CN104869971B - 大面积塑身施加器 - Google Patents

Abstract

一种设备包括单独受控的皮肤处理单元的阵列，所述阵列将被施加至皮肤区段，其中，每个单元包括：壳体，所述壳体限定与真空压力源流体连通的腔室，所述壳体的内侧由边缘终止，当所述单元被施加至皮肤时，所述边缘有助于所述腔室的密封，腔室的尺寸足以容置通过所述真空压力源吸入腔室的一定体积的皮肤区段从而形成皮肤突起。

Description

大面积塑身施加器

技术领域

本发明涉及一种用于大面积塑身的施加器以及操作所述施加器的方法。这样的设备涉及非侵入性美容处理的仪器领域。

背景技术

皮肤按摩为皮肤的浅层和深层以及皮下组织层的一种操作。按摩涉及利用压力在皮肤上作用与操作。皮肤可被手工或利用机械辅助地操作、通常为揉捏。无论按摩是手工还是利用机械辅助地进行，它均是施加在皮肤或组织的由护理者的手部或机械辅助装置的尺寸所限定的区段内。皮肤的剩余区段则通过在更大的皮肤区段内移动手部或再定位机械辅助装置而得以处理。目标组织可包括肌肉、肌腱、脂肪组织以及皮肤和身体的其它区段。由于在处理过程中需要向皮肤施加压力并且然后重新定位压力源(即将治疗师的手部或机械辅助装置移动至身体的不同区域)，按摩关联有护理者不得不付出的显著量的努力和注意力。

脂肪组织经常被耦合至皮肤的不同的能量予以非侵入性处理。可发现用于皮肤处理的常规类型的能量包括超声(US)能、射频(RF)能、或光源或热源发出的辐射能。皮肤处理能量通过施加器或皮肤处理单元耦合至皮肤。施加器的尺寸在一定程度上限定皮肤或组织的被皮肤处理能量所传递至的区段。为了处理其它皮肤区段，施加器在大皮肤区段内被重新定位并且被启动以将处理能量耦合至皮肤的这一区段。

不同类型的能量被经常用于体围减少、脂肪组织移除、以及其它美容程序，其中皮肤处理能量的施加将带来期待的有益处理效果。

皮肤处理系统往往包括构造为按摩包括皮下组织在内的皮肤的不同的单元或施加器。存在将诸如超声(US)能、射频(RF)能、或由光源或热源发出的辐射能的不同能量耦合至皮肤的单元或施加器。一般而言，在现有已知的处理系统和装置的操作中，皮肤处理单元或施加器的尺寸限定皮肤或组织的可施加处理的区段的尺寸。例如，皮肤处理单元的尺寸可为20×40mm或40×80mm。为了处理其它的或额外的皮肤区段，皮肤处理单元要在皮肤的大区段内重新定位并且被启动以将皮肤处理能量耦合至这一附加的区段。

对皮肤处理单元的重新定位需要护理者这一方可观的付出。这使得他或她的工作复杂化并且由于向皮肤施加处理疗程提供按摩和/或提供其它能量的服务会近似花费约30至90分钟，因此重新定位皮肤处理单元所使用的时间降低了处理的质量和效率。

大皮肤区段内的皮肤处理也变得非常不均衡，这是因为护理者难以在大皮肤区段上保持皮肤处理单元或施加器的精确且一致的重新定位运动以及处理时间。

皮肤处理单元的重新定位需要一定的时间并且该时间取决于护理者的技术。更快的施加器重新定位在一定程度上可以改善皮肤处理结果的均质性并且减少处理的低效性，但是护理者手动重新定位施加器的速度会不足以实现合适的皮肤处理均质性。除此之外，护理者效率和准确性在白班或轮班期间改变并且导致附加的处理现象的出现。由此，一些皮肤区段因而被与其它皮肤区段不同地处理。

因此，存在提供一种适于大皮肤区段的皮肤处理设备的需求，其改善或至少部分改善皮肤处理均质性。

发明内容

本发明描述一种设备和方法，以及所述设备和方法的变形的特征和方面，从而有效利用真空压力来按摩一定体积的皮肤并且有效利用耦合至被按摩的体积的一个或一个以上类型的皮肤处理能量来处理皮肤和皮下脂肪组织并且产生期待的处理效果。

根据第一方面，一种用于大面积塑身的设备被描述。该设备包括将被施加至皮肤区段的单独受控的皮肤处理单元的阵列。每个皮肤处理单元包括限定与真空压力源流体连通的腔室的壳体，壳体的内侧由边缘终止从而当皮肤处理单元被施加至皮肤时利于腔室的密封，受限定的腔室的大小足以容置通过真空压力源吸入受限定的腔室的一定体积的皮肤区段从而形成皮肤突起，并且其中，真空压力向皮肤处理单元的施加和释放产生一定体积的皮肤的至少一部分对抗边缘的往复按摩运动并且其中阵列的每个皮肤处理单元相对于相邻皮肤处理单元具有至少两度的旋转运动，从而使得阵列能够遵循皮肤区段的表面结构。

根据这一方面，真空压力以期待的顺序施加至皮肤处理单元的腔室。由真空压力产生的抽吸将一定体积的皮肤吸入腔室，并且随后，通过使腔室与大气或空气通气而从腔室释放该皮肤体积。进一步而言，根据这一方面，并且由于阵列的每个皮肤处理单元相对于相邻皮肤处理单元具有至少两度的旋转运动这一事实，阵列可遵循受处理的皮肤区段通常不平坦的表面结构。

无论如何需要被理解的是，真空被形成以将一定体积的皮肤吸入腔室的方式以及随后腔室与环境空气(或任何其它空气传递源)通气从而从腔室释放一定体积的皮肤与以下事实独立：皮肤处理单元(并且由此它的腔室)组在一起从而形成阵列，该阵列中，皮肤处理单元相对于相邻皮肤处理单元具有至少两度的旋转运动。

在一些实施例中，阀能够在真空和大气或空气压力源之间切换，从而利于从腔室排空空气从而向腔室吸入一定体积的皮肤并且利于空气进入腔室从而使该皮肤体积被释放。被抽吸和释放的皮肤体积小于阵列所施加至的受处理的皮肤区段。施加真空压力并且然后释放或减小真空压力的顺序产生抵靠皮肤处理单元的外扩边缘的皮肤区段组织的往复按摩运动。在腔室中施加真空压力和释放或减少真空压力连同皮肤处理能量对皮肤体积的施加的操作顺序可形成不同形式的皮肤处理和皮下运动。

在一些实施例中，所述设备和方法是基于耦接作为皮肤处理单元的组件的一个阵列或多个阵列，每个皮肤处理单元包括中空腔室和多个不同的向皮肤施加能量的元件，所述向皮肤施加能量的元件构造为从这样的能量源接收皮肤处理能量并且将接收的能量施加至皮肤的受处理的区段。

