CN105652588A - 一种掩膜板清洗系统 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种掩膜板清洗系统,包括:夹具和薄膜保护装置,所述夹具用于水平悬空夹持掩膜板;所述薄膜保护装置设置在所述夹具的下方,用于遮挡设置在掩膜板下表面的薄膜,并与薄膜四周的掩膜板的下表面连接,以防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜,减小掩膜板的清洁工序对工人的依赖,提高掩膜板生产的良品率,并为实现机械化、规模化的掩膜板清洁工序提供保障。

Description

一种掩膜板清洗系统
技术领域
[0001]本发明涉及半导体设备制造技术领域,具体涉及一种掩膜板清洗系统。
背景技术
[0002]近年来TFT_LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display,薄膜晶体管液晶显示器)已经在显示领域得到广泛的应用,在液晶屏生产制造过程中,薄膜晶体管阵列基板的生产是颇为重要的一环,而光刻所用的掩膜板作为TFT制作的核心“道具”,其保养和维护显得尤为重要。
[0003]由于工厂内部微小粉尘和挥发气体的存在,使得掩膜板必须定期进行系统的清洁除静电处理。目前工厂内部基本上都使用离子风枪、离子棒进行去颗粒处理,而对于顽固污渍,一般使用高等级无尘布蘸清水或者异丙醇(IPA)进行浸泡擦拭。另外,用于制作薄膜晶体管(TFT)的掩膜板的底部都会使用特殊的薄膜(Pe11 icIe)保护掩膜板下表面的TFT图案,以阻止颗粒和工厂内挥发气体的污染。
[0004]现有的掩膜板清洁过程均由人工手动操作实现,在清洗过程中,人工操作失误发生几率较大,容易造成对Pe 11 i c I e的污染,一旦Pe 11 i c I e上粘上不明液态污渍,则会造成曝光过程中的焦距变化和穿透率失真。而对Pellicle的保护只能依赖于人员的细心和经验,使得掩膜板的良品率较低。
[0005]因此,亟需一种掩膜板清洗系统以解决上述技术问题。
发明内容
[0006]本发明针对现有技术中存在的上述不足,提供一种掩膜板清洗系统,用以解决掩膜板下方的薄膜容易污染的问题。
[0007]本发明为解决上述技术问题,采用如下技术方案:
[0008]本发明提供一种掩膜板清洗系统,包括:夹具和薄膜保护装置,所述夹具用于水平悬空夹持掩膜板;
[0009]所述薄膜保护装置设置在所述夹具的下方,用于遮挡设置在掩膜板下表面的薄膜,并与薄膜四周的掩膜板的下表面连接,以防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜。
[0010]优选的,所述薄膜保护装置包括真空连接机构和腔体,所述腔体内部中空且开口向上,所述腔体的开口处沿所述开口设置有开口向上的凹槽;
[0011]所述真空连接机构与所述凹槽相连,用于在所述凹槽内形成真空,并借助真空将所述腔体的开口与薄膜四周的掩膜板的下表面贴合并连接。
[0012]优选的,所述凹槽内设置有多个真空孔;
[0013]所述真空连接机构包括:气体总管、配气盘和多个气体支管,所述气体支管与所述真空孔一一对应且相连,配气盘设置于所述腔体的底部,与所述气体总管和气体支管相连。
[0014]优选的,所述凹槽内设置有密封胶。
[0015]进一步的,所述薄膜保护装置还包括升降机构,所述升降机构用于竖直升降所述腔体和真空连接机构。
[0016]优选的,所述掩膜板包括石英载体和图案化的掩膜板本体,所述掩膜板本体位于所述石英载体的下表面,所述薄膜覆盖所述掩膜板本体;
[0017]所述石英载体的上表面和侧面的交界处设置有倒角。
[0018]优选的,所述倒角为30-60度。
[0019]优选的,所述石英载体的上表面和所述倒角的表面采用亲水性处理;和/或,所述石英载体的侧面采用疏水性处理。
[0020]优选的,所述夹具包括第一夹持机构和第二夹持机构,第一夹持机构和第二夹持机构分别从所述掩膜板的两侧夹持并固定所述掩膜板;
