CN105985142A - 仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的配方及其制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的坯体配方及其制造方法,本发明通过优化瓷砖坯体的配方加强了瓷砖坯体的强度,通过增加超平全抛釉釉面的厚度增加了瓷砖的耐磨性能,通过减薄坯体的厚度降低了生产成本,实现低碳环保目标,通过硬抛工艺提高了瓷砖表面的平整度,产品图案丰富,立体感强,富有石材的逼真效果。相比其他同种类产品,它最大的特点是高强度、高耐磨、高逼真、高平整度、高清淅、高环保。

Description

仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的配方及其制造方法
【技术领域】
本发明涉及瓷砖的配方及制造方法,尤其是涉及一种高光亮、富有立体感的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的配方及制造方法。
【背景技术】
现在市面上流通的主要通过软抛工艺进行制作,通过软抛工艺制作的瓷砖有如下缺点,第一:瓷砖表面形成起伏不定的波纹、不平整,影响装饰效果;第二,通过软抛工艺制作的瓷砖难以达到富有立体感的装饰效果,表面较为粗糙,在灯照下反射出来的光线模糊不清。而现在市面上流通的瓷砖无法采用其他工艺来解决上述技术问题,主要原因在于:传统瓷砖的釉面薄,如果采用硬抛技术以使瓷砖表面平整,则会在抛光过程中将底釉磨光,甚至露出底釉,达不到生产标准。
【发明内容】
本发明为解决上述技术问题而提供一种高光亮、富有立体感、装饰效果好的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的坯体配方。
为实现上述目的,本发明的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖抛釉配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,43%-52%的SiO2,10%-17%的Al2O3,10%-18%的CaO,1%-4%的MgO,2.5%-4%的K2O,1.8%-4.0%的Na2O,10%-15%的ZnO,Fe2O3含量低于0. 5%,TiO2含量低于0. 5%;
底釉配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,53%-60%的SiO2,27%-35%的Al2O3,1%-2%的CaO,1%-2%的MgO,3.5%-4.5%的K2O,2.5%-3.5%的Na2O, Fe2O3含量低于0.2%,TiO2含量低于0.2%;
坯体配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,63%-73%的SiO2,15%-24%的Al2O3,0.1%-0.9%的CaO,0.5%-1.4%的MgO,1.5%-4.5%的K2O,1.0%-3.0%的Na2O,3%-6%的IL, Fe2O3含量低于1.5%,TiO2含量低于0.5%。该种配方制作出来的瓷砖坯体适合相比于普通瓷砖更高烧制温度,在充分的保证坯体强度外、与底釉结合更稳定。
进一步的,本发明的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖坯体配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,66%-70%的SiO2,18%-21%的Al2O3,0.2%-0.8%的CaO,0.7%-1.2%的MgO,2.5%-3.5%的K2O,1.5%-2.5%的Na2O,4.5%-5.0%的NaOH,Fe2O3含量低于0.05%,TiO2含量低于0.05%。
为实现仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖高光亮、富有立体感、高平整度的目的,本发明的制造方法包括以下步骤:
第一:制作瓷砖坯体
a、将元素组分加入电子称喂料机,通过电子称喂料机按坯体配方重量百分比搭配好并输送到球磨机;
b、向已添加配方的球磨机中加入水与添加剂,并进行湿法球磨,形成水分含量为32%-38%的泥浆;
c、将b步骤形成的泥浆过60-140目筛,并将筛余压入干燥塔雾化器中雾化成细滴,细滴在热风的作用下脱水形成含水率为6.5%-7.4%的粉料;
d、将c步骤形成的粉料输送到压机压制成初坯,然后将初坯送入干燥窑,形成水分含量低于0.5%、抗折强度大于1.4MPa、温度为80-100℃的坯体;