在这些实施例的一些中，所述设备和方法在按摩处理过程中将皮肤处理能量与真空压力的施加/释放耦合。由此，所述设备和方法的实施例操作以提供皮肤区段单独的、或与皮肤处理能量的施加结合的自动按摩。皮肤处理能量可选自包括但不一定局限于光、RF、超声、电泳(electrolipophoresis)、离子导入和微波的一组能量类型。这些能量的每个及其组合并且在一些示例中可甚至为附加的和/或替代的能量类型并且可通过向皮肤施加能量的元件传递至皮肤。所述向皮肤施加能量的元件可位于包括腔室内侧、腔室的外扩边缘、结合真空压力设备使用的单独单元、或其任意组合在内的一个或一个以上位置上。

在一些实施例中，阵列的每个皮肤处理单元可相对于相邻单元具有至少两度的平移运动并且皮肤处理单元连接联接件可允许阵列的延展和张紧。例如，联接件可允将两个皮肤处理单元连接至彼此的元件的运动，和/或连接元件可由能够被延展的材料、如具有一定水平的柔性或具有弹性类似特性的材料构成。

在一些实施例中，阵列自身可具有固定或可变的长度。在一些实施例中，阵列可包括具有可变长度的安装部，安装部的大小和形状可设置为将阵列耦接和固定至受处理的皮肤区段。在进一步的实施例中，皮肤处理单元可具有下述运动能力及其组合的任意运动能力：两个方向上的旋转、三个方向上的旋转，竖直运动(上下伸缩运动)等。此外，在一些实施例中，皮肤处理单元可安装在柔性衬底上，由此允许外扩边缘安置在皮肤处理区域的非均匀表面上。

在一些实施例中，皮肤处理单元可由导热材料制成，并且可与按摩动作一起操作以在大受处理的皮肤区段上减少或消除热点并且使皮肤处理能量分布均质。控制单元可控制不同类型的皮肤处理能量的传递，所述皮肤处理能量会根据皮肤处理协议以脉冲或连续模式传递。控制单元可同步皮肤处理能量与真空压力的施加，从而形成由交替真空导致的按摩皮肤运动。控制单元可操作以控制真空以及空气压力向皮肤处理单元的腔室的施加的交替顺序，在一些实施例中，所述空气压力可被施加以释放吸入腔室的皮肤。

向大皮肤区段提供期待皮肤处理协议的可能性可利于大皮肤区段上的均质皮肤处理能量分布。能量可为机械的如按摩或皮肤激励、或热能。不同的皮肤按摩和皮肤处理能量施加形式可利于大皮肤区段的选择性处理。它们还能够使护理者从与皮肤处理设备在受处理的皮肤区段上移位、追踪之前的皮肤处理设备位置并且确定它的下一位置相关的精力付出中解脱。

另一方面提供一种用于操作大致如前述那样的设备的方法。

本发明设备的实施例的额外的目的、优点和特征将基于本说明书的查阅对于本领域技术人员变得显而易见，或可从本发明的实践中学习。

术语说明

本发明中所使用的术语“皮肤”包括诸如角质层、真皮、表皮的外皮层和诸如脂肪组织的更深的皮下层。

本发明中所使用的术语“皮肤处理能量”意味着利于实现期待的皮肤处理效果的能量的任意一种。这样的能量可为机械能、热能和它们的组合。

本发明中所使用的术语“向皮肤施加能量的元件”意味着可操作以从能量源接收皮肤处理能量并且将接收的能量耦合或施加至受处理的皮肤区段的元件。向皮肤施加RF能量的电极、超声换能器、机械元件、光源可为这样的元件。

附图说明

本发明的具体实施例将在下文中、通过非限制性示例、参考附图予以描述。所述附图为：

图1A展示了根据实施例的设备的简化块图；

图1B展示了根据实施例的皮肤处理单元的阵列的侧视图；

图2为根据实施例的皮肤处理单元的阵列简化平面图；

图3A-3G，一并称之为图3，展示了皮肤处理单元的阵列向受处理的目标皮肤轮廓的适应的非限制性示例；

图3A为示出根据实施例的皮肤处理单元的延展运动的透视图；

图3B和3C为根据实施例皮肤处理单元的阵列分别施加至皮肤的内凹区段和外凸区段的简化图；

图3D和3E为根据实施例皮肤处理单元的阵列施加至不平坦的皮肤区段的简化图；

图3F和3G为根据实施例皮肤处理单元的阵列施加至不平坦皮肤区段的简化图；

图4为根据实施例皮肤处理单元的简化侧视图；

图5为根据实施例的皮肤处理单元的简化图，示出了单元腔室；

图6为图4的皮肤处理单元的简化剖视图；

图7为根据实施例皮肤处理单元的简化图，示出了单元腔室；

图8为根据实施例皮肤处理单元的简化图，示出了单元腔室；

图9A和9B，一并称之为图9，为根据实施例RF电极连接和操作的简化图；

图10为穿戴根据实施例的阵列的客体的示意图；

图11为穿戴多个根据实施例的阵列的客体的示意图；

图12为根据实施例的阵列的按摩动作的示意图；以及

图13为根据实施例阵列的按摩动作结合皮肤处理能量的施加的示意图。

具体实施方式

现在参见图1A，该图展示了根据实施例的设备的简化平面图。设备100包括控制单元104、单独受控的皮肤处理单元112的阵列108、以及在阵列108和控制单元104之间连接的互连脐带缆116，其中，所述皮肤处理单元112之间通过联接件114连接，所述联接件114利于一个皮肤处理单元相对于相邻单元的相对移位和旋转。应当被理解的是，控制单元104可为如所述那样附连至阵列108的处理单元，或者可作为处理单元、硬件设备等并入阵列108本身。控制单元104可并入一个或一个以上诸如真空泵120的真空源、以及选择性地一个或一个以上诸如空气压力泵124的空气压力源、及其一个或一个以上皮肤处理能量源128、和处理器或处理单元132。皮肤处理能量源128可例如为RF功率源、可操作以驱动超声换能器的超声驱动功率源或超声驱动电源、光能源、以及其它类型的能量源。处理单元PU132可为个人计算机或由硬件、固件、或处理功能组成的任何其它设备，并且可包括记忆装置134并且可操作以管理真空泵120的源、空气压力泵124的源和皮肤处理能量源128的操作。记忆装置134可操作以存储多个皮肤处理协议。皮肤处理协议可在需要的时候被护理者提取或被提供以采用自动的方式进行处理。PU132可从每个皮肤处理单元112的腔室408(图4至图9)接收温度传感器524(参见图5)的读取信号，并且根据温度传感器524读取值控制向每个皮肤处理单元112提供皮肤处理能量的能量源。可为触屏显示器的显示器136可显示处理过程进程并且可包括多个软键以设置皮肤处理协议或从记忆装置134提取皮肤处理协议。替代地，按键板或键盘可被用来设置皮肤处理协议。控制单元104和阵列108均可包括患者紧急按钮140，从而便于皮肤处理程序被护理者或受处理的客体立即停止。