[0021]所述第一夹持机构和第二夹持机构包括:驱动装置以及水平设置的翼板、第一手臂、第二手臂、第一导轨和第二导轨,所述第一手臂与第二手臂分别与所述翼板的两端相连,并能够分别在第一导轨和第二导轨内滑动伸缩;所述第一手臂和第二手臂的用于夹持所述掩膜板的夹持端设置有用于限制所述第一手臂和第二手臂水平位移大小的止挡部件;
[0022]所述驱动装置与所述翼板相连,用于驱动所述翼板水平移动,并同时带动所述第一手臂和第二手臂分别在第一导轨和第二导轨内滑动,以使所述止挡部件抵靠住所述掩膜板的侧面。
[0023]优选的,所述驱动装置为齿轮齿条驱动装置。
[0024]优选的,所述止挡部件包括第一挡板和第二挡板,第一挡板和第二挡板垂直设置在所述第一手臂和第二手臂的上表面,且第一挡板邻近所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部;
[0025]所述第一挡板的高度小于所述第二挡板的高度,所述第一挡板的弹性大于所述第二挡板的弹性。
[0026]进一步的,所述第一手臂和第二手臂的用于夹持所述掩膜板的夹持端还设置有用于支撑所述掩膜板的垫块,所述垫块位于所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部与所述第一挡板之间。
[0027]优选的,所述垫块为两块,包括第一垫块和第二垫块,所述第一垫块邻近所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部;
[0028]所述第一垫块的高度大于所述第二垫块的高度,所述第一垫块的弹性小于所述第二垫块的弹性。
[0029]进一步的,所述系统还包括在水平方向上的位置能够调节的冲洗装置,所述冲洗装置设置在所述夹具的上方,用于向所述掩膜板喷洒冲洗液。
[0030]进一步的,所述系统还包括风干装置,所述风干装置设置于所述冲洗装置的上方,用于竖直向下吹风以风干所述掩膜板。
[0031]进一步的,所述风干装置还包括多个用于去除静电的金属针头,所述金属针头设置于所述风干装置的出风口处,并向不同方向排布。
[0032]本发明能够实现以下有益效果:
[0033]本发明利用夹具用于水平悬空夹持掩膜板,并通过在夹具的下方设置薄膜保护装置,该薄膜保护装置能够与薄膜四周的掩膜板的下表面连接,并将掩膜板下表面的薄膜遮挡住,从而防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜,减小掩膜板的清洁工序对工人的依赖,提高掩膜板生产的良品率,并为实现机械化、规模化的掩膜板清洁工序提供保障。
附图说明
[0034]图1为本发明实施例提供的掩膜板清洗系统的结构示意图;
[0035]图2为本发明实施例提供的薄膜保护装置的结构示意图;
[0036]图3为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图;
[0037]图4为本发明实施例提供的夹具的结构示意图;
[0038]图5为本发明实施例提供的夹具夹持掩膜板与薄膜保护装置相连的示意图。
[0039]图例说明:
[0040] 1、夹具 2薄膜保护装置 3、掩膜板[0041 ] 4、冲洗装置 5、风干装置 6、导流槽
[0042] 11、第一加持机构12、第二加持机构13、驱动装置
[0043] 14、翼板 15、第一手臂 16、第二手臂
[0044] 17、第一导轨 18、第二导轨 21、真空连接机构
[0045] 22、腔体 23、凹槽 24、真空孔
[0046] 25、升降机构 31、薄膜 32、掩膜板本体
[0047] 33、石英载体 41、金属针头 191、第一挡板
[0048] 192、第二挡板 101、第一垫块 102、第二垫块
[0049] 211、气体总管 212、配气盘 213、气体支管
[0050] 331、倒角
具体实施方式
[0051]下面将结合本发明中的附图,对本发明中的技术方案进行清楚、完整的描述,显然,所描述的实施例是本发明的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0052]以下结合图1-5,详细说明本发明的技术方案。
[0053]如图1所示,本发明提供一种掩膜板清洗系统,该一种掩膜板清洗系统包括:夹具I和薄膜保护装置2,夹具I用于水平悬空夹持掩膜板3。薄膜保护装置2设置在夹具I的下方,用于遮挡设置在掩膜板3下表面的薄膜31,并与薄膜31四周的掩膜板3的下表面连接,以防止用于冲洗掩膜板3的冲洗液污染薄膜31。
