CN105170069B - 一种塔式气液接触设备均匀布气装置及其用途 - Google Patents

Abstract

本发明提供了一种塔式气液接触设备均匀布气装置及其用途，所述装置包括圆筒形塔体和设置于塔体底部的2个以上同轴空心圆筒，各空心圆筒以圆筒形塔体的中心轴线为轴，且各空心圆筒的内径和长度均不相等，相邻两个空心圆筒之间留有空隙；各空心圆筒底部设置有倒锥形封闭板，封闭板上设置有排液管；圆筒形塔体的底部设置有布气盘，布气盘上有开孔，布气盘的基体与空心圆筒上端密封连接；每个空心圆筒的筒壁下方设有进气口。该装置可以实现塔体横截面内气泡的均匀分布，气泡的直径均一，并且装置结构简单，容易加工，特别适用于大型布气设备。

Description

一种塔式气液接触设备均匀布气装置及其用途

技术领域

本发明属于化学工程领域，涉及一种塔式气液接触设备均匀布气装置及其用途。

背景技术

化工反应过程常常涉及到塔式气液接触设备，需要实现气泡均匀分散于液相中，这不仅需要单位传质高度内气泡分散相均匀分布，而且需要气泡分散相的直径均一。

关于气固两相反应的均匀布气方法和装置已多有报道，专利CN 10250867A和CN202621144U均提出了一种固体颗粒状物料悬浮流态化反应的均匀布气装置，但是该布气装置不适用于在液体中产生均匀直径的气泡。

专利CN 102728283A和CN 202700473U均提出了一种气固两相反应器均匀布气方法，所述方法为：在料斗的壁板上开设布气口，布气口为狭长开孔，可解决装置内单位传质高度气压分布不均匀的问题，使固体颗粒物料在装置内流态化均匀分散，但是该装置无法在液体中实现气压均匀分布，狭长的布气口开孔容易产生较大直径的气泡，无法在液体中均匀布气。

专利CN 202289881U公开了一种在液体中均匀布气的外压膜过滤器。在装置中，均匀布气的装置是一组曝气管，用于膜过滤过程加强膜表面的扰动，对膜的表面进行擦洗。但是，对于产生气泡均匀程度要求严格的场合，这种布气方式是不适用的。

专利CN 202844893U公开了一种由砂头、气体主流管和气体分流管组成的快速均匀布气装置。这种装置有效提高了单位体积的液体内气泡的分布密度，提高了气液反应的速率，已经被具体应用于石油工业领域，但是将这种布气方式在使用过程中仍然存在问题。原因在于这种设备难以做到气泡在反应器不同高度的横截面上均匀分布，无法实现单位传质高度内气泡分散相的相含率均匀一致。

专利CN 203484063U公开了一种快速均匀布气盘，其布气盘由多层砂网重叠组成，从上到下各层砂网可透气部分的面积逐渐缩小，砂网的孔径为20微米。但是，这种装置也仅适用于气液混合反应的石油工业，并且无法获得直径均一的气泡分散相。

塔式气液接触设备均匀布气的困难主要表现在气体分布盘上不同区域生成气泡的难易程度不同，导致单位传质高度内气泡分散相的相含率无法均匀一致，且生成气泡的直径大小差别相当大。由于设备壁效应的影响，在同一液体深度下，分布盘上方的压力不均匀，导致在相同的进气压力条件下，分布盘上越靠近反应器内壁的局部区域，越容易生成气泡，而远离反应器内壁的局部区域较难生成气泡。加大进气压力或流量，尽管可以使远离反应器内壁的局部区域也产生气泡，但是由于靠近反应器内壁的区域所受液压阻力较小，生成气泡直径过大，导致塔式设备中无法获得均匀直径的气泡。

发明内容

针对现有技术中塔式气液接触设备内气体分布不均匀的问题，本发明提供了一种塔式气液接触设备均匀布气装置，该装置可以实现塔体横截面内气泡的均匀分布，并且气泡的直径均一。