此外，尽管控制单元104示出为通过脐带缆116连接的独立的单元，但是将被理解的是，在一些实施例中，控制功能件并且特别是处理单元132可以具备向真空源和空气源的接口地设置在阵列108的板上，或者整个控制单元104连同真空源和空气压力源、真空阀以及空气阀等可并入阵列108，以及这些构造的任意组合以及其它可预期的构造。此外，真空源和/或空气压力源可为外部件并且由处理器132控制/调节，所述处理器可安装在阵列上并且操作以控制施加至皮肤处理单元的腔室的压力量。

根据实施例，控制单元104可进一步包括分配卡144，所述分配卡分配和控制与阵列108的每个单独受控的皮肤处理单元112对应的真空泵120、空气压力泵124以及至少一个皮肤处理能量源的启动。分配卡144还从每个腔室接收温度传感器读取信号，并且根据温度传感器读取值控制向每个皮肤处理单元112提供皮肤处理能量的能量源。真空、空气压力和皮肤处理能量的分配和启动可遵循期待的皮肤处理协议，并且作为非限制性示例可启动所有的皮肤处理单元112、一组皮肤处理单元112、或选取的皮肤处理单元112。尽管示出为单个单元，真空泵、空气压力泵和皮肤处理能量源的每个可包括多个真空泵，多个空气压力泵和多个皮肤处理能量源。紧急按钮140可与分配卡144或PU132通信并且紧急按钮140的启动即刻中断真空、空气压力和皮肤处理能量向阵列108的所有的皮肤处理单元或施加器112的提供。

根据图1B示出的实施例，阵列108的每个单独受控的皮肤处理单元112可进一步包括位于腔室154内部的两个RF电极150和构造为连接由电控RF功率源128提供的RF能量的电控RF开关158，所述电控RF功率源可操作以将RF能量传递至RF电极150，每个单独受控的皮肤处理单元112还包括电控真空阀164，所述电控真空阀164构造为将腔室154的内部连接至可操作以向腔室154的内部传递真空的真空源如真空泵120。控制单元104可构造为控制RF开关158、RF功率源128、和真空泵120以向腔室154的内部提供真空并且从腔室154的内部释放真空。替代地，上述控制功能可被分配卡144支持和操作。RF能量通过配线(未示出)传递至RF电极150，其中，所述配线在一端连接至RF功率源128并且RF开关158并联地连接至所述配线的另一端。以类似的方式，真空管路162的一端连接至真空泵120并且所有的真空阀164并联地连接至真空管路162的第二端。

阵列108的每个单独受控的皮肤处理单元112可选择性地包括构造为将腔室154的内部连接至空气源的电控空气阀166(与壳体关联)。空气源可为环境的自由空气或空气压力提供泵124。环境空气通入腔室。进入腔室的空气通过从腔室内侧释放真空而使吸入腔室的皮肤恢复至它的初始位置。泵124可操作以将空气压力传递至腔室154内部、释放真空并且将皮肤压出或推出腔室154内部并且使吸入腔室的皮肤恢复至它的初始位置。空气压力可通过管路170传递，其中，该管路的一端连接至空气压力提供泵124并且所有的空气阀166并联地连接至空气压力提供管路170的第二端。替代地，并且如下所示，单个三通阀406(参见图4)可替代两个阀164和166使用同时保持其余设备大致相同。进一步而言，这些替代与相邻皮肤处理单元之间的旋转运动度数无关。

根据实施例，如图2所示，分配且控制阵列108的每个皮肤处理单元112对应的真空、空气压力和皮肤处理能量的启动的分配卡144可与阵列108关联。分配卡144可控制真空阀164和真空泵120、空气阀166和空气压力泵124，接收来自每个腔室的温度传感器读取信号，并且根据温度传感器读取值控制向每个皮肤处理单元112提供皮肤处理能量的能量源。将分配卡144与阵列108关联可省略互连脐带缆116。真空、空气压力和皮肤处理能量的分配与启动可遵循从记忆装置134提取或借助键盘或触屏输入的期待的皮肤处理协议。处理器132和/或分配卡144可构造为启动所有的皮肤处理单元112、一组皮肤处理单元112、或选取的皮肤处理单元112。除此之外，简化的控制单元或控制器可附连至每个单独的皮肤处理单元112。紧急按钮140可与分配卡144通信并且紧急按钮140的启动可构造为即刻中断真空、空气压力和皮肤处理能量向阵列108的所有的皮肤处理单元或施加器112的提供。

存储在记忆装置134或借助键盘或触屏输入的处理协议可包括下述动作的一个或一个以上：

打开和关闭与具体的腔室154关联的真空阀164；

接通和断开控制所述具体腔室154的RF能量提供的RF开关158；

接通和断开RF功率源128；

接通和断开控制所述具体腔室154的真空提供的真空阀166；

接通和断开真空泵120；

接通和断开控制所述具体腔室154的空气提供的空气阀166，以及

接通和断开空气压力提供泵124。

处理协议还可包括不同动作的顺序和它们的时长。处理协议可进一步包括阵列的各腔室154的切换顺序和切换到的腔室154的每个的动作顺序。动作的顺序可取决于向具体腔室的RF能量提供。例如，限定顺序的处理协议可例如：

-选取第一腔室以变得可操作；

-接通第一腔室中的真空阀；

-接通通向第一腔室的RF开关；

-断开通向第一腔室的RF开关；

-断开第一腔室中的真空阀；

-接通通向第一腔室的空气阀；

-选取第二腔室并且以相同的顺序重复上述动作。

在另一实施例中，处理协议可包括如下提供超声驱动功率的顺序：

-选取第一腔室以变得可操作；

-接通第一腔室中的真空阀；

-接通对向第一腔室提供超声驱动功率进行控制的开关；

-断开对向第一腔室提供超声驱动功率进行控制的开关；

-断开第一腔室中的真空阀；

-接通第一腔室对应的空气阀；

-选取第二腔室并且以相同的顺序重复上述动作。

分配卡144可包括附加的PU(未示出)，从而控制由阵列108执行的处理过程。这样的过程可包括真空压力的施加或空气压力的施加之间的切换、接通和断开具体的皮肤处理能量提供装置、在多个皮肤处理能量提供装置之间选择、或在单独受控的皮肤处理单元之间传递、阀604(图6)信号的接收、接收来自每个腔室的温度传感器读取信号、紧急按钮的启动和阵列释放信号的检测、以及其它。

