CN105637404A - 投影器用荧光轮和投影器用发光器件 - Google Patents

投影器用荧光轮和投影器用发光器件 Download PDF

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安东民雄
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Abstract

本发明的目的在于提供一种能够抑制荧光体层被加热的投影器用荧光轮和使用其的投影器用发光器件。该投影器用荧光轮的特征在于，包括：荧光体层(12)；环状的陶瓷基板(11)，具有设置荧光体层(12)的第一主面和位于与第一主面相反侧的第二主面，且具有比荧光体层(12)高的热导率；和反射层(13)，设置在陶瓷基板(11)的第二主面上。

Description

投影器用荧光轮和投影器用发光器件
技术领域
本发明涉及投影器用荧光轮和投影器用发光器件。
背景技术
近年来，为了使投影器小型化，提案有使用LED(LightEmittingDiode：发光二极管)和荧光体的发光器件。例如，专利文献1公开的是使用如下发光器件的投影器，该发光器件具备发紫外光的光源和将来自光源的紫外光转变为可见光的荧光体层。在专利文献1中，记载了通过在环状的能够旋转的透明基板之上设置环状荧光体层而制作出的荧光轮。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开2004－341105号公报
发明内容
发明所要解决的课题
可是，在使用高输出功率的光源作为光源的情况下，荧光体由于激发光的照射而发热，荧光体层被加热。当荧光体层被加热时，就会产生荧光强度下降，或者荧光体层从基板剥离之类的问题。
本发明的目的在于，提供一种能够抑制荧光体层被加热的投影器用荧光轮和使用其的投影器用发光器件。
用于解决课题的方案
本发明的投影器用荧光轮的特征在于，包括：荧光体层；环状的陶瓷基板，具有设置荧光体层的第一主面和位于与第一主面相反侧的第二主面，且具有比荧光体层高的热导率；和反射层，设置在陶瓷基板的第二主面上。
反射层优选为金属反射层或反射玻璃层。
荧光体层优选通过焊接安装于陶瓷基板。
荧光体层优选通过无机接合层安装于陶瓷基板。
反射层优选为金属反射基板。在那种情况下，金属反射基板优选为铝基板。
也可以在第二主面的区域内设置导热层。在这种情况下，在导热层之上设置反射层。
导热层优选由导热性糊剂形成。作为导热性糊剂，可列举含有金属颗粒的糊剂。
本发明的投影器用荧光轮也可以还具备设置于荧光体层和陶瓷基板之间的散射层。散射层含有无机颗粒，该无机颗粒由选自Al、Nb、Ta、La、Zr、Ce、Ga、Mg、Si和Zn中的至少一种的氧化物或氮化物构成。
荧光体层优选含有玻璃基质和分散在玻璃基质中的荧光体。
散射层优选含有玻璃基质和分散在玻璃基质中的无机颗粒。
荧光体层的玻璃基质和散射层的玻璃基质优选实质上为相同的玻璃。
荧光体层也可以沿周向被分割为多个区域，在多个区域内含有种类互不相同的荧光体。
本发明的投影器用发光器件的特征在于，包括：上述本发明的投影器用荧光轮和向荧光轮的荧光体层照射激发光的光源。
发明的效果
根据本发明，能够抑制投影器用荧光轮的荧光体层被加热。
附图说明
图1是表示本发明第一实施方式的投影器用荧光轮的立体图；
图2是沿着图1所示的A－A线的示意剖面图；
图3是放大表示本发明第一实施方式的投影器用荧光轮的荧光体层的附近的示意局部剖面图；
图4是表示在本发明第一实施方式的投影器用荧光轮中使用金属反射基板作为反射层的情况的一例的示意剖面图；
图5是图4所示的投影器用荧光轮的示意俯视图；
图6是表示在本发明第一实施方式的投影器用荧光轮中使用金属反射基板作为反射层的情况的另一例的示意剖面图；
图7是表示本发明第二实施方式的投影器用荧光轮的示意剖面图；
图8是放大表示本发明第三实施方式的投影器用荧光轮的荧光体层的附近的示意局部剖面图；
