CN106125395A - 一种对盒精度补偿方法及补偿系统 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种对盒精度补偿方法及补偿系统，该对盒精度补偿方法通过根据所测阵列基板关键位置偏差值，利用历史批次测量数据实时计算出彩膜基板的黑矩阵工艺的曝光参数补偿值，并将补偿值实时反馈给制作设备，制作设备依据黑矩阵的曝光参数补偿值及时修正设备关键参数，从而制作出与阵列基板相匹配的彩膜基板。这样通过预测彩膜基板与阵列基板的对位偏差，将其优化反馈补偿至工艺过程进行消除，能够从根本上解决对位不良，提高产品品质，同时节省大量的人力消耗，而且能够满足自动化生产线的连续生产需求。

Description

一种对盒精度补偿方法及补偿系统
技术领域
本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种对盒精度补偿方法及补偿系统。
背景技术
现有技术中，在液晶显示器的制备工艺中，由于阵列基板和彩膜基板在工艺过程中造成基板形变量的不同，导致在对盒工艺中无法避免地会存在对位偏差，对位偏差会引起串色不良和漏光不良，对产品显示效果有很大的影响。为了提高液晶显示产品的产品质量，则需要尽可能地减少对位偏差。
目前，现有技术中减少对位偏差的办法一般是投入大量实验基板进行对位精度的测定，然后在真空对盒设备上设定测定的结果，这样会浪费很多人力和物力，而且不能动态实时地调整对位精度，导致对位精度不高。另外，在中国专利CN103676284A中公开了一种成盒对位的方法，改善了之前依据实验数据调整的方法，采用对盒前检测和对盒后检测的方法实现对位调整。主要方法为分别测量阵列基板和彩膜基板上一定数量的标记点，将所测标记点与基准标记进行对比，求得两张基板的相对偏移量，在对盒过程中综合补偿调整，例如检测到彩膜基板整体向左偏3μm，在对位过程中调整阵列基板让其对偏3μm，以此减少对位不良。但是该方法只能通过调整偏差降低对位不良率，并不能将这种偏差补偿到彩膜基板制备工艺过程或者阵列基板制备工艺过程中，因而不能从根本上消除对位偏差。
因此，如何从根本上改善或消除彩膜基板与阵列基板的对位偏差，提高彩膜基板与阵列基板的对位精度，从而提高显示产品的显示效果，是本领域技术人员亟待解决的技术问题。
发明内容
本发明实施例提供了一种对盒精度补偿方法及补偿系统，用以实现从根本上改善或消除彩膜基板与阵列基板的对位偏差，提高彩膜基板与阵列基板的对位精度，从而提高显示产品的显示效果。
本发明实施例提供了一种对盒精度补偿方法，包括：
采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；其中，所述测量数据包括各批次所述阵列基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及所述阵列基板与所述彩膜基板对位后的对位精度测量值；
对采集的所述测量数据进行计算，确定待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到所述本地数据库中；
将本地数据库中对应待制作彩膜基板的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述补偿方法中，对采集的所述测量数据进行计算，确定待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到所述本地数据库中，具体包括：
抽取本地数据库中用于计算待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据，设定对应所述阵列基板和所述彩膜基板的关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断用于计算的所述测量数据是否在标准值的范围内并输出判断结果；
对抽取的所述测量数据进行计算，且根据所述判断结果，计算出待制作的所述彩膜基板上黑矩阵图形的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述补偿方法中，抽取本地数据库中用于计算待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据，设定对应所述阵列基板和所述彩膜基板的关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断用于计算的所述测量数据是否在标准值的范围内并输出判断结果，具体包括：
第一次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值、第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量、第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和所述对位精度标准值范围判断抽取的第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，以及第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值是否在标准值范围内并将判断结果输出；
第二次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围判断抽取的第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值是否在标准值范围内并将判断结果输出。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述补偿方法中，对抽取的所述测量数据进行计算，且根据所述判断结果，计算出待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中，具体包括：
若第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围内，且第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在所述对位精度标准值范围之内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPTFT→CF(n)＝TPTFTFinal(n)-TPCFFinal(n)；
ΔTPTFT→CF(n)EWMA＝(1-α)ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA+αΔTPTFT→CF(n)，0≤α≤1；
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次阵列基板或彩膜基板的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围外，或第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在所述对位精度标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPTFTFinal(n)为第n批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；ΔTPTFT→CF(n)为第n批次阵列基板和彩膜基板的补偿值偏移量；ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPTFT→CF(n)EWMA为第n批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPTFTFinal(n+1)为第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值；
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPFinal→EM(n)＝TPCFFinal(n)-TPCFEM(n)；