为达此目的，本发明采用以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种塔式气液接触设备均匀布气装置，所述装置包括圆筒形塔体和设置于塔体底部的2个以上同轴空心圆筒，各空心圆筒以圆筒形塔体的中心轴线为轴，且各空心圆筒的内径和长度均不相等，相邻两个空心圆筒之间留有空隙；各空心圆筒底部设置有倒锥形封闭板，封闭板上设置有排液管；圆筒形塔体的底部设置有布气盘，布气盘上有开孔，布气盘的基体与空心圆筒上端密封连接；每个空心圆筒的筒壁下方设有进气口。

其中，所述“均匀布气”是指每单位时间内每单位面积的布气盘表面上生成的气泡个数相等，且布气盘上的每个区域生成的气泡直径大小相同。

所述圆筒形塔体是塔式气液接触设备的圆筒形塔体，各同轴空心圆筒形成互相嵌套的结构形式，空心圆筒的个数为2个或2个以上，例如2个、3个、4个、5个、6个、7个或8个及以上。

所述封闭板保证了圆筒空腔以及各圆环空腔之间相互独立，互不连通；将圆筒空腔以及各圆环空腔底端设置倒锥形的封闭板，有利于塔体内通过圆直管孔道渗漏入空腔内液体的顺利排出。

所述布气盘的基体是具有一定强度的圆平板，所述制备基体平板的材料具有一定的耐酸碱腐蚀的能力，可以选用聚四氟乙烯或各种不锈钢等材料制备。

本发明中，所述空心圆筒的内径沿圆筒形塔体横截面的径向由内向外逐渐增大，即将圆筒形塔体的横截面分割成若干同心圆环。

优选地，所述空心圆筒的上端均与布气盘的基体连接，空心圆筒的长度沿圆筒形塔体横截面的径向由内向外逐渐变短。

优选地，所述空心圆筒的个数为2～100个，例如2个、3个、5个、7个、10个、13个、15个、17个、20个、23个、25个、27个或30个、50个、100个等，进一步优选为3～30个。

本发明中，各空心圆筒底部与倒锥形封闭板密封连接。

优选地，所述空心圆筒中内径最小的空心圆筒与其底部的倒锥形封闭板之间形成中心圆筒空腔；空心圆筒中除内径最小的空心圆筒外的其他空心圆筒与其底部的倒锥形封闭板之间形成同轴圆环空腔。

优选地，所述中心圆筒空腔以及各圆环空腔之间互不连通。

优选地，所述中心圆筒空腔以及各圆环空腔均单独与进气口连通，通过进气口向每个圆环空腔内以及中心圆筒空腔单独供气，保证进入中心圆筒空腔以及每个相互独立圆环空腔的气体的压力均匀可调，通过调节中心圆筒空腔以及每个圆环空腔内的气压和进气流量，可实现塔式气液接触设备内的均匀布气。

本发明中，所述圆筒形塔体的底部水平设置有布气盘。

优选地，所述布气盘的厚度为2～20mm，例如2mm、5mm、7mm、10mm、13mm、15mm、17mm或20mm等，进一步优选为10mm。

优选地，所述布气盘的直径与圆筒形塔体的内径相等，这样可以使布气盘与塔体圆筒内壁紧密配合。

优选地，所述布气盘上的开孔的孔眼的总面积占布气盘基体总面积的5～80％，例如5％、10％、15％、20％、25％、30％、35％、40％、45％、50％、55％、60％、65％、70％、75％或80％等，优选为10～30％，进一步优选为20％。

优选地，所述布气盘上的每个开孔的孔径为0.1～5mm，例如0.1mm、0.5mm、1mm、1.5mm、2mm、2.5mm、3mm、3.5mm、4mm、4.5mm或5mm等，优选为1～4mm，进一步优选为2mm。