[0054]本发明利用夹具用于水平悬空夹持掩膜板,并通过在夹具的下方设置薄膜保护装置,该薄膜保护装置能够与薄膜四周的掩膜板的下表面连接,并将掩膜板下表面的薄膜遮挡住,从而防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜,减小掩膜板的清洁工序对工人的依赖,提高掩膜板生产的良品率,并为实现机械化、规模化的掩膜板清洁工序提供保障。
[0055]优选的,如图2所示,薄膜保护装置2包括真空连接机构21和腔体22,腔体22内部中空、开口向上且下部密封,腔体22的开口处沿所述开口设置有开口向上的凹槽23。腔体22的开口呈“回”字型,腔体22的开口的尺寸大于薄膜31的尺寸,凹槽23可直接与掩膜板3的下表面贴合,用以保护薄膜31。真空连接机构21与凹槽23相连,用于在凹槽23内形成真空,并借助真空将腔体22的开口与薄膜31四周的掩膜板3的下表面贴合并连接。
[0056]利用内部中空的腔体将薄膜罩住,在腔体开口处设置凹槽,当需要清洁掩膜板时,利用真空连接机构在凹槽内形成真空,借助真空将所述腔体的开口与薄膜四周的掩膜板的下表面贴合并连接,从而利用腔体将薄膜与外界隔离;当掩膜板清洁完成时,通过向凹槽内通入气体去除真空,即可将腔体与掩膜板分离,该薄膜保护装置结构简单,腔体与掩膜板连接或分离自如,使用方便。
[0057]优选的,凹槽23内设置有多个真空孔24,各真空孔24在凹槽23内均匀分布。
[0058]真空连接机构21包括:气体总管211、配气盘212和多个气体支管213,气体支管213与各真空孔24—一对应且相连,配气盘212设置于腔体22的底部,并与气体总管211和各气体支管213相连。
[0059]进气总管211上设置有CDA/Vacuum切换阀门,用以控制气流流量。当腔体22上升与掩膜板3的下表面接触时,利用配气盘212对凹槽23抽真空,从而将薄膜31与外界隔离,当清洗完成时,切换CDA/Vacuum切换阀门,利用配气盘212向凹槽23内吹入一定压力的⑶A(ColdDry Air,干燥冷空气)气体,实现腔体22与掩膜板3分离。
[0060]为了提高密封、隔离效果,进一步的,还可以在凹槽23内设置密封胶。
[0061]如图1所示,所述薄膜保护装置2还可以包括升降机构25,升降机构25用于竖直升降腔体22和真空连接机构21。
[0062]在本发明实施例中,升降机构25采用手动升降装置,即在腔体22的底部设置转动纽带中枢,利用转动纽带中枢带动设置在腔体22的四角处的四个螺母同步转动,实现手动同步控制腔体22上升或者下降。
[0063]由于本发明采用水洗方式清洁掩膜板,本发明进一步对现有的掩膜板结构做了相应改进,以下结合图3,详细描述本发明实施例的掩膜板的结构。
[0064]如图3和图5所示,掩膜板3包括:薄膜31、图案化的掩膜板本体32和石英载体33,图案化的掩膜板本体32位于石英载体33的下表面,薄膜31覆盖图案化的掩膜板本体32。需要说明的是,石英载体33的尺寸大于薄膜31和图案化的掩膜板本体32的尺寸,薄膜31和图案化的掩膜板本体32位于石英载体33的中央部分。石英载体33的上表面和侧面的交界处设置有倒角331。
[0065]当薄膜保护装置2与薄膜31四周的掩膜板3的下表面贴合并连接时,腔体22的侧壁正好位于薄膜31与夹具I的两个手臂的夹持端之间,冲洗液可以从石英载体33的上表面流下,通过在石英载体的上表面和侧面的交界处设置倒角,从而起到导流的作用,可以引导冲洗液快速流走。
[0066] 优选的,倒角331可以为30-60度。
[0067]为了进一步增强导流效果,优选的,在石英载体33的上表面和倒角331的表面还以进行亲水性处理,在石英载体33的侧面还可以进行疏水性处理。通过对石英载体表面的亲水性处理和/或疏水性处理,保证了冲洗液的顺利排流,进一步防止冲洗液流入掩膜板下表面污染薄膜。
[0068]以下结合图1和图4,详细说明本发明的夹具的结构。
[0069]结合图1和图4所示,夹具I包括第一夹持机构11和第二夹持机构12,第一夹持机构11和第二夹持机构12分别从掩膜板3的两侧夹持并固定掩膜板3。