图9是表示使用本发明第一实施方式的投影器用荧光轮的投影器用发光器件的示意侧视图；
图10是表示本发明第四实施方式的投影器用荧光轮的立体图。
具体实施方式
下面，对优选的实施方式进行说明。但是，以下实施方式仅为例示，本发明不局限于以下实施方式。另外，在各附图中，实质上具有相同功能的部件有时用相同的符号进行参照。
图1是表示本发明第一实施方式的投影器用荧光轮的立体图。图2是沿着图1所示的A－A线的示意剖面图。图3是放大表示本发明第一实施方式的投影器用荧光轮的荧光体层的附近的示意局部剖面图。如图1～图3所示，荧光轮10具有环状的形状。荧光轮10具备：荧光体层12、具有设置荧光体层12的第一主面11a和位于与第一主面11a相反侧的第二主面11b的环状的陶瓷基板11、和设置在陶瓷基板11的第二主面11b上的反射层13。陶瓷基板11具有比荧光体层12高的热导率。
在本实施方式中，荧光体层12由玻璃基质15和分散在其中的荧光体14构成。在本实施方式中，作为荧光体14，使用无机荧光体的颗粒。
玻璃基质15只要能够用作无机荧光体等荧光体14的分散介质，就没有特别限定。例如，可使用硼硅酸盐类玻璃、磷酸盐类玻璃等。玻璃基质15的软化点优选为250℃～1000℃，更优选为300℃～850℃。
荧光体14只要是通过入射激发光而射出荧光的荧光体，就没有特别限定。作为荧光体14的具体例，例如可以列举选自氧化物荧光体、氮化物荧光体、氮氧化物荧光体、氯化物荧光体、酰氯化物荧光体、硫化物荧光体、氧硫化物荧光体、卤化物荧光体、硫属化物荧光体、铝酸盐荧光体、卤磷酸盐化物荧光体、石榴石系化合物荧光体中的一种以上等。在使用蓝色光作为激发光的情况下，例如可使用作为荧光射出绿色光、黄色光或红色光的荧光体。
荧光体14的平均粒径优选为1μm～50μm，更优选为5μm～25μm。当荧光体14的平均粒径过小时，有时发光强度会下降。另一方面，当荧光体14的平均粒径过大时，有时发光颜色会不均一。
荧光体层12中的荧光体14的含量优选在5～80体积％的范围内，更优选在10～75体积％的范围内，进一步优选在20～70体积％的范围内。
荧光体层12的厚度在激发光可靠地被荧光体14吸收那样的厚度的范围内越薄越好。这是因为当荧光体层12过厚时，有时会导致荧光体层12的光的散射或吸收过大，荧光的出射效率降低。具体而言，荧光体层12的厚度优选为1mm以下，更优选为0.5mm以下，进一步优选为0.3mm以下。荧光体层12的厚度的下限值通常为0.03mm左右。
荧光体层12设置在陶瓷基板11的第一主面11a上。如上所述，陶瓷基板11具有比荧光体层12更高的热导率。作为陶瓷基板11，可使用高导热性陶瓷。作为高导热性陶瓷，可以列举：氧化铝系陶瓷、氮化铝系陶瓷、碳化硅系陶瓷、氮化硼系陶瓷、氧化镁系陶瓷、氧化钛系陶瓷、氧化铌系陶瓷、氧化锌系陶瓷、氧化钇系陶瓷等。
陶瓷基板11的厚度优选为50μm～1000μm，更优选为100μm～800μm，进一步优选为200μm～500μm。当陶瓷基板11的厚度过大时荧光容易向陶瓷基板11内部的宽度方向传播而泄露到外部。另一方面，当陶瓷基板11的厚度过小时，机械强度下降，在作为轮进行旋转时，有可能会产生损坏。
荧光体层12优选通过焊接而安装于陶瓷基板11。作为焊接的方法，可以列举通过将荧光体层12叠层在陶瓷基板11的第一主面11a上并加热压接，而使荧光体层12的玻璃基质15与陶瓷基板11焊接的方法。另外，也可以利用无机接合层将荧光体层12安装于陶瓷基板11。具体而言，可以列举在陶瓷基板11的第一主面11a上涂布利用溶胶凝胶法制成的透明无机材料，在其上叠层荧光体层12并进行加热的方法。作为利用溶胶凝胶法制成的透明无机材料，可以列举聚硅氮烷等。聚硅氮烷通过与空气中的水分发生反应而产生氨并进行缩合，形成SiO2的被膜。这样，作为透明无机材料，可使用在比较低的温度(室温～200℃)形成无机质的玻璃膜的涂层剂。除此以外，还可使用含有醇溶性有机硅化合物和/或其他金属化合物(有机或无机)、且在催化剂的存在下以比较低的温度形成与玻璃同样的SiO2网状物的涂层剂。该涂层剂在使用金属醇盐作为有机金属化合物且使用醇作为催化剂的情况下，可促进水解和脱水反应，其结果是，形成SiO2网状物。