本发明中，所述布气盘上的开孔中垂直插入圆直管，圆直管贯穿布气盘的基体并与中心圆筒空腔以及各圆环空腔相连通，通过圆直管内的孔道，气体可以由圆环空腔进入到液体中。

所述圆直管具有耐酸碱的性能，其外壁与布气盘开孔孔眼的内壁紧密配合，密封连接。

优选地，所述圆直管的上端口高于布气盘的上端平面。

优选地，所述圆直管的上端口高于布气盘的上端平面0.1～20mm，例如0.1mm、1mm、2mm、3mm、5mm、7mm、10mm、13mm、15mm、17mm或20mm等，优选为3～10mm，进一步优选为5mm。

优选地，所述圆直管的外壁与布气盘上开孔的孔眼内壁紧密相连，即圆直管的外径与布气盘开孔的孔径相等。

本发明中，每个空心圆筒的筒壁下方设有进气口，这样可以保证进入圆筒空腔以及各圆环空腔的气体压力可调。

优选地，所述空心圆筒中内层空心圆筒的进气口位置低于其相邻外层空心圆筒的进气口位置。

优选地，所述空心圆筒的筒壁上的进气口与进气管相连通。

优选地，所述进气管上设置有气体调节器。

优选地，所述气体调节器包括压力调节阀和流量计。

设置的气体调节阀和流量计可以使进入圆筒空腔以及各圆环空腔的气体压力以及流量单独可调，保证了圆筒空腔以及各圆环空腔内的气体压力与布气盘上方所受到的液体压力匹配，有利于在塔体横截面上，沿塔体径向生成均匀分布的气泡；同时，通过对进入圆筒空腔以及各圆环空腔内气体流量的调节，可以保证气体穿过布气盘后，沿塔体横截面径向生成直径均一的气泡。

本发明中，所述圆环空腔的环带宽度与圆筒形塔体内径的比为1:(3～1000)，例如1:3、1:10、1:30、1:50、1:70、1:100、1:300、1:500、1:700或1:1000等，优选为1:(10～100)，进一步优选为1:10。

优选地，所述中心圆筒空腔的直径与圆筒形塔体内径的比为1:(3～1000)，例如1:3、1:10、1:30、1:50、1:70、1:100、1:300、1:500、1:700或1:1000等，优选为1:(10～100)，进一步优选为1:10。

上述塔式气液接触设备均匀布气装置的运行过程如下：

向圆筒形塔体中装入料液，然后通过调节与圆筒空腔和圆环空腔相连的气体调节器来调节进入装置的气体的压力和流量，气体通过布气盘上的圆直管进入圆筒形塔体后可以获得直径均一稳定的气泡。

第二方面，本发明提供了所述塔式气液接触设备均匀布气装置的用途，其应用于塔式气液接触设备中。

第三方面，本发明提供了所述塔式气液接触设备均匀布气装置的用途，其应用于溶剂萃取、溶剂气浮或溶剂浮选领域，但其用途又不仅限于上述领域，还可以应用于其他化工领域及需要的场所。

与现有技术相比，本发明的具有以下有益效果：

(1)本发明中，圆筒空腔以及各圆环空腔之间相互独立，圆筒空腔以及各圆环空腔内气体的压力是互不影响的，进入圆筒空腔以及各圆环空腔内的气体的压力和流量可通过设置在进气管上的气体调节阀和流量计单独进行调节。通过调节圆筒空腔以及各圆环空腔内的气体压力和流量，可以匹配布气盘开孔均匀布气所需要的气体压力以及开孔孔眼单位时间内生成气泡的个数。

(2)本发明所述的塔式气液接触设备均匀布气装置的布气均匀性高。由于将塔式气液接触设备的底部和布气盘以圆环空腔的形式进行了环形分区，布气盘的开孔率和孔径可以均一布局。通过调整各分区各自对应的圆筒空腔以及各圆环空腔内的气体压力和流量，可以使得气体穿过布气盘的细小圆直管后产生直径相同、数量相同的气泡，具有相同直径的气泡数可达到总气泡数的90％以上，实现塔体内均匀布气。