ΔTPFinal→EM(n)EWMA＝(1-α)ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA+αΔTPFinal→EM(n)，0≤α≤1；
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值或第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；TPCFEM(n)为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值；ΔTPFinal→EM(n)为第n批次彩膜基板和黑矩阵的补偿值偏移量；ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPFinal→EM(n)EWMA为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPCFEM(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述补偿方法中，将本地数据库中对应待制作彩膜基板的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备，具体包括：
将所述阵列基板的标识数据与待制作的彩膜基板的标识数据进行匹配；
根据匹配结果，将本地数据库中对应匹配结果的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述补偿方法中，所述标识数据，包括：产品批次、产品型号和产品尺寸。
本发明实施例提供了一种对盒精度补偿系统，包括：数据采集模块、数据分析模块和数据应用模块；其中，
所述数据采集模块用于采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；其中，所述测量数据包括各批次所述阵列基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及所述阵列基板与所述彩膜基板对位后的对位精度测量值；
所述数据分析模块用于对所述数据采集模块采集的所述测量数据进行计算，确定待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到所述本地数据库中；
所述数据应用模块用于将本地数据库中对应待制作彩膜基板的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，所述数据分析模块包括：数据过滤子模块和数据计算子模块；其中，
所述数据过滤子模块用于抽取本地数据库中用于计算待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据，设定对应所述阵列基板和所述彩膜基板的关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断用于计算的所述测量数据是否在标准值的范围内，并将判断结果输出到所述数据计算子模块；
所述数据计算子模块用于对所述数据过滤子模块抽取的所述测量数据进行计算，且根据所述数据过滤子模块的判断结果，计算出待制作的所述彩膜基板上黑矩阵图形的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，所述数据过滤子模块，具体用于：
第一次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值、第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量、第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和所述对位精度标准值范围判断抽取的第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，以及第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值是否在标准值范围内并将判断结果输出到所述数据计算子模块；
第二次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围判断抽取的第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值是否在标准值范围内并将判断结果输出到所述数据计算子模块。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，所述数据计算子模块，具体用于：
若第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围内，且第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在所述对位精度标准值范围之内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPTFT→CF(n)＝TPTFTFinal(n)-TPCFFinal(n)；
ΔTPTFT→CF(n)EWMA＝(1-α)ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA+αΔTPTFT→CF(n)，0≤α≤1；
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次阵列基板或彩膜基板的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围外，或第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在所述对位精度标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPTFTFinal(n)为第n批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；ΔTPTFT→CF(n)为第n批次阵列基板和彩膜基板的补偿值偏移量；ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPTFT→CF(n)EWMA为第n批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPTFTFinal(n+1)为第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值；
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPFinal→EM(n)＝TPCFFinal(n)-TPCFEM(n)；
ΔTPFinal→EM(n)EWMA＝(1-α)ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA+αΔTPFinal→EM(n)，0≤α≤1；
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值或第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；TPCFEM(n)为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值；ΔTPFinal→EM(n)为第n批次彩膜基板和黑矩阵的补偿值偏移量；ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPFinal→EM(n)EWMA为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPCFEM(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。