[0070]如图4所示,第一夹持机构11包括:驱动装置13以及水平设置的翼板14、第一手臂15、第二手臂16、第一导轨17和第二导轨18,第一手臂15与第二手臂16分别与翼板14的两端相连,并能够分别在第一导轨17和第二导轨18内滑动伸缩,第一手臂15和第二手臂16的用于夹持掩膜板3的夹持端设置有止挡部件,止挡部件用于限制第一手臂15和第二手臂16水平位移的大小,防止第一手臂15和第二手臂16的夹持端与掩膜板3下表面的薄膜31发生干涉。第二夹持机构12与第一夹持机构11对称设置,其结构与第一夹持机构11的结构完全相同,在此不再赘述。
[0071]需要说明的是,由于第一夹持机构11和第二夹持机构12是分别从掩膜板3的左、右两端夹持,在第一夹持机构11中,第一手臂15和第二手臂16的夹持端是指第一手臂15和第二手臂16的左端,在第二夹持机构12中,第一手臂15和第二手臂16的夹持端是指第一手臂15和第二手臂16的右端。
[0072]利用翼板实现第一手臂和第二手臂的同步驱动,使得定位更为精确。
[0073]驱动装置13与翼板14相连,用于驱动翼板水平移动,并同时带动第一手臂15和第二手臂16分别在第一导轨17和第二导轨18内滑动,以使所述止挡部件抵靠住掩膜板3的侧面。
[0074]由于齿轮和齿条驱动方式定位精确、可控性强,优选的,驱动装置13可以选用齿轮和齿条驱动装置(Rack&Pin1n)。
[0075]在本发明实施例中,采用手动方式驱动驱动装置13,即采用手动摇杆驱动驱动装置13带动翼板14水平运动,从而同时带动第一手臂15和第二手臂16同时水平伸缩。
[0076]由于石英载体33凸出于图案化的掩膜板本体32,且夹具I是在掩膜板的两侧水平夹持掩膜板3,因此,夹具I的第一加持机构11和第二夹持机构12夹持的是石英载体33的两侦U,当夹具I悬空夹持掩膜板3时,夹具I不会与薄膜31碰撞,避免损坏薄膜31。而且薄膜保护装置2设置在夹具I的下方,当进行掩膜板清洗时,薄膜保护装置2与夹具I之间也不会产生干扰。
[0077]结合图4和图5所示,止挡部件包括第一挡板191和第二挡板192,第一挡板191和第二挡板192垂直设置在第一手臂15和第二手臂16的上表面,且第一挡板191邻近第一手臂15和第二手臂16的夹持端的端部。
[0078]第一挡板191的高度小于第二挡板192的高度,第一挡板191的弹性大于192第二挡板的弹性,这样,可以防止掩膜板在夹具上水平滑动,使得夹具吃力更紧,提高夹持的稳定性。
[0079]由于整张掩膜板3的体积和重量较大,而且夹具I悬空夹持掩膜板3,在重力作用下,会出现掩膜板3的中心位置低、四周位置高的情况,为了保证薄膜保护装置2能够与掩膜板的下表面完全贴合、连接,进一步的,在第一手臂15和第二手臂16的夹持端还设置有用于支撑掩膜板3的垫块,垫块设置在第一手臂15和第二手臂16的上表面,并分别位于第一手臂15的加持端的端部与第一挡板191之间,以及第二手臂16的夹持端的端部与第一挡板191之间。
[0080]通过设置垫块,将掩膜板的四个角的位置垫高,保证整个掩膜板的水平度,从而保证腔体的开口能够与掩膜板的下表面完全贴合并连接。
[0081] 优选的,所述垫块为两块,包括第一垫块101和第二垫块102,101第一垫块邻近第一手臂15和第二手臂16的夹持端的端部。
[0082]优选的,第一垫块101的高度大于第二垫块102的高度,且第一垫块101的弹性小于第二垫块103的弹性,这样,保持掩膜板水平度的效果更优。
[0083]进一步的,如图1所示,所述掩膜板清洗系统还可以包括冲洗装置4,冲洗装置4设置在夹具I的上方,且冲洗装置4的位置在水平方向上能够调节,用于向掩膜板3喷洒冲洗液。
[0084]在薄膜保护装置2的下方的两侧,与冲洗装置4的位置调节方向同向设置有导流槽6,冲洗液可以从掩膜板3的上表面流向导流槽6,以便后续统一集中处理。
[0085] 冲洗装置4由一根直通的水管及若干喷头组成,冲洗压力可通过水管上的阀门进行调整。冲洗液可根据实际情况自行调配,通常使用去离子水。
[0086]冲洗装置4的位置可以在垂直于夹具夹持方向的水平方向上进行调节,即按照图1箭头方向调节,在本发明实施例中,采用手动方式调节冲洗装置4的位置。