(3)本发明所述的塔式气液接触设备均匀布气装置运行稳定。在气液接触设备的工作过程中，设置在布气盘下方的圆筒空腔以及各圆环空腔由于内部气体的压力独立并且单独可调，通过调节圆筒空腔以及各圆环空腔内气体的压力，可以匹配布气盘上方液相产生气泡所需要的压力，有效的克服了液相中偏流现象的产生，使设备运行稳定。

(4)本发明所述的均匀布气装置结构简单，容易加工，特别适用于大型布气设备。

附图说明

图1是本发明所述塔式气液接触设备均匀布气装置的结构示意图；

图2是所述塔式气液接触设备均匀布气装置沿塔体横截面的剖视图；

其中，1-圆筒形塔体，2-布气盘，3-空心圆筒，4-排液管，5-气体调节器，6-进气管，7-圆环空腔，8-中心圆筒空腔，9-封闭板，10-圆直管，11-进气口。

具体实施方式

以下结合附图对本发明提出的塔式气液接触设备均匀布气装置进行说明，所列实施例仅用于解释本发明，并不限定本发明提出的方法的使用范围。

本发明提供了一种塔式气液接触设备均匀布气装置，所述装置包括圆筒形塔体1和设置于塔体底部的2个以上同轴空心圆筒3，各空心圆筒3以圆筒形塔体1的中心轴线为轴，且各空心圆筒3的内径和长度均不相等，相邻两个空心圆筒3之间留有空隙；各空心圆筒3底部设置有倒锥形封闭板9，封闭板9上设置有排液管4；圆筒形塔体1的底部设置有布气盘2，布气盘2上有开孔，布气盘2的基体与空心圆筒3上端密封连接；每个空心圆筒3的筒壁下方设有进气口11。

所述空心圆筒3的内径沿圆筒形塔体1横截面的径向由内向外逐渐增大。

所述空心圆筒3的上端均与布气盘的基体连接，空心圆筒3的长度沿圆筒形塔体1横截面的径向由内向外逐渐变短。

各空心圆筒3底部与倒锥形封闭板9密封连接。

所述空心圆筒3中内径最小的空心圆筒3与其底部的倒锥形封闭板9之间形成中心圆筒空腔8；空心圆筒3中除内径最小的空心圆筒3外的其他空心圆筒3与其底部的倒锥形封闭板9之间形成同轴圆环空腔7。