在一种可能的实施方式中，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，所述数据应用模块，具体用于：
将所述阵列基板的标识数据与待制作的彩膜基板的标识数据进行匹配；
根据匹配结果，将本地数据库中对应匹配结果的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。
本发明实施例的有益效果包括：
本发明实施例提供了一种对盒精度补偿方法及补偿系统，该对盒精度补偿方法包括：采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；其中，测量数据包括各批次所述阵列基板的关键位置偏差值、各批次彩膜基板的关键位置偏差值、各批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及阵列基板与彩膜基板对位后的对位精度测量值；对采集的测量数据进行计算，确定待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到本地数据库中；将本地数据库中对应待制作彩膜基板的曝光参数补偿值传输给制作彩膜基板的曝光设备。
具体地，本发明通过根据所测阵列基板关键位置偏差值，利用历史批次测量数据实时计算出彩膜基板的黑矩阵工艺的曝光参数补偿值，并将补偿值实时反馈给制作设备，制作设备依据黑矩阵的曝光参数补偿值及时修正设备关键参数，从而制作出与阵列基板相匹配的彩膜基板。这样通过预测彩膜基板与阵列基板的对位偏差，将其优化反馈补偿至工艺过程进行消除，能够从根本上解决对位不良，提高产品品质，同时节省大量的人力消耗，而且能够满足自动化生产线的连续生产需求。
附图说明
图1为本发明实施例提供的对盒精度补偿方法流程图；
图2为本发明实施例提供的设备与数据中心的数据传输示意图；
图3为本发明实施例提供的显示产品整体制备流程示意图；
图4为本发明实施例提供的对盒精度补偿方法的具体流程图；
图5和图6分别为本发明实施例提供的对盒精度补偿系统的结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图，对本发明实施例提供的对盒精度补偿方法及补偿系统的具体实施方式进行详细的说明。
本发明实施例提供了一种对盒精度补偿方法，如图1所示，具体可以包括：
S101、采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；
其中，测量数据包括各批次所述阵列基板的关键位置偏差值、各批次彩膜基板的关键位置偏差值、各批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及阵列基板与彩膜基板对位后的对位精度测量值；
S102、对采集的测量数据进行计算，确定待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到本地数据库中；
S103、将本地数据库中对应待制作彩膜基板的曝光参数补偿值传输给制作彩膜基板的曝光设备。
本发明实施例提供的上述补偿方法，为提高彩膜基板与阵列基板的对位精度，需要在与彩膜基板配对的阵列基板完成阵列工艺并测量到阵列基板的关键位置偏差值后，再对彩膜基板进行黑矩阵工艺。具体地，当彩膜基板在黑矩阵曝光设备上准备进行工艺时，由设备端的可编程逻辑控制器发送基本信息请求，自动补偿成盒对位精度系统会将计算好的曝光参数补偿值下发给设备的可编程逻辑控制器，黑矩阵曝光设备依据此参数对彩膜基板进行黑矩阵工艺加工。
另外，如图2所示，设备端均安装有数据采集单元即数据采集模块，通过总线的传输方式与设备自身的可编程逻辑控制器PLC相连；设备端的可编程逻辑控制器PLC收集到的设备动态数据，通过以太网Ethernet或控制网络CC-Link IE的方式发送到传输单元BC；传输单元BC通过HSMS协议或Middleware消息中间件的方式，将数据发送到监控系统的服务器，并将各种数据进行分类存入本地数据库，本地数据库将数据上传至数据中心IDC，服务器与本地数据库之间通过光纤链路连接，本地数据库与数据中心IDC之间通过光纤链路连接，这样即可实现采集并存储用于计算待制作彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据及计算结果，最后也可以将计算出的曝光参数补偿值传输到曝光设备用于彩膜基板的制作，实现在制备工艺中对位精度的补偿。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述补偿方法中，步骤S102可以具体包括：
抽取本地数据库中用于计算待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据，设定对应阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围，并根据关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断用于计算的测量数据是否在标准值的范围内并输出判断结果；
对抽取的测量数据进行计算，且根据判断结果，计算出待制作的彩膜基板上黑矩阵图形的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中。
具体地，为提高阵列基板与彩膜基板的对位精度，在制备工艺中实现对位偏差补偿，需要对用于计算的测量数据进行抽取及过滤，然后再根据过滤的测量数据进行计算获得最终的补偿参数。具体地数据抽取、过滤及计算如下：
第一次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值、第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量、第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，并根据关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断抽取的第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，以及第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值是否在标准值范围内并将判断结果输出；
若第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值在关键位置偏差值的标准值范围内，且第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在对位精度标准值范围之内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPTFT→CF(n)＝TPTFTFinal(n)-TPCFFinal(n)；
ΔTPTFT→CF(n)EWMA＝(1-α)ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA+αΔTPTFT→CF(n)，0≤α≤1；
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次阵列基板或彩膜基板的关键位置偏差值在关键位置偏差值的标准值范围外，或第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在对位精度标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPTFTFinal(n)为第n批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；ΔTPTFT→CF(n)为第n批次阵列基板和彩膜基板的补偿值偏移量；ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPTFT→CF(n)EWMA为第n批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPTFTFinal(n+1)为第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值；