[0087]通过在掩膜板上方设置位置可调的冲洗装置,向掩膜板喷洒冲洗液,可以避免当前人工用无尘布擦拭掩膜板上表面导致的不同程度的擦拭痕迹的问题。
[0088]为了节省工序、省时省力,可以利用所述掩膜板清洗系统将风干工序与清洁工序一并完成,因此,如图1所示,所述掩膜板清洗系统还可以包括风干装置5,风干装置5设置于冲洗装置4的上方,用于竖直向下吹风,从而在清洗完掩膜板3后,对掩膜板3进行风干。
[0089]具体的,风干装置5由“门”字形风帘、吹风机以及过滤器通道组成,过滤器通道起疏导吹风量的作用,使风均匀从风帘处输出,以达到均匀风干下方的掩膜板的效果。
[0090]冲洗装置4和风干装置5可以选用现有的装置实现。
[0091]优选的,风干装置4还可以包括多个用于去除静电的金属针头41,金属针头41设置于风干装置4的出风口处,并向不同方向排布,当静电开关打开时,金属针头41能够产生正负离子,去除掩膜板表面的静电。
[0092]本发明实施例的掩膜板清洗系统的使用过程如下:
[0093]利用搬运车将掩膜板3运送到掩膜板清洗系统的位置,使用手摇夹具I水平夹持掩膜板的石英载体的两侧后,将搬运车与掩膜板分离,掩膜板3被水平悬空夹持在夹具I上。手动控制升降机构25上升直至腔体22罩住薄膜31并与掩膜板3的下表面接触,然后控制真空连接机构21抽真空,从而将薄膜31与外界隔离。开启冲洗装置4向掩膜板喷洒冲洗液,冲洗完成后再开启风干装置5对掩膜板进行风干,之后打开静电开关,进行去静电处理。最后,手动切换CDA/Vacuum阀门,用以向凹槽23内送气,驱动薄膜保护装置2与掩膜板分离。将搬运车推送到掩膜板清洗系统的位置后,手动控制夹具I从掩膜板上撤离,将掩膜板防止到搬运车上运动到下一工序,至此掩膜板清洗、风干工序完成。
[0094]所述掩膜板清洗系统可手动升降薄膜保护装置,解决了配备薄膜的掩膜板水洗时,下方的薄膜容易沾水污染甚至损坏的问题。腔体的开口正好与掩膜板的下表面的周边贴合,其内部的沟槽与真空连接机构可保证顺畅连接和分离。
[0095]悬空夹持掩膜板的夹具保证了掩膜板与搬运车的安全分离,也保护了掩膜板下部的薄膜,防止被夹具撞伤,同时该夹具采用齿轮和齿条驱动方式,定位精确,可控性强。
[0096]对掩膜板上表面与侧面的交界处进行了切边处理生成倒角,并对掩膜板的石英载体的表面进行了特殊处理,既保证了掩膜板在水洗时冲洗液的顺利排流,也防止了冲洗液流到掩膜板的下表面污染薄膜。
[0097]通过水洗方式清洗掩膜板,可规避当前人为无尘布擦拭造成的擦拭痕迹问题。所述掩膜板清洗系统集半自动清洗和除静电于一体,在掩膜板做定期清洁维护时相比现有人为清洁手法省时省力。
[0098]可以理解的是,以上实施方式仅仅是为了说明本发明的原理而采用的示例性实施方式,然而本发明并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言,在不脱离本发明的精神和实质的情况下,可以做出各种变型和改进,这些变型和改进也视为本发明的保护范围。

Claims (16)

1.一种掩膜板清洗系统,其特征在于,包括:夹具和薄膜保护装置,所述夹具用于水平悬空夹持掩膜板; 所述薄膜保护装置设置在所述夹具的下方,用于遮挡设置在掩膜板下表面的薄膜,并与薄膜四周的掩膜板的下表面连接,以防止用于冲洗掩膜板的冲洗液污染所述薄膜。
2.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述薄膜保护装置包括真空连接机构和腔体,所述腔体内部中空且开口向上,所述腔体的开口处沿所述开口设置有开口向上的凹槽; 所述真空连接机构与所述凹槽相连,用于在所述凹槽内形成真空,并借助真空将所述腔体的开口与薄膜四周的掩膜板的下表面贴合并连接。
3.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述凹槽内设置有多个真空孔; 所述真空连接机构包括:气体总管、配气盘和多个气体支管,所述气体支管与所述真空孔一一对应且相连,配气盘设置于所述腔体的底部,与所述气体总管和气体支管相连。
4.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述凹槽内设置有密封胶。