通过利用焊接或无机接合层将荧光体层12安装于陶瓷基板11，能够进一步提高从荧光体层12向陶瓷基板11的导热性。
在陶瓷基板11的第二主面11b之上设置有反射层13。通过设置反射层13，能够使透过陶瓷基板11的激发光和荧光向陶瓷基板11侧反射。
作为反射层13，可以列举金属反射层或反射玻璃层。
作为金属反射层，可以列举银或铝的薄膜。作为金属薄膜的形成方法，可以列举镀敷法、或者作为物理气相沉积法的真空蒸镀法、离子镀法、溅射法等。另外，通过在陶瓷基板11的第二主面11b上涂布银粘土糊剂并进行加热，能够形成银的薄膜。
作为金属反射层，也可以使用由金属或合金形成的金属反射基板。这种金属反射基板也可以实施有表面处理。作为金属反射基板，优选反射率高的金属反射基板，优选使用铝基板。作为铝基板，例如可以列举在表面形成有由金属氧化物等构成的增反射膜的铝基板。作为这种铝基板，可以列举Alanod公司制的Miro(注册商标)和Miro－Silver(注册商标)等。
此外，通过设置金属反射层作为反射层13，能够使从荧光体层12向陶瓷基板11传递的热量进一步传递到反射层13，能够更高效地向外部散发热量。
反射玻璃层由例如玻璃基质和分散在其中的无机颗粒构成。作为无机颗粒，优选具有不同于玻璃基质的折射率，通常优选具有比玻璃基质高的折射率的无机颗粒。具体而言，无机颗粒优选为选自Al、Nb、Ti、Ta、La、Zr、Ce、Ga、Mg、Si、B和Zn中的至少一种的氧化物或氮化物。作为无机颗粒的优选的具体例，可以列举：氧化铝、氧化铌、氧化钛、氧化钽、氧化镧、氧化锆、氧化铈、氧化镓、氧化镁、氧化硅、氧化锌、氮化铝、氮化硅、氮化硼等。作为无机颗粒，特别优选使用氧化铝。作为玻璃基质，例如可使用在对荧光体层12的玻璃基质15的上述说明中列举的玻璃基质。
无机颗粒的平均粒径优选在0.1μm～30μm的范围内，更优选在0.5μm～10μm的范围内。当无机颗粒的平均粒径过小时，有时难以得到充分的反射率。另一方面，当无机颗粒的平均粒径过大时，每单位体积中能够存在的颗粒数就会减少，有时难以得到充分的反射率。
反射玻璃层中的无机颗粒的含量优选为5～90体积％的范围内，更优选为20～85体积％的范围内，进一步优选为30～80体积％的范围内。当无机颗粒的含量过多时，粘结无机颗粒彼此的玻璃的量就会变少，有时会在使用中发尘，或者反射玻璃层的强度下降。另一方面，当无机颗粒的含量过少时，难以得到充分的反射率。
在反射玻璃层的内部优选形成有空隙。通过形成空隙，能够进一步提高反射玻璃层的反射率。因为空隙的空气的折射率小至1.0，所以能够增大与反射玻璃层中的玻璃基质(例如，折射率1.4～1.8左右)或无机颗粒(例如，折射率1.4～2.2左右)的折射率差，能够得到更大的反射率。空隙率优选为20～80％，更优选为30～70％。当空隙率过小时，难以得到反射率提高效果。另一方面，当空隙率过大时，与陶瓷基板11的接合强度就容易下降。
反射层13的厚度优选在0.01μm～2000μm的范围内，更优选在0.1μm～1500μm的范围内，进一步优选在1μm～1000μm的范围内。此外，在反射层13为反射玻璃层的情况下，厚度优选在10μm～2000μm的范围内，更优选在50μm～1500μm的范围内，进一步优选在100μm～1000μm的范围内。当反射层13的厚度过小时，荧光透过，而难以得到充分的反射率。当反射层13的厚度过大时，荧光轮10的重量就会变大，有可能因旋转时的振动而损坏。另外，在反射层13为反射玻璃层的情况下，容易使光在反射玻璃层内部传播而从反射玻璃层的端面漏出，有时发光强度会下降。