第二:准备釉料
e1、底釉:将元素组分送入电子称喂料机,通过电子称喂料机按底釉配方重量百分比搭配好并输送到球磨机,加入添加剂球磨后过筛,形成比重为1.88-1.92g/ml、筛余为1.1-1.3g/ml的底釉;
e2、抛釉:将元素组分送入电子称喂料机,通过电子称喂料机按抛釉配方重量百分比搭配好并输送到球磨机,加入添加剂球磨后过筛,形成比重为1.87-1.92g/ml、筛余为0.8-1.1g/ml的抛釉;
e3、印花釉:将无机色料经超细研磨机研磨,形成印花釉;
e4、保护釉:将抛釉原料与添加剂加入球磨机中球磨,形成比重为1.87-1.92g/ml保护釉;
第三:施釉
f、将步骤d的瓷砖坯体打磨、扫尘、喷水后,再将e1步骤形成的底釉通过钟罩淋釉器均匀的覆盖在瓷砖坯体表面,形成带釉面的坯砖;
g、将e3步骤的印花釉通过网板或者喷墨打印技术印刷到坯砖上,形成丝网图案或者喷墨图案;
h、将e4步骤的保护釉均匀的印在丝网图案或者喷墨图案上;
i、将e2步骤的抛釉通过钟罩淋釉器均匀的覆盖在经过h步骤后的柸砖上,抛釉的用量为1250-1350g/m2,厚度为0.4-0.9mm;
第四:烧制
j、将i步骤后的坯砖在陶瓷辊道内烧制,烧制温度1195-1215℃,烧制周期75-105min;
k、将烧制后的坯砖施釉面进行硬抛加工后制成成品,成品的釉面厚度为0.3-0.7mm。
进一步的,为保证坯体与底釉的结合度,底釉添加按照如下步骤进行:步骤f中的底釉通过空气压缩泵抽到中转缸,在中转缸内调好比重1.83-1.85g/ml,流速28-38秒,再抽到使用缸;
用毛巾铺在钟罩淋釉器上围成半弧形,使底釉在弧形内流动;
再将底釉抽入高位罐,通过釉槽和筛网格的缓冲作用,使底釉通过光滑的钟罩淋釉器,均匀如瀑布一样覆盖在坯体的表面,底釉在坯体表面的用量为450-550g/m2
进一步的,为保证超平全抛釉的厚度以及保证超平全抛釉与保护釉的完美结合,本发明添加超平全抛釉按照以下步骤进行:将步骤i中的超平全抛釉通过空气压缩泵抽到中转缸,在中转缸内调好比重1.86-1.88g/ml,流速30-39秒,再抽到使用缸;
用毛巾铺在钟罩淋釉器上围成半弧形,使超平全抛釉在弧形内流动;
再将超平全抛釉抽入高位罐,通过釉槽和筛网格的缓冲作用,使超平全抛釉通过光滑的钟罩淋釉器,均匀如瀑布一样覆盖在坯体的表面。
本发明的贡献在于,弥补了普通全抛釉本身表面不平整、有明显水波纹、容易给使用者造成视觉晕眩的技术缺陷,同时弥补了普通全抛釉瓷砖釉面容易产生裂纹的缺陷;本发明的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖最表层的釉面比普通瓷砖厚0.1-0.6mm,增加了瓷砖的耐磨性能,为瓷砖表面的高平整度打下了基础;由于本发明的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖表层釉面厚,可进行硬抛工艺对瓷砖表面进行处理,在高产生光亮的视觉特点外,石材也更富有立体感,更逼真;由于本发明生产的瓷砖釉面层厚,可适量减薄坯体,无论是从原材料使用量到生产过程都可以减少能源损耗,减少生产成本,实现“节能、减耗”的低碳环保目标;超平全抛釉瓷质砖的薄形化、轻量化,既节约物流运输成本,减轻建筑物的负荷载,更是直接降低物流和施工的碳排放;依照本发明生产的瓷砖不但在价格、环保、耐用和清洁上极具优势,在质感、规格、花色、重量等指标上超平全抛釉瓷质砖都远远胜于石材、抛光砖。相比其他同种类产品,它最大的特点是高强度、高耐磨、高逼真、高平整度、高清淅、高环保。
【具体实施方式】
下列实施例是对本发明的进一步解释和补充,对本发明不构成任何限制。
实施例1
本实施例仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的坯体配方为以下元素组分按重量百分比配制而成,67%的SiO2,21%的Al2O3,0.55%的CaO,1.0%的MgO,3.0%的K2O,2.4%的Na2O,5%的NaOH,0.03%Fe2O3 ,0.02%的TiO2
底釉配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,59.6%的SiO2, 30%的Al2O3,1.5%的CaO,1.5%的MgO, 4%的K2O,3%的Na2O, 0.2%的Fe2O3, 0.2% 的TiO2
坯体配方由以下元素组分按重量百分比配制而成, 68%的SiO2,20%的Al2O3,0.6%的CaO, 1%的MgO,3%的K2O,2%的Na2O,4%的IL, Fe2O3为1%,TiO2为0.4%;该种配方制作出来的瓷砖坯体适合相比于普通瓷砖更高烧制温度,在充分的保证坯体强度外、与底釉结合更稳定。