5.如权利要求2所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述薄膜保护装置还包括升降机构,所述升降机构用于竖直升降所述腔体和真空连接机构。
6.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述掩膜板包括石英载体和图案化的掩膜板本体,所述掩膜板本体位于所述石英载体的下表面,所述薄膜覆盖所述掩膜板本体; 所述石英载体的上表面和侧面的交界处设置有倒角。
7.如权利要求6所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述倒角为30-60度。
8.如权利要求6所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述石英载体的上表面和所述倒角的表面采用亲水性处理;和/或,所述石英载体的侧面采用疏水性处理。
9.如权利要求1所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述夹具包括第一夹持机构和第二夹持机构,第一夹持机构和第二夹持机构分别从所述掩膜板的两侧夹持并固定所述掩膜板; 所述第一夹持机构和第二夹持机构包括:驱动装置以及水平设置的翼板、第一手臂、第二手臂、第一导轨和第二导轨,所述第一手臂与第二手臂分别与所述翼板的两端相连,并能够分别在第一导轨和第二导轨内滑动伸缩;所述第一手臂和第二手臂的用于夹持所述掩膜板的夹持端设置有用于限制所述第一手臂和第二手臂水平位移大小的止挡部件; 所述驱动装置与所述翼板相连,用于驱动所述翼板水平移动,并同时带动所述第一手臂和第二手臂分别在第一导轨和第二导轨内滑动,以使所述止挡部件抵靠住所述掩膜板的侧面。
10.如权利要求9所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述驱动装置为齿轮齿条驱动 目.ο
11.如权利要求9所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述止挡部件包括第一挡板和第二挡板,第一挡板和第二挡板垂直设置在所述第一手臂和第二手臂的上表面,且第一挡板邻近所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部; 所述第一挡板的高度小于所述第二挡板的高度,所述第一挡板的弹性大于所述第二挡板的弹性。
12.如权利要求11所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述第一手臂和第二手臂的用于夹持所述掩膜板的夹持端还设置有用于支撑所述掩膜板的垫块,所述垫块位于所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部与所述第一挡板之间。
13.如权利要求11所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述垫块为两块,包括第一垫块和第二垫块,所述第一垫块邻近所述第一手臂和第二手臂的夹持端的端部; 所述第一垫块的高度大于所述第二垫块的高度,所述第一垫块的弹性小于所述第二垫块的弹性。
14.如权利要求1-13任一项所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述系统还包括在水平方向上的位置能够调节的冲洗装置,所述冲洗装置设置在所述夹具的上方,用于向所述掩膜板喷洒冲洗液。
15.如权利要求14所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述系统还包括风干装置,所述风干装置设置于所述冲洗装置的上方,用于竖直向下吹风以风干所述掩膜板。
16.如权利要求15所述的掩膜板清洗系统,其特征在于,所述风干装置还包括多个用于去除静电的金属针头,所述金属针头设置于所述风干装置的出风口处,并向不同方向排布。
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