如图2所示，安装部208的大小和形状可设置为将阵列108耦接和固定至受处理的皮肤区段。安装部208可为带式安装部，由此使得当安装部208附连并且固定至皮肤区段时，受处理的客体可穿戴阵列108。尽管示出为带式，但是安装部208可为缚具形式。在一个实施例中，带式安装部和缚具均可被实施。在又一实施例中，阵列108可并入按摩台或按摩椅并且允许客体靠在台上。在这样的实施例中，阵列108将响应于身体重力抵抗阵列108而遵循客体身体的形状。在再一实施例中，阵列108可简单地横放在客体上并且重量设置为使得足够的压力施加至阵列108以迫使阵列108遵循客体身体。在另一实施例中，阵列108可并入可穿戴设备如夹克式设备、在肢体上滑动的套筒等。其它实施例和变型将对读者是显而易见的并且这些被描述的实施例仅仅提供作非限制性示例。

图3A展示了根据示例的皮肤处理单元的延展运动的透视图。该图示出了施加在平坦表面300上的皮肤处理单元112或施加器的一个阵列108。皮肤处理单元112的数量被给出仅仅用于展示目的并且数量能够以比示出的更多或更少。皮肤处理单元112-3已经在由箭头304表示的方向上相对于相邻单元112-2移位(即单元112-3将在从单元112-2相反的方向上或相对于单元112-2相反的方向上移动)，从而打开比单元112-1和112-2之间的间隙更宽的间隙308。联接件114的长度和柔性以及联接槽312的大小决定移位或延展的大小。联接件114可为利于这样的移动的狗骨式联接件。弹簧316可操作以在处理过程中向阵列108施加一些张力或拉紧力，从而减小皮肤处理单元112之间的间隙并且进一步将皮肤处理单元112附连至皮肤并且在处理疗程完成后将皮肤处理单元112返回至它们的初始位置。在一个实施例中，联接件114可由使移位大小延长的弹性材料制成。在这样的联接件实施方式中，联接件承受的拉紧力足以支撑期待大小的移位延伸并且足以将皮肤处理单元返回至初始位置。

然而，皮肤具有复杂的表面结构并且为了遵循受处理的皮肤区段的表面结构，每个皮肤处理单元可具有多个旋转、扭转和直线移动的自由度。图3B和3C为根据实施例的施加至凹面328和凸面332、诸如施加至皮肤区段的皮肤处理单元阵列的简化图。阵列108的皮肤处理单元112-1至112-3的每个相对于相邻单元具有由箭头336和340(图3B)以及箭头342和344(图3C)表示的旋转自由度。这些旋转自由度有助于阵列108对于受处理的皮肤区段的表面结构特别是对于内凹皮肤区段328和外凸的皮肤区段332的表面结构的遵循。如上所述，皮肤处理单元112沿着联接件114的位移可进一步改善阵列108对于受处理皮肤区段的表面结构的遵循。

图3D和3E示出了根据实施例的施加至不平坦的皮肤区段的皮肤处理单元阵列的简化图。阵列108的皮肤处理单元112-1至112-3的每个相对于相邻单元具有如箭头346和348(图3D)以及箭头352和354(图3E)所表示的平移运动自由度。这些平移运动位于不同的平面内，为了解释的简化性，这些平面示出为垂直平面。尽管箭头346和352表示的平移运动可位于平面300内，但是这些平面还可与平面300(参见图3A)不同，与平移运动304成角度。

图3F和3G示出了根据示例施加至不平坦的皮肤区段的皮肤处理单元阵列的简化图。阵列108的皮肤处理单元112-1至112-3的每个相对于相邻单元具有由箭头356(参见图3F)和箭头360(参见图3G)示出的旋转运动自由度。这些旋转运动位于与由箭头336、340、342和344表示的旋转运动(参见图3B和3C)发生的平面不同的平面内。

联接件114(参见图1和3)可为利于上述移动的狗骨式联接件。联接件114承受的拉紧力足以支撑皮肤处理单元112之间的这些平移运动和旋转运动。其它类型的联接件如Cardan联接件、Hooke联接件、弹性元件以及有利于相邻单元之间至少两度的旋转运动、平移运动和一些延展的其它类似元件也可被使用。此外，并非是使用联接件以形成阵列的灵活性以外，各单元可安装至允许任意的或所有的前述移动的柔性衬底。此外，阵列可如所示那样为一维尺寸，或者阵列还可通过应用本文上述联接技术或安装技术以及其它技术被扩展为包括两排或两排以上各单元。

总而言之，由于每个皮肤处理单元112拥有至少两个旋转运动，阵列108可遵循受处理的皮肤区段的表面结构。每个皮肤处理单元112的附加的平移运动或直线运动可进一步促进阵列108的遵循受处理的皮肤区段的表面结构的能力。支撑在空间内几乎所有方向上相对于相邻皮肤处理单元的空间运动的狗骨式联接件或类似联接件还有助于阵列108对受处理的皮肤区段的表面结构的遵循。

图4展示了皮肤处理单元112的简化侧视图的非限制性示例。皮肤处理单元112在这个示例中示出为包括壳体404，所述壳体包括形成在壳体404内侧的中空内部或腔室408。腔室408包括位于皮肤处理单元的壁上(即例如第一端412上或别处)的开孔或出口，其通向连接接头(connection nipple)428以与诸如真空泵120的负压源或可为环境大气空气压力或由泵124产生的更高的压力的正空气压力源流体连接。由控制单元104或分配卡144控制的合适的阀如三通阀406可简化连通。替代地，类似于阀164和166(参见图1)的两个阀可替代阀406被使用。这两个阀164和166也可被控制单元104或分配卡144控制。软管(未示出)可在皮肤处理单元112的第一端412和负压源或真空泵120以及空气压力泵124之间连接。边缘416终止皮肤处理单元112的第二端。边缘416的宽度可类似于皮肤处理单元壳体404的壁420的厚度；边缘416可通过具有与边缘416的大小大致相同的表面424的垫圈或其它材料终止，或在其它实施例中，大致大于壁420和/或边缘416的表面可被使用。示意性示出为矩形以简单表示它们的存在的连接头432和436利于不同皮肤处理能量从能量源128向受处理的皮肤区段的传递。应当被理解的是，各种连接头的任意一种可用于这一接口。

在使用中，边缘416的表面424被施加至受处理的皮肤区段，并且由此，与表面424紧密配合的皮肤区段的表面操作为密封中空内部或腔室408。作为非限制性示例，腔室408的尺寸在大小上可为20×40或40×80mm。壁420的表面424可外扩以增加与皮肤表面的接触面积从而在表面424和皮肤之间提供更好的密封。对皮肤处理单元112的操作包括通过阀406(或通过利用两个阀164和166)将连接接头或喷嘴428与相应的真空压力源或负压源、或空气压力源连接而实现真空压力或负压对皮肤处理单元112的腔室408的施加和释放。这样的操作顺序形成腔室的边缘416的表面424所按压的受处理的皮肤体积的往复按摩运动。边缘416的表面424可涂敷以低摩擦涂层以加强受处理的皮肤的按摩。