反射层13可通过例如在陶瓷基板11的第二主面11b之上形成反射层13，而安装于陶瓷基板11。另外，也可以用接合材料将另外制作的反射层13(例如，金属反射基板等)安装于陶瓷基板11。接合材料优选为透明。但是，接合材料不局限于透明，也可使用不透明的接合材料。在此，“透明”是使入射到荧光体层12的激发光和从荧光体层12射出的荧光透过的意思。作为这种透明的接合材料的具体例，可以列举有机硅树脂和聚酰亚胺树脂。
作为有机硅树脂，可使用通常的具有硅氧烷键的有机硅树脂，可特别优选使用耐热性高的倍半硅氧烷。倍半硅氧烷是主链骨架包含Si－O－Si键的硅氧烷系化合物，且为具有通过水解三官能团硅烷而得到的(RSiO1.5)n结构的网络型聚合物或多面体团簇。
作为聚酰亚胺树脂，可使用所谓的透明聚酰亚胺树脂，作为透明聚酰亚胺树脂，可使用许多由树脂制造商销售的产品。
另外，在使用金属反射基板作为反射层13的情况下，也可以将设有荧光体层12的陶瓷基板11和金属反射基板分别安装于使荧光轮10旋转的电动机的旋转轴，使陶瓷基板11和金属反射基板物理性地接触。
在使用金属反射基板作为反射层13的情况下，如图4所示，也可以通过利用螺钉等限制部件23将陶瓷基板11和金属反射基板接合而使其物理性地接触。此时，也可以在陶瓷基板11和金属反射基板形成贯通孔25以后，将螺钉插入该贯通孔25。
图5是从陶瓷基板11侧观察荧光轮10所得到的示意俯视图。在图5中，限制部件23在荧光轮10的荧光体层12的内侧沿周向等间隔地设置有四处，但限制部件23的数量也可以根据需要而变更。但是，为了牢固地固定陶瓷基板11和金属反射基板，优选在荧光轮10中设置多处限制部件23。另外，当限制部件23过多时，荧光轮10的质量就会过大，在使用时容易损坏。因此，限制部件23的数量优选为2～8，更优选为3～6。
限制部件不局限于螺钉。例如，如图6所示，也可以以利用夹子状的限制部件24夹持荧光轮10的方式将金属反射基板固定于陶瓷基板11。
图7是表示本发明第二实施方式的投影器用荧光轮的示意剖面图。在本实施方式中，在陶瓷基板11的第二主面11b设有导热层16。因此，在导热层16之上设有反射层13，导热层16介于陶瓷基板11与反射层13之间。通过导热层16介于陶瓷基板11与反射层13之间，能够使从荧光体层12向陶瓷基板11传递的热量更有效地传递到反射层13。
在本实施方式中，在第二主面11b的整个面设有导热层16，但在导热层16着色等的情况下，也可以仅在与在陶瓷基板11的第一主面11a中未设置荧光体层12的区域对应的第二主面11b的区域设置导热层16。
导热层16可由例如导热性糊剂形成。作为导热性糊剂，可以列举含有导热性颗粒的糊剂。导热性颗粒既可以是银或铝等金属颗粒，也可以是导热性陶瓷颗粒。
导热层16的厚度优选在1μm～100μm的范围内，更优选在3μm～80μm的范围内，进一步优选在5μm～50μm的范围内。当导热层16的厚度过薄时，陶瓷基板11与反射层13的粘接力就容易下降。当导热层16的厚度过厚时，从陶瓷基板11向反射层13的导热性容易下降。
图8是放大表示本发明第三实施方式的投影器用荧光轮的荧光体层的附近的示意局部剖面图。如图8所示，在本实施方式中，在荧光体层12和陶瓷基板11之间设有散射层17。在本实施方式中，散射层17由玻璃基质19和分散在其中的无机颗粒18构成。散射层17是使入射来的激发光和荧光进行散射的层。因此，作为无机颗粒18，优选使用具有不同于玻璃基质19的折射率的无机颗粒。在本发明中，无机颗粒18由选自Al、Nb、Ta、La、Zr、Ce、Ga、Mg、Si、B和Zn中的至少一种的氧化物或氮化物构成。作为无机颗粒18的优选的具体例，可以列举：氧化铝、氧化铌、氧化钽、氧化镧、氧化锆、氧化铈、氧化镓、氧化镁、氧化硅、氧化锌、氮化铝、氮化硅、氮化硼等。作为无机颗粒18，特别优选使用氧化铝。
作为玻璃基质19，例如可使用在对荧光体层12的玻璃基质15的上述说明中列举的玻璃基质。玻璃基质19优选实质上与荧光体层12的玻璃基质15相同。通过荧光体层12的玻璃基质15和散射层17的玻璃基质19由实质上相同的玻璃形成，容易从荧光体层12向散射层17高效地入射荧光。另外，不易产生因荧光体层12和散射层17的热膨胀系数差引起的剥离。