第二次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量，并根据关键位置偏差值的标准值范围判断抽取的第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值是否在标准值范围内并将判断结果输出；
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在关键位置偏差值的标准值范围内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPFinal→EM(n)＝TPCFFinal(n)-TPCFEM(n)；
ΔTPFinal→EM(n)EWMA＝(1-α)ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA+αΔTPFinal→EM(n)，0≤α≤1；
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值或第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在关键位置偏差值的标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；TPCFEM(n)为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值；ΔTPFinal→EM(n)为第n批次彩膜基板和黑矩阵的补偿值偏移量；ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPFinal→EM(n)EWMA为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPCFEM(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述补偿方法中，步骤S103可以具体包括：将阵列基板的标识数据与待制作的彩膜基板的标识数据进行匹配；根据匹配结果，将本地数据库中对应匹配结果的所光参数补偿值传输给制作彩膜基的曝光设备，其中，标识数据可以包括产品批次、产品型号和产品尺寸。具体地，如图3所示，图3为显示产品从阵列基板的制作，到最终阵列基板与彩膜基板对盒形成过程，其中增加了本发明实施例提供的对盒精度补偿系统的补偿过程，这样可以提高阵列基板与彩膜基板对位精度。具体的制作过程中包括阵列基板的制作；历史关键数据测量后被收集、过滤、计算及应用；将最终计算出的补偿值应用到彩膜基板上黑矩阵的曝光工艺；完成彩膜基板的制作；阵列基板与彩膜基板的对盒工艺。上述制作过程中采用的制作工艺与现有技术相同，在此不作详述。与现有技术不同的是增加了本发明实施例提供的对盒精度补偿的过程，其具体的补偿方法如前所述，重复之处不再赘述。
下面以一个具体的操作流程实施例对本发明实施例提供的上述补偿方法进行详细的说明，如图4所示，具体包括：
S1、加载数据模型基准；
S2、采集并保存各批次基板的标识信息及测量数据；
S3、抽取第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值；
S4、加载第(n-1)批次时彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；
S5、判断第n批次阵列基板与彩膜基板的对位精度测量值是否在对位精度标准值范围内，是则执行S6，否则执行S10；
S6、抽取第n批次阵列基板与彩膜基板的关键位置偏差值；
S7、判断第n批次阵列基板或彩膜基板的关键位置偏差值是否在关键位置偏差值的标准值范围内，是则执行S8，否则执行S10；
S8、计算第n批次阵列基板和彩膜基板的补偿值偏移量；
S9、计算第n批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；
S10、计算第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值；
S11、抽取第n批次彩膜基板及黑矩阵的关键位置偏差值；
S12、加载(n-1)批次时彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；
S13、判断第n批次彩膜基板或黑矩阵的关键位置偏差值是否在关键位置偏差值的标准值范围内，是则执行S14，否则执行S16；
S14、计算第n批次彩膜基板和黑矩阵的补偿值偏移量；
S15、计算n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；
S16、计算第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。
基于同一发明构思，本发明实施例提供了一种对盒精度补偿系统，如图5所示，可以包括：数据采集模块01、数据分析模块02和数据应用模块03；其中，数据采集模块01用于采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；其中，测量数据包括各批次阵列基板的关键位置偏差值、各批次彩膜基板的关键位置偏差值、各批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及阵列基板与彩膜基板对位后的对位精度测量值；数据分析模块02用于对本地数据库中数据采集模块采集的测量数据进行计算，确定待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到本地数据库中；数据应用模块03用于将本地数据库中对应待制作彩膜基板的曝光参数补偿值传输给制作彩膜基板的曝光设备。
本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统，通过根据所测阵列基板关键位置偏差值，利用历史批次测量数据实时计算出彩膜基板的黑矩阵工艺的曝光参数补偿值，并将补偿值实时反馈给制作设备，制作设备依据黑矩阵的曝光参数补偿值及时修正设备关键参数，从而制作出与阵列基板相匹配的彩膜基板。这样通过预测彩膜基板与阵列基板的对位偏差，将其优化反馈补偿至工艺过程进行消除，能够从根本上解决对位不良，提高产品品质，同时节省大量的人力消耗，而且能够满足自动化生产线的连续生产需求。需要说明的是，关键位置偏差值是指各基板的尺寸形变的测量值，关键位置是指基板中标记的位置，该标记位置是在设计时进行标记的多个标记位置。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，如图6所示，数据分析模块02可以包括：数据过滤子模块021和数据计算子模块022；其中，数据过滤子模块021用于抽取本地数据库中用于计算待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据，设定对应阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围，并根据关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断用于计算的测量数据是否在标准值的范围内，并将判断结果输出到数据计算子模块022；数据计算子模块022用于对数据过滤子模块抽取的测量数据进行计算，且根据数据过滤子模块021的判断结果，计算出待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中。
具体地，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，数据分析模块包括数据过滤子模块和数据计算子模块，其中，数据过滤子模块用于抽取用于计算的测试数据，且判断抽取的数据是否在标准值范围之内；数据计算子模块根据判断结果，对抽取的测试数据进行计算，最终获得待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，数据过滤子模块可以具体用于：