在非限制性示例中，皮肤处理单元112的腔室408的真空压力的释放(有助于受处理的皮肤体积的抵靠腔室边缘的往复按摩运动)可通过将腔室与周围环境空气通气而得以辅助。所述通气可通过出口连接接头428得以实现。替代地，正空气压力可通过出口连接接头428或通过另外的导管或连接接头(未示出)被传递。皮肤处理单元112的这种操作将进一步加强按摩运动的强度。控制单元104(图1)可对腔室408设置选取类型的空气压力和真空的施加的顺序、强度和时长。

根据图5示出的示例，向皮肤施加能量的元件可位于中空内部或腔室408的壁420的内表面上。能量传递元件可为这样的元件，即类似于RF电极508、超声换能器512(图5)、诸如发光二极管(LED)516或激光二极管的发光物体、向腔室内传输激光的光纤、以及向皮肤传递各种类型的皮肤处理能量的其它元件。皮肤温度传感器524如热敏电阻、热偶、或诸如作为非限定示例的光学高温计的非接触式传感器可位于中空内部或腔室408中。多个温度感应元件524也可或替代地位于腔室中的其它位置处或位于边缘上从而在不同位置处得到皮肤温度的感应。在另一实施例中，腔室或腔室部件和/或能量传递表面可由导热材料制成。在处理过程中，由导热材料构成的这些部件与皮肤达到热平衡。温度传感器可插入这些由导热材料制成的部件中并且可表明这些区域上的平均皮肤温度，这对于处理控制是有用的。附图标记312(参见图3)和图5中示出为520的元件指的是用于接收狗骨式联接件114或类似联接件的槽或接收部，其中，所述狗骨式联接件114或类似联接件在阵列108的各皮肤处理单元112之间连接(图1)，并且有助于皮肤处理单元112之间的至少两度的旋转运动和在不同平面内的两种平移运动，由此使得它们的空间位置能够使阵列108遵循受处理的皮肤区段的表面结构。

图6示出了图5的皮肤处理单元在线L-L处的剖视图。阀604可为板件608和柱塞612连同弹簧620和止动盘624的组装件，阀604可例如为同一发明人的并且转让给同一受让人并且以参考方式并入的PCT公开文献WO2010/007619所公开的阀。替代地，阀604可为电磁阀或其它阀机构。阀604的板件608和柱塞612在如箭头628表示的轴向上具有直线运动自由度。当负压源120施加至阀604时，负力或真空在中空内部或腔室408内产生，由此如果皮肤处理单元的边缘被压靠皮肤表面时，一定体积的皮肤被吸入腔室408从而形成由破折线632所表示的皮肤突起。该突起在箭头628A表示的方向上推动板件608和带有止动盘624的柱塞612直至止动盘624关闭出口连接接头428。随着腔室408中负压的降低，突起减退从而恢复与真空泵120(图1)的流体/空气连接，由此再次打开阀604，从而允许负压的施加。阀604的这一重复动作可调节腔室中的真空压力水平并且由此调节吸入腔室的皮肤突起的大小。诸如两个匹配的椎体或两个匹配的球体的其它阀604结构也是可能的。

根据图7所示的实施例，RF电极508可位于皮肤处理单元的外表面如表面424上。根据图8所示的实施例，RF电极808可伸出腔室壁420的内表面，腔室壁420的密封边缘424可外扩以提供扩展的RF能量传递表面并且可施加RF能量从而不仅加热腔室408内的组织并且还加热即将被吸入腔室的相邻皮肤组织。在一些情况下，RF电极508可大致沿着整个周表面424设置(图7)。

图9为根据示例的RF电极连接和操作的简化图。阵列108被施加和固定至大皮肤区段900，由此使得阵列108遵循皮肤区段的表面结构。作为非限定性示例，真空泵120(参见图1)在皮肤处理单元112的中空内部或腔室408内产生约-0.1bar至-0.9bar的负压。负压或真空将各皮肤体积吸入阵列108的皮肤处理单元112的腔室408中并且在腔室408内形成皮肤突起632。随着皮肤突起632大小的增加，该突起632占据越来越大腔室408容积，并且以一致的方式扩散入腔室内侧。仅仅当皮肤突起632和RF电极508之间的牢固接触被建立时，控制单元104或分配卡144(图1和2中示出)可启动皮肤处理能量向RF电极的提供。位于相邻皮肤处理单元112的中空内部或腔室408的内表面上的相邻电极可通过连接件904连接在一起(图9B)并且对每个腔室独立且对称地进行切换。RF能量可通过配线906和908传递至RF电极508，配线906和908在一端上连接至RF功率源128并且RF开关158并联连接至所述配线的另一端。

相邻RF电极的这样的连接可增大电极的有效表面并且可有助于在受处理的皮肤区段分布中均质加热。皮肤的往复按摩运动(参见图12)可进一步帮助皮肤分布内的均质加热并且可防止“热点”的形成。控制单元104或分配卡144(图1)可控制向RF电极的RF能量提供以及RF电极切换过程。为了避免RF能量向皮肤的错误或不小心提供，向RF电极的RF传递的硬件联锁可被实施。在每个腔室408中操作的阀604(图6)产生的突起信号可用于启动/取消启动RF能量的提供并且还增加处理过程的安全。

本发明的阵列的一个应用可为大皮肤区段的按摩。图10为穿戴与阵列108类似或等同的阵列1008的客体的示意图。客体位于按摩台1004上。阵列1008可施加至大皮肤区段，例如施加至受处理客体的腹部并且可借助安装部208附连至皮肤。所述安装部的大小和形状设置为将阵列1008耦接和固定至受处理的皮肤区段。安装部208可为带式安装部。合适的缆线和管路可用来将阵列连接至控制单元104和每个皮肤处理源。由于带式安装部208将阵列1008耦接和固定至受处理的皮肤区段，因此护理者保持可动性并且他的双手是解放的。护理者可同时参与额外的活动而不影响处理过程。

尽管示出为一维阵列，设备可包括二维阵列或矩阵式阵列以及以不同形式布置的阵列。

图11展示了根据实施例的穿戴类似阵列的客体的示意图。阵列1108可类似于阵列108。阵列1108可包括多个皮肤处理单元112并且可构造为被穿戴在受处理的客体的四肢上、在这一情况下为腿部上。以类似的方式，阵列可构造为施加至大皮肤区段并且处理或按摩受处理客体身体的下背部或上背部、胸部或其它区段。合适的缆线或管路可被应用以将阵列的每个皮肤处理单元连接至控制单元以及每个皮肤处理源。由于阵列1108可耦接和固定至受处理的皮肤区段，因此护理者可保持可动性并且他的双手是解放的。护理者可同时参与额外的活动而不会影响处理程序。