无机颗粒18的平均粒径优选在0.3μm～50μm的范围内，更优选在0.5μm～30μm的范围内。当无机颗粒18的平均粒径过小时，难以利用瑞利散射的波长依赖性而得到充分的散射效果。另一方面，当无机颗粒18的平均粒径过大时，每单位体积中能够存在的颗粒数就会变少，难以得到充分的散射效果。
散射层17中的无机颗粒18的含量优选在5～80体积％的范围内，更优选在10～70体积％的范围内，进一步优选在20～60体积％的范围内。当无机颗粒18的含量过多时，与荧光体层12的接合强度就容易下降。另一方面，当无机颗粒18的含量过少时，难以得到充分的散射效果。
散射层17的厚度优选在10μm～500μm的范围内，更优选在50μm～400μm的范围内，进一步优选在80μm～300μm的范围内。当散射层17的厚度过厚时，容易使光在散射层17的内部传播而从散射层17的端面漏出。作为结果，发光强度容易下降。另一方面，当散射层17的厚度过薄时，难以得到充分的散射效果。
在本实施方式中，在陶瓷基板11和荧光体层12之间设有散射层17。通过设置散射层17，能够使从荧光体层12射出的荧光或透过荧光体层12的激发光在散射层17散射。因此，能够提高发光效率，由此，能够提高发光强度。
另外，优选在散射层17的内部形成有空隙。通过形成空隙，能够进一步提高散射层17的散射效果。因为空隙的空气的折射率小至1.0，所以能够增大与玻璃基质19的折射率差，能够得到更大的散射效果。空隙率优选为20～60％，更优选为30～50％。
荧光体层12和散射层17例如可通过以下方法来制作。
通过利用刮刀法等将含有成为荧光体层12的玻璃基质的玻璃颗粒、荧光体和粘合剂树脂或溶剂等有机成分的浆料涂布在聚对苯二甲酸乙二醇酯等的树脂膜上，然后进行加热干燥，来制作荧光体层12用的生片。
同样，通过利用刮刀法等将含有成为散射层17的玻璃基质的玻璃颗粒、无机颗粒、粘合剂树脂或溶剂等有机成分的浆料涂布在聚对苯二甲酸乙二醇酯等的树脂膜上，然后进行加热干燥，来制作散射层17用的生片。
通过将所得到的荧光体层12用的生片和散射层17用的生片重叠，并烧制重叠在一起的这些生片，能够形成荧光体层12和散射层17的叠层体。
所得到的叠层体能够如上述那样通过焊接或无机接合层而安装于陶瓷基板11。
荧光体层12和散射层17的叠层体不局限于上述的制作方法，例如，也可以在荧光体层12用的生片之上涂布散射层17形成用浆料，或者在散射层17用的生片之上涂布荧光体层12形成用浆料进行制作。
图9是表示使用本发明第一实施方式的投影器用荧光轮的投影器用发光器件的示意侧视图。本实施方式的投影器用发光器件30具备荧光轮10、光源20和用于使荧光轮10旋转的电动机21。环状的荧光轮10安装于电动机21的旋转轴22，使其以旋转轴22的中心轴C为旋转中心沿周向旋转。在本实施方式中，将由金属反射基板构成的反射层13和设有荧光体层12的陶瓷基板11分别安装于电动机21的旋转轴22，使陶瓷基板11和反射层13物理性地接触。
从光源20射出的激发光1向荧光轮10的荧光体层12入射。入射到荧光体层12的激发光1激发荧光体14，从荧光体14射出荧光2。射出到陶瓷基板11侧的荧光2在陶瓷基板11的表面反射，并且其一部分透过陶瓷基板11。透过了陶瓷基板11的荧光2在反射层13的表面反射，穿过陶瓷基板11，射出到荧光体层12侧。
作为光源20的具体例，可以列举LED光源和激光光源等。在使用发出蓝色光作为激发光的光源作为光源20的情况下，例如，作为荧光体层12的荧光体，可使用由蓝色光激发而发出黄色光、绿色光或红色光的荧光体。从荧光体层12射出的光根据需要可通过滤光片而仅取出具有所期望的波长的光。也可以将环状的滤光片安装于旋转轴22，使其与荧光轮10同步旋转，来过滤出射光。