第一次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值、第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量、第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，并根据关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断抽取的第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，以及第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值是否在标准值范围内并将判断结果输出到数据计算子模块；
第二次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量，并根据关键位置偏差值的标准值范围判断抽取的第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值是否在标准值范围内并将判断结果输出到数据计算子模块。
具体地，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，数据过滤子模块需要完成两次数据的抽取及判定，从而数据计算子模块根据数据过滤子模块的判断结果，对抽取的测试数据进行计算，最终获得待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。具体的计算过程如下：
若第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值在关键位置偏差值的标准值范围内，且第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在对位精度标准值范围之内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPTFT→CF(n)＝TPTFTFinal(n)-TPCFFinal(n)；
ΔTPTFT→CF(n)EWMA＝(1-α)ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA+αΔTPTFT→CF(n)，0≤α≤1；
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次阵列基板或彩膜基板的关键位置偏差值在关键位置偏差值的标准值范围外，或第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在对位精度标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPTFTFinal(n)为第n批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；ΔTPTFT→CF(n)为第n批次阵列基板和彩膜基板的补偿值偏移量；ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPTFT→CF(n)EWMA为第n批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPTFTFinal(n+1)为第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值；
以上是利用数据过滤子模块第一次抽取及过滤的测量数据计算，最终获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值。接下来利用数据过滤子模块第二次抽取及过滤的测量数据，以及上面计算出的第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值进行计算，最终获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在关键位置偏差值的标准值范围内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPFinal→EM(n)＝TPCFFinal(n)-TPCFEM(n)；
ΔTPFinal→EM(n)EWMA＝(1-α)ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA+αΔTPFinal→EM(n)，0≤α≤1；
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值或第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在关键位置偏差值的标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；TPCFEM(n)为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值；ΔTPFinal→EM(n)为第n批次彩膜基板和黑矩阵的补偿值偏移量；ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPFinal→EM(n)EWMA为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPCFEM(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。另外上述公式中涉及的α为一个实践经验值，在实际应用中α的取值可以为0.3。
具体地，上述计算过程采用历史批次测量数据和平稳优化过程控制算法，即指数加权移动平均算法，实时计算出彩膜基板整体相应匹配的关键位置偏差补偿值，再根据彩膜基板整体的补偿值计算出彩膜基板的黑矩阵工艺的曝光参数补偿值，并将补偿值实时反馈给设备，设备依据黑矩阵的曝光参数补偿值及时修正设备关键参数，从而制作出与阵列基板相匹配的彩膜基板。这样通过预测彩膜基板与阵列基板对位偏差，将其优化反馈补偿至工艺过程进行消除，能够从根本上解决对位不良，提高产品品质，同时节省大量的人力消耗，而且能够满足自动化生产线的连续生产需求。其中指数加权移动平均算法在计算过程中加入了历史数据，可以保证其计算出的设备参数在一定时间内的连续和稳定，进而保证了产品品质的稳定。
在具体实施时，本发明实施例提供的上述对盒精度补偿系统中，数据应用模块可以具体用于：将阵列基板的标识数据与待制作的彩膜基板的标识数据进行匹配；根据匹配结果，将本地数据库中对应匹配结果的曝光参数补偿值传输给制作彩膜基板的曝光设备。具体地，数据应用模块负责与设备之间进行数据交互，数据应用模块可以对阵列基板的Glass ID和彩膜基板的Glass ID进行配对关系绑定，根据匹配结果将待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值传输给制作彩膜基板的曝光设备，进而据此参数补偿值制作彩膜基板，可以实现从工艺制作过程完成对位补偿。
本发明实施例提供了一种对盒精度补偿方法及补偿系统，该对盒精度补偿方法包括：采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；其中，测量数据包括各批次所述阵列基板的关键位置偏差值、各批次彩膜基板的关键位置偏差值、各批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及阵列基板与彩膜基板对位后的对位精度测量值；对采集的测量数据进行计算，确定待制作的彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到本地数据库中；将本地数据库中对应待制作彩膜基板的曝光参数补偿值传输给制作彩膜基板的曝光设备。
