利要求8所述的退镀工艺，其特征在于，所述干燥处理为在70-90℃下真空干燥20-30分钟。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018068184A1 (zh) * 2016-10-10 2018-04-19 深圳大学 一种 TiNC 膜的退镀液及退镀工艺
CN111850564A (zh) * 2020-07-16 2020-10-30 桂林理工大学 一种钛化物膜层退镀液及退镀方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011072188A2 (en) * 2009-12-11 2011-06-16 Advanced Technology Materials, Inc. Removal of masking material
CN103572306A (zh) * 2012-07-30 2014-02-12 比亚迪股份有限公司 用于铜表面退镍的退镀液及其制备方法和用于退去铜表面镍的方法
CN104846385A (zh) * 2015-06-17 2015-08-19 沈阳飞机工业（集团）有限公司 一种镉镀层的退除方法
CN105839127A (zh) * 2016-05-04 2016-08-10 广州今泰科技股份有限公司 金属工件表面碳基薄膜的褪镀方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011072188A2 (en) * 2009-12-11 2011-06-16 Advanced Technology Materials, Inc. Removal of masking material
CN103572306A (zh) * 2012-07-30 2014-02-12 比亚迪股份有限公司 用于铜表面退镍的退镀液及其制备方法和用于退去铜表面镍的方法
CN104846385A (zh) * 2015-06-17 2015-08-19 沈阳飞机工业（集团）有限公司 一种镉镀层的退除方法
CN105839127A (zh) * 2016-05-04 2016-08-10 广州今泰科技股份有限公司 金属工件表面碳基薄膜的褪镀方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2018068184A1 (zh) * 2016-10-10 2018-04-19 深圳大学 一种 TiNC 膜的退镀液及退镀工艺
CN111850564A (zh) * 2020-07-16 2020-10-30 桂林理工大学 一种钛化物膜层退镀液及退镀方法

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