在本实施方式中，荧光轮10沿周向旋转。如上所述，从荧光体传导到陶瓷基板11和反射层13(金属反射基板)的热量从陶瓷基板11和反射层13向外部散发。通过荧光轮10沿周向旋转，进一步促进热量从陶瓷基板11和反射层13向外部散发。
在此，以使用第一实施方式的投影器用荧光轮的投影器用发光器件为例进行说明，但第二实施方式和第三实施方式的投影器用荧光轮也同样可用于投影器用发光器件。
在上述实施方式的荧光轮10中，遍及荧光体层12的整个面含有同一种类的荧光体。但是，本发明不局限于这种方式。也可以如以下说明的实施方式那样，荧光体层12沿周向被分割为多个区域，在各区域含有种类互不相同的荧光体。
图10是表示本发明第四实施方式的投影器用荧光轮的立体图。图10所示的荧光轮10具有两组第一区域12a、第二区域12b和第三区域12c。如图10所示，这些区域分割设置于周向。可使这些区域与例如发出红色、绿色或蓝色的光作为荧光的区域对应，将荧光轮10制成彩色轮使用。在这种情况下，也能够通过设置陶瓷基板11，抑制荧光体层12被加热。此外，也可以将第一区域12a、第二区域12b和第三区域12c中的任一个设为不设置荧光体层12的区域。
符号说明
1…激发光
2…荧光
10…荧光轮
11…陶瓷基板
11a…第一主面
11b…第二主面
12…荧光体层
12a…第一区域
12b…第二区域
12c…第三区域
13…反射层
14…荧光体
15…玻璃基质
16…导热层
17…散射层
18…无机颗粒
19…玻璃基质
20…光源
21…电动机
22…旋转轴
23…限制部件
24…限制部件
25…贯通孔
30…投影器用发光器件

Claims (15)

1.一种投影器用荧光轮，其特征在于，包括：
荧光体层；
环状的陶瓷基板，其具有设置所述荧光体层的第一主面和位于与所述第一主面相反侧的第二主面，且具有比所述荧光体层高的热导率；和
反射层，其设置在所述陶瓷基板的所述第二主面上。
2.如权利要求1所述的投影器用荧光轮，其特征在于：
所述反射层为金属反射层或反射玻璃层。
3.如权利要求1或2所述的投影器用荧光轮，其特征在于：
所述荧光体层通过焊接安装于所述陶瓷基板。
4.如权利要求1或2所述的投影器用荧光轮，其特征在于：
所述荧光体层通过无机接合层安装于所述陶瓷基板。
5.如权利要求1～4中任一项所述的投影器用荧光轮，其特征在于：所述反射层为金属反射基板。
6.如权利要求5所述的投影器用荧光轮，其特征在于：
所述金属反射基板为铝基板。
7.如权利要求1～6中任一项所述的投影器用荧光轮，其特征在于：在所述第二主面设有导热层，在所述导热层之上设有所述反射层。
8.如权利要求7所述的投影器用荧光轮，其特征在于：
所述导热层由导热性糊剂形成。
9.如权利要求8所述的投影器用荧光轮，其特征在于：
所述导热性糊剂为含有金属颗粒的糊剂。
10.如权利要求1～9中任一项所述的投影器用荧光轮，其特征在于：
还具备设置于所述荧光体层与所述陶瓷基板之间的散射层，所述散射层含有无机颗粒，该无机颗粒由选自Al、Nb、Ta、La、Zr、Ce、Ga、Mg、Si和Zn中的至少一种的氧化物或氮化物构成。
11.如权利要求1～10中任一项所述的投影器用荧光轮，其特征在于：所述荧光体层含有玻璃基质和分散在所述玻璃基质中的荧光体。
12.如权利要求1～11中任一项所述的投影器用荧光轮，其特征在于：所述散射层含有玻璃基质和分散在所述玻璃基质中的所述无机颗粒。
13.如权利要求12所述的投影器用荧光轮，其特征在于：
所述荧光体层的玻璃基质和所述散射层的玻璃基质实质上为相同的玻璃。
14.如权利要求1～13中任一项所述的投影器用荧光轮，其特征在于：所述荧光体层沿周向被分割为多个区域，在所述多个区域内含有种类互不相同的荧光体。
15.一种投影器用发光器件，其特征在于，包括：
权利要求1～14中任一项所述的投影器用荧光轮；和
光源，其向所述荧光轮的所述荧光体层照射激发光。
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