进一步如图11所示，一个以上阵列可被用来同时或根据预处理协议处理受处理的客体的多个大皮肤区段。例如，在图11中，阵列1108示出为对客体腿部的上部提供处理，而包括连接至安装部208的皮肤处理装置112的阵列108可处理躯干。

图12展示了根据示例的阵列的按摩动作的示意图。阵列108施加并且固定至大皮肤区段1200由此使得阵列108遵循大皮肤区段的表面结构或轮廓。真空泵120(在图1中示出)可在皮肤处理单元112的中空内部或腔室408内产生负压。作为非限定性示例，负压可为约-0.1bar至-0.9bar。每个腔室408可为单独受控并且连接至真空泵120，并且由此真空压力可同时提供至所有的腔室408或根据选取的处理协议提供至多个腔室408。负压或真空可将各皮肤体积吸入阵列108的腔室408并且可在适当的腔室中形成皮肤突起1204。随着皮肤突起1204的增大，它占据腔室408越来越大的容积，并且在腔室内侧扩散并且最终通过移动柱塞508而推动关闭阀428。相邻或更远地定位的皮肤处理单元承受类似的真空的循序施加和释放。真空对于皮肤处理单元112的腔室408的这一循序施加可产生将皮肤体积吸入腔室或从腔室释放的抽吸，从而在相应的腔室中形成皮肤突起1204。被抽吸或释放的皮肤体积小于施加和固定阵列108的受处理的皮肤区段1200。真空压力的循序施加和释放可产生(如箭头1208所示的)抵靠皮肤处理单元112的外扩边缘416的大皮肤区段的至少一部分的往复按摩运动。单独的真空压力的循序施加对大皮肤区段建立或给予皮肤的按摩运动。当真空相被完成时的，由泵124(如图1所示)对腔室产生的附加压力可加强离开腔室的皮肤运动并且由此加强按摩动作。没有其它的机械致动器和/或任何运动部件在这些示出的实施例中使用。皮肤的按摩运动可同时或根据选取的皮肤按摩协议施加至大皮肤区段。

皮肤按摩在皮肤上给予机械按摩能量。根据本方法的实施例，额外类型的皮肤处理能量可同施加真空压力和按摩共存地耦合至大皮肤区段1200。这样的皮肤处理能量可为加热皮肤的能量。作为非限制性示例，能量可包括RF能量、超声驱动功率、微波能和光能。根据不同皮肤处理协议，不同形式的能量可共存地在每个腔室中和在不同的腔室中施加。

图13展示了根据本发明示例的结合皮肤处理能量的施加的阵列的按摩动作的示意图。皮肤处理能量向客体皮肤的安全施加在每种基于能量的美容和医疗的处理中是最重要的要求。可为RF电极508或超声换能器512的向皮肤施加能量的元件与突起1204之间的牢固接触利于良好的能量传递、避免热点在RF电极上的形成以及避免其它不利效果。这样的接触条件仅仅存在于当皮肤突起1204充分填充腔室408时。突起大小(或状态)的感应可向控制单元104或选择卡144(图1和2)提供控制一个或一个以上皮肤处理能量源124向电极508提供RF能量的反馈。当皮肤体积如安全皮肤处理能量施加或耦合所要求地充分填充腔室时，阀604可向控制单元104(图1)发送诸如“突起状态信号”的信号。替代地，光传感器、电阻传感器、电容传感器、电感传感器或可适于突起大小的直接检测或间接检测的任何其它类型的传感器可被应用。

当皮肤突起1204和电极508之间的牢固接触可被建立时，控制单元接通皮肤处理能量源128(图1)，所述皮肤处理能量源128作为非限制性示例可为RF发生器。RF发生器可为根据期待的皮肤处理协议向皮肤处理单元提供RF能量的单个发生器或可为多个RF发生器，其中每个发生器向对应的皮肤处理单元提供RF能量。RF能量被提供至吸入腔室408的皮肤体积或皮肤突起1204。RF感应电流可加热皮肤体积1204并且可产生或加强期待的皮肤处理效果，所述皮肤处理效果可为脂肪组织减少、塑身、紧致和复原皮肤、胶原纤维的收缩以及其它美容皮肤处理效果。电极508和皮肤突起1204之间的牢固接触可在RF能量处理过程中通过监测电极508之间的皮肤的阻抗而被检测。在处理开始时皮肤阻抗越低，RF电极和皮肤形成突起1204之间的接触越佳。

一般RF频率的范围可为从50KHz至200MHz。通常而言，RF频率为从100KHz至10MHz或从100KHZ至100MHz，或替代地，从300KHz至3MHz。RF功率的范围可为从0.5W至300W。通常而言，RF功率的范围为从1W至200W或从10W至100W并且RF可以脉冲或连续的形式或调制传递的一些其它形式耦合入皮肤。RF感应电流可加热各皮肤体积1204。该加热可为非均质的，并且不同的皮肤体积可被加热至不同的期待温度并且有时没有加热至期待温度。控制单元可被操作以操纵一个或多个皮肤处理能量源，所述皮肤处理能量源在示例中为一个或一个以上RF发生器。控制单元可设置皮肤处理协议并且可同步皮肤处理协议与按摩运动，由此使得控制单元可使大皮肤区段上的皮肤处理能量分布均质。此外，皮肤处理单元112的壳体404可由进一步加强和均质大皮肤区段上的热分布的导热材料制成。

在一些实施例中，除了RF电极508之外，皮肤处理单元112可包括可操作以施加其它类型或附加类型的皮肤处理能量的向皮肤施加能量的元件。这样的能量可例如为通过换能器512(图5)向吸入腔室408的皮肤突起或皮肤体积施加的超声驱动功率、或由LED516或其它设备向吸入腔室408的皮肤突起或皮肤体积施加的光能。

进一步而言，在一些实施例中，只有当皮肤突起1204和换能器512之间的牢固接触被建立时，控制单元104或选择/分配卡144(图1)才接通可为超声驱动功率源的皮肤处理能量源128。超声能量可供应至已经吸入腔室408的皮肤体积1204。在一个示例中，超声可用来预加热受处理的皮肤体积1204并且减小它的阻力，由此使得RF引导电流将优先通过预加热的皮肤体积1204区段并且加强期待的皮肤处理效果，所述皮肤处理效果可为脂肪组织减少、塑身、紧致和复原皮肤、胶原纤维的收缩以及其它美容皮肤处理效果。换能器512和皮肤突起1204之间的牢固接触可在超声能量处理过程中通过在换能器上沉积不会衰减超声能量的薄导电层并且监测换能器之间的皮肤阻抗而被检测。