具体地，本发明通过根据所测阵列基板关键位置偏差值，利用历史批次测量数据实时计算出彩膜基板的黑矩阵工艺的曝光参数补偿值，并将补偿值实时反馈给制作设备，制作设备依据黑矩阵的曝光参数补偿值及时修正设备关键参数，从而制作出与阵列基板相匹配的彩膜基板。这样通过预测彩膜基板与阵列基板的对位偏差，将其优化反馈补偿至工艺过程进行消除，能够从根本上解决对位不良，提高产品品质，同时节省大量的人力消耗，而且能够满足自动化生产线的连续生产需求。
显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (11)

1.一种对盒精度补偿方法，其特征在于，包括：
采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；其中，所述测量数据包括各批次所述阵列基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及所述阵列基板与所述彩膜基板对位后的对位精度测量值；
对采集的所述测量数据进行计算，确定待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到所述本地数据库中；
将本地数据库中对应待制作彩膜基板的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。
2.如权利要求1所述的补偿方法，其特征在于，对采集的所述测量数据进行计算，确定待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到所述本地数据库中，具体包括：
抽取本地数据库中用于计算待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据，设定对应所述阵列基板和所述彩膜基板的关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断用于计算的所述测量数据是否在标准值的范围内并输出判断结果；
对抽取的所述测量数据进行计算，且根据所述判断结果，计算出待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中。
3.如权利要求2所述的补偿方法，其特征在于，抽取本地数据库中用于计算待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据，设定对应所述阵列基板和所述彩膜基板的关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断用于计算的所述测量数据是否在标准值的范围内并输出判断结果，具体包括：
第一次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值、第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量、第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和所述对位精度标准值范围判断抽取的第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，以及第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值是否在标准值范围内并将判断结果输出；
第二次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围判断抽取的第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值是否在标准值范围内并将判断结果输出。
4.如权利要求3所述的补偿方法，其特征在于，对抽取的所述测量数据进行计算，且根据所述判断结果，计算出待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中，具体包括：
若第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围内，且第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在所述对位精度标准值范围之内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPTFT→CF(n)＝TPTFTFinal(n)-TPCFFinal(n)；
ΔTPTFT→CF(n)EWMA＝(1-α)ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA+αΔTPTFT→CF(n)，0≤α≤1；
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次阵列基板或彩膜基板的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围外，或第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在所述对位精度标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPTFTFinal(n)为第n批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；ΔTPTFT→CF(n)为第n批次阵列基板和彩膜基板的补偿值偏移量；ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPTFT→CF(n)EWMA为第n批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPTFTFinal(n+1)为第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值；
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPFinal→EM(n)＝TPCFFinal(n)-TPCFBM(n)；
ΔTPFinal→EM(n)EWMA＝(1-α)ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA+αΔTPFinal→EM(n)，0≤α≤1；
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值或第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；TPCFEM(n)为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值；ΔTPFinal→EM(n)为第n批次彩膜基板和黑矩阵的补偿值偏移量；ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPFinal→EM(n)EWMA为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPCFEM(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。
5.如权利要求1-4任一项所述的补偿方法，其特征在于，将本地数据库中对应待制作彩膜基板的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备，具体包括：
将所述阵列基板的标识数据与待制作的彩膜基板的标识数据进行匹配；
根据匹配结果，将本地数据库中对应匹配结果的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。
6.如权利要求5所述的补偿方法，其特征在于，所述标识数据，包括：产品批次、产品型号和产品尺寸。
7.一种对盒精度补偿系统，其特征在于，包括：数据采集模块、数据分析模块和数据应用模块；其中，