所述中心圆筒空腔8以及各圆环空腔7之间互不连通。

所述中心圆筒空腔8以及各圆环空腔7均单独与进气口11连通。

所述圆筒形塔体1的底部水平设置有布气盘2。

所述布气盘2的厚度为2～20mm。

所述布气盘2的直径与圆筒形塔体1的内径相等。

所述布气盘2上的每个开孔的孔径为0.1～5mm。

所述布气盘2上的开孔的孔眼的总面积占布气盘2基体总面积的5～80％。

所述布气盘2上的开孔中垂直插入圆直管，圆直管贯穿布气盘2的基体并与中心圆筒空腔8以及各圆环空腔7相连通。

所述圆直管的上端口高于布气盘2的上端平面。

所述圆直管的外壁与布气盘2上开孔的孔眼内壁紧密相连。

所述圆直管的上端口高于布气盘2的上端平面0.1～20mm。

每个空心圆筒3的筒壁下方设有进气口11；

所述空心圆筒3中内层空心圆筒3的进气口位置低于其相邻外层空心圆筒3的进气口位置；

所述空心圆筒3的筒壁上的进气口11与进气管相6连通。

所述进气管6上设置有气体调节器5。

所述气体调节器5包括压力调节阀和流量计。

所述圆环空腔7的环带宽度与圆筒形塔体1内径的比为1:(3～1000)。

所述中心圆筒空腔8的直径与圆筒形塔体1内径的比为1:(3～1000)。

实施例1：

如图1所示，本实施例以3个空心圆筒为例，制造一个中试规模的溶剂气浮塔，圆筒形塔体1尺寸为：塔高3000mm，塔径600mm。在圆筒形塔体1下部布置布气盘2，布气盘厚度为10mm，布气盘2上的细小圆直管10的外径与布气盘2开孔的内径尺寸相等为1mm，并且细小圆直管10高出布气盘平面5mm，开孔的孔眼的总面积占布气盘2基体总面积的10％。在圆筒形塔体1底部，布气盘2的下方，设置三个以塔体中心轴线为轴的、内径和长度均不等，且相互嵌套的空心圆筒3，空心圆筒3的直径分别为250mm、450mm和600mm，长度分别为600mm、450mm和250mm。直径最小的空心圆筒3与倒锥形封闭板9构成中心圆筒空腔8，三个空心圆筒3的筒壁缝隙构成2个圆环空腔7，如图2所示。中心圆筒空腔8和圆环空腔7通过进气口11连接进气管6，进气管6上设置有气体调节器5(其包括压力调节阀和流量计)，并且在气体调节器5与中心圆筒空腔8和圆环空腔7之间安装单向阀，以防止装料过程和实验结束时液相向进气管路倒灌。在中心圆筒空腔8和圆环空腔7均通气的前提下，向溶剂气浮塔中装入料液，装塔高度为2500mm。分别调节与圆筒空腔8和圆环空腔7相连的减压阀和质量流量计组合的气体调节器5，气体经过布气盘2上的圆直管10后，可在塔体横截面获得直径2mm的气泡个数占生成的总气泡个数95％以上，并且在塔体的横截面上，气泡个数相同。

实施例2：

如图1所示，本实施例以3个空心圆筒为例，制造一个中试规模的溶剂气浮塔，圆筒形塔体1尺寸：塔高3000mm，塔径600mm。在圆筒形塔体1下部布置布气盘2，布气盘厚度为20mm，布气盘2上的细小圆直管10的外径与开孔的内径尺寸相等为1mm，并且细小圆直管10高出布气盘2的平面5mm，开孔的孔眼的总面积占布气盘2基体总面积的20％。在圆筒形塔体1底部，布气盘2的下方，设置三个以塔体中心轴线为轴的、内径和长度均不等，且相互嵌套的空心圆筒3，空心圆筒3的直径分别为250mm、450mm和600mm，长度分别为600mm、450mm和250mm。直径最小的空心圆筒3与倒锥形封闭板9构成中心圆筒空腔8，三个空心圆筒3的筒壁缝隙构成2个圆环空腔7，如图2所示。中心圆筒空腔8和圆环空腔7通过进气口11连接进气管6，进气管6上设置有气体调节器5(其包括压力调节阀和流量计)，并且在气体调节器5与中心圆筒空腔8和圆环空腔7之间安装单向阀，以防止装料过程和实验结束时液相向进气管路倒灌。在中心圆筒空腔8和圆环空腔7均通气的前提下，向溶剂气浮塔中装入料液，装塔高度为2500mm。分别调节与中心圆筒空腔8和圆环空腔7相连的减压阀和质量流量计组合的气体调节器5，气体经过布气盘2上的圆直管10后，可在塔体横截面获得直径2mm的气泡个数占生成的总气泡个数95％以上，并且在塔体的横截面上，气泡个数相同。

实施例3：

除了采用4个空心圆筒制造一个中试规模的溶剂气浮塔，布气盘厚度为2mm，布气盘2上的细小圆直管10的外径与开孔的内径尺寸相等为2mm，并且细小圆直管10高出布气盘平面3mm，开孔的孔眼的总面积占布气盘2基体总面积的30％外，其他结构均与实施例1中的溶剂气浮塔相同，通过该装置可在塔体横截面上获得直径3mm的气泡个数占生成的总气泡个数95％以上，并且在塔体的横截面上，气泡个数相同。

实施例4：

除了采用2个空心圆筒制造一个中试规模的溶剂气浮塔，布气盘2上的细小圆直管10的外径与开孔的内径尺寸相等为4mm，并且细小圆直管10高出布气盘平面10mm，开孔的孔眼的总面积占布气盘2基体总面积的5％外，其他结构均与实施例1中的溶剂气浮塔相同，通过该装置可在塔体横截面上获得直径6mm的气泡个数占生成的总气泡个数95％以上，并且在塔体的横截面上，气泡个数相同。