在一些实施例中，中度集中的超声可用来在具有不同密度的脂肪组织细胞成分上给予运动。该运动可引起细胞壁的破裂并且可破坏脂肪组织细胞。

通常而言，超声驱动功率的频率范围可为从500kHz至5MHz。通常而言，超声功率密度的范围可为0.1W/cm²至高达5W/cm²。

上述设备和方法可用于诸如脂肪组织减少、塑身、紧致和复原皮肤、胶原纤维的收缩以及其它美容皮肤处理的美容处理。

然而，应当注意的是，皮肤处理能量和按摩的其它或附加的组合可用于皮肤处理。这些其它形式的能量和按摩位于本发明和权利要求范围内。

出于完整性，本发明的各方面在下述编号的条款中提出：

条款1：一种设备，所述设备包括：

单独受控的皮肤处理单元的阵列，所述阵列将被施加至皮肤区段，其中，每个皮肤处理单元包括：

壳体，所述壳体限定与真空压力源流体连通的腔室，所述壳体的内部的一侧由边缘终止，当所述皮肤处理单元被施加至皮肤时，所述边缘有助于所述腔室的密封，受限定的腔室的尺寸足以容置通过所述真空压力源吸入受限定的腔室的一定体积的皮肤区段从而形成皮肤突起，并且其中，真空压力向所述皮肤处理单元的施加和释放产生抵靠所述边缘的一定体积的皮肤的至少一部分的往复按摩运动，并且

其中，所述阵列的每个所述皮肤处理单元相对于相邻皮肤处理单元具有至少两度的旋转运动，从而使所述阵列能够遵循所述皮肤区段的表面结构。

条款2：根据条款1所述的设备，其中，所述阵列的每个所述皮肤处理单元构造成允许相对于所述相邻皮肤处理单元的至少两个平移运动，并且其中，所述平移运动位于不同的平面内。

条款3：根据条款1至2任一条所述的设备，其中，所述阵列的相邻的所述皮肤处理单元由联接件连接，所述联接件构造成允许所述皮肤处理单元在空间内多个方向上相对于彼此的空间运动。

条款4：根据条款3所述的设备，其中，所述阵列的相邻的所述皮肤处理单元由联接件连接，所述联接件能够被延展从而允许相邻皮肤处理单元相对于彼此的运动。

条款5：根据条款1-4任一条所述的设备，其中，单独受控的皮肤处理单元的所述阵列为长度可变阵列。

条款6：根据条款5任一条所述的设备，其中，所述长度可变阵列进一步包括安装部，所述安装部的大小和形状设置为使所述长度可变阵列耦接并固定至受处理的皮肤区段，由此使得所述阵列可被穿戴。

条款7：根据条款1-6任一条所述的设备，其中，所述阵列构造成处理包括腹部、四肢、肩部、下背部和上背部在内的至少一组皮肤区段。

条款8：根据条款1-7任一条所述的设备，其中，受限定的腔室的边缘涂敷有低摩擦涂层以加强受处理的皮肤区段的按摩运动。

条款9：根据条款1-8任一条所述的设备，其中，皮肤处理单元包括阀，该阀调节受限定的腔室内的真空压力水平并且由此影响吸入受限定的腔室内的突起的大小。

条款10：根据条款1-9任一条所述的设备，其中，吸入皮肤处理单元的受限定的腔室内的皮肤体积由选自一组动作的至少一个动作被释放，所述一组动作包括真空压力的释放、真空压力的减小、受限定的腔室的通气或向受限定的腔室施加正空气压力。

条款11：根据条款1-10任一条所述的设备，其中，所述设备进一步包括处理单元，所述处理单元可操作以根据皮肤处理协议操纵至少真空压力源和至少一个皮肤处理能量源的操作。

条款12：根据条款11所述的设备，其中，皮肤处理协议为一组协议的至少一个，该组协议包括皮肤处理能量的连续传递和皮肤处理能量的脉冲传递。

条款13：根据条款11所述的设备，其中，控制单元控制每个皮肤处理单元并且同步皮肤处理能量的传递和真空压力的施加以在大皮肤区段上均质皮肤处理能量分布。

条款14：根据条款13所述的设备，其中，皮肤处理单元的壳体由导热材料构成以进一步利于皮肤处理能量在大皮肤区段上的分布和均质性。

条款15：根据条款1-14任一条所述的设备，其中，向皮肤施加能量的元件向皮肤突起施加一组皮肤处理能量的至少一个，该组皮肤处理能量包括RF能量、超声能、微波能和光能。

条款16：根据条款15所述的设备，其中，向皮肤施加能量的元件为包括RF电极、超声换能器、LED、白炽灯、氙灯和激光器在内的一组元件的至少一个。

条款17：根据条款15所述的设备，其中，相邻皮肤处理单元的RF电极被同时操作以增加有效电极表面。

条款18：根据条款1-17任一条所述的设备，所述设备进一步包括可操作以感应皮肤温度的皮肤温度传感器。

条款19：根据条款18所述的设备，其中，皮肤温度传感器为包括热敏电阻、热偶、或非接触式光学传感器在内的一组传感器的一个。

条款20：根据条款18所述的设备，其中，皮肤温度传感器位于包括受限定的腔室和受限定的腔室的边缘上在内的一组位置的一个位置上。

条款21：根据条款18所述的设备，所述设备进一步包括处理单元，并且其中，至少部分基于皮肤温度传感器读取值，处理单元控制能量源以向每个皮肤处理单元提供皮肤处理能量。

条款22：根据条款1-21任一条所述的设备，其中，大皮肤区段的按摩运动通过护理者执行的阵列的运动量的减少而简化和减少护理者的精力付出。

条款23：一种方法，其包括如下动作：

将单独受控的皮肤处理单元的长度可变阵列耦接至待处理的大皮肤区段，阵列中每个皮肤处理单元包括壳体，所述壳体限定与真空压力源流体连通的腔室，并且所述长度可变阵列的每个所述皮肤处理单元相对于相邻皮肤处理单元具有至少两度的旋转运动；

向受限定的腔室循序施加和释放真空压力以将皮肤体积吸入腔室并且释放皮肤体积，从而产生皮肤体积的往复运动；并且其中，皮肤处理单元的旋转运动允许长度可变阵列遵循受处理的皮肤区段的表面结构，并且进一步地，其中皮肤体积的往复移动在大皮肤区段上给予按摩运动。

条款24：根据条款23所述的方法，所述方法进一步包括根据皮肤处理协议向皮肤体积施加至少一个皮肤处理能量的动作。

条款25：根据条款24所述的方法，其中，皮肤处理协议为包括皮肤处理能量的连续传递和皮肤处理能量的脉冲传递在内的一组协议的至少一个协议。

条款26：根据条款24所述的方法，所述方法进一步包括使皮肤处理协议与按摩皮肤运动同步以在大皮肤区段上均质皮肤处理能量分布的动作。

条款27：根据条款23-26任一条所述的方法，所述方法进一步包括：通过提供长度可变的阵列并且使该长度可变阵列的每个皮肤处理单元能够在至少两个平移方向上移动并且使所述平移运动位于不同的平面内，从而利于阵列对皮肤区段的表面结构的遵循。