所述数据采集模块用于采集各批次的阵列基板和彩膜基板的标识数据及测量数据并存储到本地数据库中；其中，所述测量数据包括各批次所述阵列基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板的关键位置偏差值、各批次所述彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及所述阵列基板与所述彩膜基板对位后的对位精度测量值；
所述数据分析模块用于对所述数据采集模块采集的所述测量数据进行计算，确定待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并存储到所述本地数据库中；
所述数据应用模块用于将本地数据库中对应待制作彩膜基板的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。
8.如权利要求7所述的对盒精度补偿系统，其特征在于，所述数据分析模块包括：数据过滤子模块和数据计算子模块；其中，
所述数据过滤子模块用于抽取本地数据库中用于计算待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值的测量数据，设定对应所述阵列基板和所述彩膜基板的关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和对位精度标准值范围判断用于计算的所述测量数据是否在标准值的范围内，并将判断结果输出到所述数据计算子模块；
所述数据计算子模块用于对所述数据过滤子模块抽取的所述测量数据进行计算，且根据所述数据过滤子模块的判断结果，计算出待制作的所述彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中。
9.如权利要求8所述的对盒精度补偿系统，其特征在于，所述数据过滤子模块，具体用于：
第一次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值、第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量、第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围和所述对位精度标准值范围判断抽取的第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值，以及第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值是否在标准值范围内并将判断结果输出到所述数据计算子模块；
第二次数据抽取及过滤：从本地数据库中抽取第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值，以及第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量，并根据所述关键位置偏差值的标准值范围判断抽取的第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值是否在标准值范围内并将判断结果输出到所述数据计算子模块。
10.如权利要求9所述的对盒精度补偿系统，其特征在于，所述数据计算子模块，具体用于：
若第n批次阵列基板和彩膜基板的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围内，且第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在所述对位精度标准值范围之内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPTFT→CF(n)＝TPTFTFinal(n)-TPCFFinal(n)；
ΔTPTFT→CF(n)EWMA＝(1-α)ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA+αΔTPTFT→CF(n)，0≤α≤1；
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次阵列基板或彩膜基板的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围外，或第n批次阵列基板和彩膜基板对盒后的对位精度测量值在所述对位精度标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFFinal(n+1)＝TPTFTFinal(n+1)+ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPTFTFinal(n)为第n批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；ΔTPTFT→CF(n)为第n批次阵列基板和彩膜基板的补偿值偏移量；ΔTPTFT→CF(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPTFT→CF(n)EWMA为第n批次彩膜基板的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPTFTFinal(n+1)为第(n+1)批次阵列基板的关键位置偏差值；TPCFFinal(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板的关键位置补偿值；
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值、第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围内，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
ΔTPFinal→EM(n)＝TPCFFinal(n)-TPCFEM(n)；
ΔTPFinal→EM(n)EWMA＝(1-α)ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA+αΔTPFinal→EM(n)，0≤α≤1；
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n)EWMA，n＝1，2，3，...
若第n批次彩膜基板的关键位置偏差值或第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值在所述关键位置偏差值的标准值范围之外，通过如下计算过程获得第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值并将计算结果存储于本地数据库中：
TPCFEM(n+1)＝TPCFFinal(n+1)-ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA，n＝1，2，3，...
其中，TPCFFinal(n)为第n批次彩膜基板的关键位置偏差值；TPCFEM(n)为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置偏差值；ΔTPFinal→EM(n)为第n批次彩膜基板和黑矩阵的补偿值偏移量；ΔTPFinal→EM(n-1)EWMA为第(n-1)批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；ΔTPFinal→EM(n)EWMA为第n批次彩膜基板上黑矩阵的关键位置补偿值的指数加权移动平均偏移量；TPCFEM(n+1)为第(n+1)批次彩膜基板上黑矩阵的曝光参数补偿值。
11.如权利要求7-10任一项所述的对盒精度补偿系统，其特征在于，所述数据应用模块，具体用于：
将所述阵列基板的标识数据与待制作的彩膜基板的标识数据进行匹配；
根据匹配结果，将本地数据库中对应匹配结果的所述曝光参数补偿值传输给制作所述彩膜基板的曝光设备。
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