实施例5：

除了采用30个空心圆筒制造一个中试规模的溶剂气浮塔，布气盘2上的细小圆直管10的外径与开孔的内径尺寸相等为5mm，并且细小圆直管10高出布气盘平面20mm，开孔的孔眼的总面积占布气盘2基体总面积的80％外，其他结构均与实施例1中的溶剂气浮塔相同，通过该装置可在塔体横截面获得直径7mm的气泡个数占生成的总气泡个数95％以上，并且在塔体的横截面上，气泡个数相同。

实施例6：

除了采用100个空心圆筒制造一个中试规模的溶剂气浮塔，布气盘2上的细小圆直管10的外径与开孔的内径尺寸相等为0.1mm，并且细小圆直管10高出布气盘平面0.1mm，开孔的孔眼的总面积占布气盘2基体总面积的50％外，其他结构均与实施例1中的溶剂气浮塔相同，通过该装置可在塔体横截面获得直径2mm的气泡个数占生成的总气泡个数95％以上，并且在塔体的横截面上，气泡个数相同。

综上所述，本发明中，圆筒空腔以及各圆环空腔之间相互独立，圆筒空腔以及各圆环空腔内气体的压力是互不影响的，进入圆筒空腔以及各圆环空腔内的气体的压力和流量可通过设置在进气管上的气体调节阀和流量计单独进行调节。通过调节圆筒空腔以及各圆环空腔内的气体压力和流量，可以匹配布气盘开孔均匀布气所需要的气体压力以及开孔孔眼单位时间内生成气泡的个数。

本发明所述的塔式气液接触设备均匀布气装置的布气均匀性高。由于将塔式气液接触设备的底部和布气盘以圆环空腔的形式进行了环形分区，布气盘的开孔率和孔径可以均一布局。通过调整各分区各自对应的圆筒空腔以及各圆环空腔内的气体压力和流量，可以使得气体穿过布气盘的细小圆直管后产生直径相同、数量相同的气泡，具有相同直径的气泡数可达到总气泡数的90％以上，实现塔体内均匀布气。

本发明所述的塔式气液接触设备均匀布气装置运行稳定。在气液接触设备的工作过程中，设置在布气盘下方的圆筒空腔以及各圆环空腔由于内部气体的压力独立并且单独可调，通过调节圆筒空腔以及各圆环空腔内气体的压力，可以匹配布气盘上方液相产生气泡所需要的压力，有效的克服了液相中偏流现象的产生，使设备运行稳定。

本发明所述的均匀布气装置结构简单，容易加工，特别适用于大型布气设备。

申请人声明，本发明通过上述实施例来说明本发明的详细工艺设备和工艺流程，但本发明并不局限于上述详细工艺设备和工艺流程，即不意味着本发明必须依赖上述详细工艺设备和工艺流程才能实施。所属技术领域的技术人员应该明了，对本发明的任何改进，对本发明产品各原料的等效替换及辅助成分的添加、具体方式的选择等，均落在本发明的保护范围和公开范围之内。

Claims (31)

1.一种塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述装置包括圆筒形塔体(1)和设置于塔体底部的2个以上同轴空心圆筒(3)，各空心圆筒(3)以圆筒形塔体(1)的中心轴线为轴，且各空心圆筒(3)的内径和长度均不相等，相邻两个空心圆筒(3)之间留有空隙；各空心圆筒(3)底部设置有倒锥形封闭板(9)，封闭板(9)上设置有排液管(4)；圆筒形塔体(1)的底部设置有布气盘(2)，布气盘(2)上有开孔，布气盘(2)的基体与空心圆筒(3)上端密封连接；每个空心圆筒(3)的筒壁下方设有进气口(11)；

所述空心圆筒(3)中内径最小的空心圆筒(3)与其底部的倒锥形封闭板(9)之间形成中心圆筒空腔(8)；空心圆筒(3)中除内径最小的空心圆筒(3)外的其他空心圆筒(3)与其底部的倒锥形封闭板(9)之间形成同轴圆环空腔(7)；