实施例2
本实施例的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的制作方法包括如下步骤:
第一:制作瓷砖坯体
a、将元素组分加入电子称喂料机,通过电子称喂料机按坯体配方重量百分比搭配好并输送到球磨机;
b、向已添加配方的球磨机中加入水与添加剂,并进行湿法球磨,形成水分含量为35%的泥浆;
c、将b步骤形成的泥浆过60-140目筛,并将筛余压入干燥塔雾化器中雾化成细滴,细滴在热风的作用下脱水形成含水率为7%的粉料;
d、将c步骤形成的粉料输送到压机压制成初坯,然后将初坯送入干燥窑,形成水分含量低于0.5%、抗折强度大于1.4MPa、温度为80-100℃的坯体;
第二:准备釉料
e1、底釉:将元素组分送入电子称喂料机,通过电子称喂料机按底釉配方重量百分比搭配好并输送到球磨机,加入添加剂球磨后过筛,形成比重为1.88-1.92g/ml、筛余为1.1-1.3g/ml的底釉;
e2、抛釉:将元素组分送入电子称喂料机,通过电子称喂料机按抛釉配方重量百分比搭配好并输送到球磨机,加入添加剂球磨后过筛,形成比重为1.87-1.92g/ml、筛余为0.8-1.1g/ml的抛釉;
e3、印花釉:将无机色料经超细研磨机研磨,形成印花釉;
e4、保护釉:将抛釉原料与添加剂加入球磨机中球磨,形成比重为1.87-1.92g/ml保护釉;
第三:施釉
f、将步骤d的瓷砖坯体打磨、扫尘、喷水后,再将e1步骤形成的底釉通过钟罩淋釉器均匀的覆盖在瓷砖坯体表面,形成带釉面的坯砖;
g、将e3步骤的印花釉通过网板或者喷墨打印技术印刷到坯砖上,形成丝网图案或者喷墨图案;
h、将e4步骤的保护釉均匀的印在丝网图案或者喷墨图案上;
i、将e2步骤的抛釉通过钟罩淋釉器均匀的覆盖在经过h步骤后的柸砖上,抛釉的用量为1300g/m2,厚度为0.4mm;
第四:烧制
j、将i步骤后的坯砖在陶瓷辊道内烧制,烧制温度1200℃,烧制周期90min;
k、将烧制后的坯砖施釉面进行硬抛加工后制成成品,成品的釉面厚度为0.5mm。
步骤g中,印花釉通过网板印刷到釉坯表面,或采用纳米技术的墨水和 5D喷墨打印技术,而印刷的素材是真石的高精密大副精细扫描图,达到360dpi高清淅、高分辨率的设计图案效果喷刷到釉坯表面,步骤h中,保护釉均匀的印在丝网图案或喷墨图案上,保护釉使花釉、墨水与超平全抛釉的更好结合;
本实施例的仿天然大理石超平釉瓷质砖的制造方法工艺简单,生产出的瓷质砖极具立体感、图像高逼真、高清晰,不会让使用者产生视觉晕眩,产品质地和通透性均有所提升,与石材相比更富有线条的饱和感,丰富的艺术表现力,花色纹理更加立体丰满,色彩过渡更加自然逼真。
实施例3
本实施例在实施例2的基础上完善了底釉的添加工艺,将步骤f中的底釉通过空气压缩泵抽到中转缸,在中转缸内调好比重1.85g/ml,流速32秒;
再将底釉抽入高位罐,通过釉槽和筛网格的缓冲作用,使底釉通过光滑的钟罩淋釉器,均匀如瀑布一样覆盖在坯体的表面,底釉在坯体表面的用量为500g/m2
本实施例的坯体匀速通过钟罩淋釉器,底釉均匀的覆盖在坯体上,使坯体表与底釉结合完美。
实施例4
本实施例在实施例2的基础上完善了超平全抛釉的添加工艺,步骤i中的超平全抛釉通过空气压缩泵抽到中转缸,在中转缸内调好比重1.88g/ml,流速35秒,再抽到使用缸;
用毛巾铺在钟罩淋釉器上围成半弧形,使超平全抛釉在弧形内流动;
再将超平全抛釉抽入高位罐,通过釉槽和筛网格的缓冲作用,使超平全抛釉通过光滑的钟罩淋釉器,均匀如瀑布一样覆盖在坯体的表面。
本实施例的超平全抛釉均匀如瀑布一样覆盖在坯体的表面,厚度达到0.5mm,为后来的硬抛工艺打下了基础。
实施例5
在釉面和超平全抛釉添加工艺中,还设置有釉浆回收工艺,回收工艺包括三部分:第一,皮带上的釉浆通过导釉管过120目筛回收到回收缸;第二,侧板过砖回收的釉浆直接过60目筛再收到使用缸;第三,高位罐回收管的釉浆直接回到120目振动筛过筛再使用;按生产工艺要求检测总施釉量,以及左、中、左的施釉量±1克,加强过筛除铁。本实施例减少了能源损耗,降低了企业的生产成本,实现“节能、低耗”的低碳环保目标。
尽管通过以上实施例对本发明进行了揭示,但本发明的保护范围并不局限于此,在不偏离本发明构思的条件下,对以上各构件所做的变形、替换等均将落入本发明的权利要求范围内。

Claims (5)

1.仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的配方,包括抛釉配方、底釉配方和坯体配方,其特征在于:
抛釉配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,43%-52%的SiO2,10%-17%的Al2O3,10%-18%的CaO,1%-4%的MgO,2.5%-4%的K2O,1.8%-4.0%的Na2O,10%-15%的ZnO,Fe2O3含量低于0. 5%,TiO2含量低于0. 5%;
底釉配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,53%-60%的SiO2,27%-35%的Al2O3,1%-2%的CaO,1%-2%的MgO,3.5%-4.5%的K2O,2.5%-3.5%的Na2O, Fe2O3含量低于0.2%,TiO2含量低于0.2%;
坯体配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,63%-73%的SiO2,15%-24%的Al2O3,0.1%-0.9%的CaO,0.5%-1.4%的MgO,1.5%-4.5%的K2O,1.0%-3.0%的Na2O,3%-6%的IL, Fe2O3含量低于1.5%,TiO2含量低于0.5%。
2.如权利要求1所述的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的配方,其特征在于:坯体配方由以下元素组分按重量百分比配制而成,66%-70%的SiO2,18%-21%的Al2O3,0.2%-0.8%的CaO,0.7%-1.2%的MgO,2.5%-3.5%的K2O,1.5%-2.5%的Na2O,4.5%-5.0%的NaOH,Fe2O3含量低于1.5%,TiO2含量低于0.5%。
3.仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的制造方法,其特征在于包括以下步骤:
第一:制作瓷砖坯体
a、将元素组分加入电子称喂料机,通过电子称喂料机按坯体配方重量百分比搭配好并输送到球磨机;
b、向已添加配方的球磨机中加入水与添加剂,并进行湿法球磨,形成水分含量为32%-38%的泥浆;
c、将b步骤形成的泥浆过60-140目筛,并将筛余压入干燥塔雾化器中雾化成细滴,细滴在热风的作用下脱水形成含水率为6.5%-7.4%的粉料;
d、将c步骤形成的粉料输送到压机压制成初坯,然后将初坯送入干燥窑,形成水分含量低于0.5%、抗折强度大于1.4MPa、温度为80-100℃的坯体;
第二:准备釉料
e1、底釉:将元素组分送入电子称喂料机,通过电子称喂料机按底釉配方重量百分比搭配好并输送到球磨机,加入添加剂球磨后过筛,形成比重为1.88-1.92g/ml、筛余为1.1-1.3g/ml的底釉;
e2、抛釉:将元素组分送入电子称喂料机,通过电子称喂料机按抛釉配方重量百分比搭配好并输送到球磨机,加入添加剂球磨后过筛,形成比重为1.87-1.92g/ml、筛余为0.8-1.1g/ml的抛釉;
e3、印花釉:将无机色料经超细研磨机研磨,形成印花釉;
e4、保护釉:将抛釉原料与添加剂加入球磨机中球磨,形成比重为1.87-1.92g/ml保护釉;
第三:施釉
f、将步骤d的瓷砖坯体打磨、扫尘、喷水后,再将e1步骤形成的底釉通过钟罩淋釉器均匀的覆盖在瓷砖坯体表面,形成带釉面的坯砖;
g、将e3步骤的印花釉通过网板或者喷墨打印技术印刷到坯砖上,形成丝网图案或者喷墨图案;
h、将e4步骤的保护釉均匀的印在丝网图案或者喷墨图案上;
i、将e2步骤的抛釉通过钟罩淋釉器均匀的覆盖在经过h步骤后的柸砖上,抛釉的用量为1250-1350g/m2,厚度为0.4-0.9mm;
第四:烧制
j、将i步骤后的坯砖在陶瓷辊道内烧制,烧制温度1195-1215℃,烧制周期75-105min;
k、将烧制后的坯砖施釉面进行硬抛加工后制成成品,成品的釉面厚度为0.3-0.7mm。
4.如权利要求3所述的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的制造方法,其特征在于:步骤f中的底釉通过空气压缩泵抽到中转缸,在中转缸内调好比重1.83-1.86g/ml,流速28-38秒;
再将底釉抽入高位罐,通过釉槽和筛网格的缓冲作用,使底釉通过光滑的钟罩淋釉器,均匀如瀑布一样覆盖在瓷砖坯体的表面,底釉在瓷砖坯体表面的用量为450-550g/m2
5.如权利要求3所述的仿天然大理石超平全抛釉瓷质砖的制造方法,其特征在于:步骤i中的抛釉通过空气压缩泵抽到中转缸,在中转缸内调好比重1.86-1.88g/ml,流速30-39秒;
再将抛釉抽入高位罐,通过釉槽和筛网格的缓冲作用,使超平全抛釉通过光滑的钟罩淋釉器,均匀如瀑布一样覆盖在坯砖的表面,淋1250~1350 g/㎡,抛釉成品厚度为0.3~0.7毫米。
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