所述中心圆筒空腔(8)以及各圆环空腔(7)之间互不连通；

所述布气盘(2)上的开孔中垂直插入圆直管，圆直管贯穿布气盘(2)的基体并与中心圆筒空腔(8)以及各圆环空腔(7)相连通；

所述空心圆筒(3)的筒壁上的进气口(11)与进气管相(6)连通；所述进气管(6)上设置有气体调节器(5)；所述气体调节器(5)包括压力调节阀和流量计；

所述塔式气液接触设备均匀布气装置的运行过程为：向圆筒形塔体(1)中装入料液，然后通过调节与中心圆筒空腔(8)和圆环空腔(7)相连的气体调节器(5)来调节进入装置的气体的压力和流量，气体通过布气盘(2)上的圆直管进入圆筒形塔体(1)后获得直径均一稳定的气泡。

2.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述空心圆筒(3)的内径沿圆筒形塔体(1)横截面的径向由内向外逐渐增大。

3.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述空心圆筒(3)的上端均与布气盘(2)的基体连接，空心圆筒(3)的长度沿圆筒形塔体(1)横截面的径向由内向外逐渐变短。

4.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述空心圆筒(3)的个数为2～100个。

5.根据权利要求4所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述空心圆筒(3)的个数为3～30个。

6.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，各空心圆筒(3)底部与倒锥形封闭板(9)密封连接。

7.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述中心圆筒空腔(8)以及各圆环空腔(7)均单独与进气口(11)连通。

8.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆筒形塔体(1)的底部水平设置有布气盘(2)。

9.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)的厚度为2～20mm。

10.根据权利要求9所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)的厚度为10mm。

11.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)的直径与圆筒形塔体(1)的内径相等。

12.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)上的开孔的孔眼的总面积占布气盘(2)基体总面积的5～80％。

13.根据权利要求12所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)上的开孔的孔眼的总面积占布气盘(2)基体总面积的10～30％。

14.根据权利要求13所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)上的开孔的孔眼的总面积占布气盘(2)基体总面积的20％。

15.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)上的每个开孔的孔径为0.1～5mm。

16.根据权利要求15所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)上的每个开孔的孔径为1～4mm。

17.根据权利要求14所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述布气盘(2)上的每个开孔的孔径为2mm。

18.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆直管的上端口高于布气盘(2)的上端平面。

19.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆直管的上端口高于布气盘(2)的上端平面0.1～20mm。

20.根据权利要求19所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆直管的上端口高于布气盘(2)的上端平面3～10mm。

21.根据权利要求20所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆直管的上端口高于布气盘(2)的上端平面5mm。

22.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆直管的外壁与布气盘(2)上开孔的孔眼内壁紧密相连。

23.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述空心圆筒(3)中内层空心圆筒(3)的进气口位置低于其相邻外层空心圆筒(3)的进气口位置。

24.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆环空腔(7)的环带宽度与圆筒形塔体(1)内径的比为1:(3～1000)。

25.根据权利要求24所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆环空腔(7)的环带宽度与圆筒形塔体(1)内径的比为1:(10～100)。

26.根据权利要求25所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述圆环空腔(7)的环带宽度与圆筒形塔体(1)内径的比为1:10。

27.根据权利要求1所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述中心圆筒空腔(8)的直径与圆筒形塔体(1)内径的比为1:(3～1000)。

28.根据权利要求27所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述中心圆筒空腔(8)的直径与圆筒形塔体(1)内径的比为1:(10～100)。

29.根据权利要求28所述的塔式气液接触设备均匀布气装置，其特征在于，所述中心圆筒空腔(8)的直径与圆筒形塔体(1)内径的比为1:10。

30.根据权利要求1-29任一项所述的塔式气液接触设备均匀布气装置的用途，其应用于塔式气液接触设备中。

31.根据权利要求1-29任一项所述的塔式气液接触设备均匀布气装置的用途，其应用于溶剂萃取、溶剂气浮或溶剂浮选领域。