条款28：根据条款23-27任一条所述的方法，所述方法进一步包括通过提供这样的阵列而利于长度可变阵列对皮肤区段的表面结构的遵循：该长度可变阵列的皮肤处理单元由在空间内多个方向上支持相对于相邻皮肤处理单元的空间移动的联接件连接。

条款29：根据条款23-28任一条所述的方法，所述方法进一步包括通过提供这样的阵列而利于长度可变阵列对皮肤区段的表面结构的遵循：长度可变阵列的皮肤处理单元由可延展的联接件连接。

条款30：根据条款23-29任一条所述的方法，其中，皮肤处理单元的壳体由进一步促进皮肤处理能量在大皮肤区段上的分布和均质性的导热材料构成。

条款31：根据条款23-30任一条所述的方法，所述方法进一步包括通过一个或一个以上向皮肤施加能量的元件向皮肤体积施加皮肤处理能量的动作，其中，所述皮肤处理能量为包括RF能量、超声能、微波能和光能在内的一组皮肤处理能量的至少一种。

条款32：根据条款23-31任一条所述的方法，其中，皮肤体积形成突起并且通过一个或一个以上向皮肤施加能量的元件向突起施加皮肤处理能量的动作是在突起和向皮肤施加能量的元件之间的牢固接触被建立时向突起施加皮肤处理能量。

条款33：根据条款23-32任一条所述的方法，所述方法进一步包括通过一个或一个以上向皮肤施加能量的元件向皮肤体积施加皮肤处理能量的动作、通过温度传感器感应皮肤体积的温度的动作、以及至少部分基于皮肤体积的温度控制皮肤处理能量的施加的动作。

条款34：根据条款23-33任一条所述的方法，其中，大皮肤区段的按摩运动简化和减少护理者的精力付出。

条款35：根据条款23-34任一条所述的方法，其中，护理者保持可动性并且可同时参与额外的活动而不会影响当前皮肤处理过程。

条款36：根据条款23-35任一条所述的方法，所述方法进一步包使一个以上阵列附连至受处理的客体并且同时处理多个大皮肤区段。

条款37：一种提供皮肤区段的自动按摩的设备，所述设备包括：

壳体，所述壳体限定腔室、通向皮肤区段的接口和压力源接口，所述通向皮肤区段的接口包括边缘，当被压靠皮肤区段时，所述边缘大致密封受限定的腔室，由此使得施加至压力源接口的负压将一部分皮肤区段吸入受限定的腔室，并且，负压的释放允许该部分皮肤区段至少部分地腾空受限定的腔室。

条款38：根据条款37的设备，其中，所述设备包括将所述设备连接至附加的类似的设备、但允许被连接的设备相对于彼此的运动以利于被连接的设备对于皮肤区段的表面结构的遵循的接口。

条款39：根据条款38所述的设备，所述设备进一步包括：

通向皮肤处理能量源的接口；

壳体上将与皮肤区段接触的一个或一个以上表面；并且

通向皮肤处理能量源的接口和所述一个或一个以上表面之间具有连接性，由此使得皮肤处理能量可通过一个或一个以上表面施加至皮肤区段。

尽管在本文中只有本发明的多个具体实施例和示例已被公开，但是将被本领域技术人员理解的是，其它替代例和/或本发明的应用以及本发明应用的明显的改型和等价也是可能的。进一步地，本发明覆盖所描述的具体实施例的所有可能的组合。附图涉及的以及在权利要求中插入式放入的附图标记也仅仅是为了增加权利要求的完整性，并且将不构成对权利要求的范围的限定。由此，本发明的范围不应当由具体实施例限定，而是应当通过对下述权利要求的公平阅读而被确定。

Claims (17)

1.一种用于大面积塑身的设备(100)，所述设备包括：

单独受控的皮肤处理单元(112)的阵列(108，1008，1108)，所述阵列将被施加至皮肤区段，其中，每个皮肤处理单元(112)包括：

壳体(404)，所述壳体限定与真空压力源流体连通的腔室(154，408)，所述壳体(404)的内侧由通过低摩擦涂层涂敷的边缘(416)终止，当所述皮肤处理单元(112)被施加至皮肤时，所述通过低摩擦涂层涂敷的边缘有助于所述腔室(154，408)的密封，受限定的腔室(154，408)的尺寸足以容置通过所述真空压力源吸入受限定的腔室(154，408)的一定体积的皮肤区段从而形成皮肤突起(632，1104，1204)，并且其中，向所述皮肤处理单元(112)施加和释放真空压力产生抵靠所述通过低摩擦涂层涂敷的边缘(416)的一定体积的皮肤的至少一部分的往复按摩运动，并且

其中，所述阵列(108，1008，1108)的每个所述皮肤处理单元(112)相对于相邻皮肤处理单元具有至少两度的旋转运动(336，340，342，344)，从而所述阵列(108，1008，1108)能够遵循所述皮肤区段的表面结构。

2.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：每个腔室(154，408)包括：

至少一个电控真空阀(164)，所述至少一个电控真空阀与每个腔室(154，408)关联并且构造成将所述腔室(154，408)连接至所述真空压力源，所述真空压力源可操作以向所述腔室(154，408)传递真空；

真空管路(162)，所述真空管路的一端连接至所述真空压力源，其中，两个或两个以上真空阀(164)并联连接至所述真空管路(162)的第二端；以及

至少一个电控空气阀(166)，所述至少一个电控空气阀与每个腔室(154，408)关联并且构造成将所述腔室(154，408)连接至空气传递源，其中

所述真空压力源可操作以当所述腔室(154，408)施加至所述皮肤时将皮肤吸入所述腔室(154，408)，并且所述空气传递源可操作以将吸入所述腔室的皮肤还原至它的初始位置。

3.根据权利要求2所述的设备，其特征在于：所述空气传递源选自环境空气和空气压力提供泵(124)。

4.根据权利要求3所述的设备，其特征在于：环境空气通过释放所述腔室(154，408)内的真空而将吸入所述腔室(154，408)的皮肤还原至它的初始位置，并且空气压力通过将吸入所述腔室的皮肤推出所述腔室(154，408)而将吸入腔室(154，408)的皮肤还原至它的初始位置。

5.根据权利要求3或4任一所述的设备，其特征在于：所述空气压力提供泵(124)通过管路(170)向所述腔室(154，408)提供空气压力，所述管路(170)的一端连接至所述空气压力提供泵(124)，并且其中，两个或两个以上空气阀(166)并联连接至所述管路(170)的没有与所述空气压力提供泵(124)连接的另一端。

6.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：每个腔室(154，408)包括：

至少一个电控阀(406)，所述至少一个电控阀与每个腔室(154，408)关联并且构造成：当真空要被传递入所述腔室时，将所述腔室(154，408)连接至所述真空压力源，或者当真空要从所述腔室释放时，将所述腔室连接至环境空气以使所述腔室(154，408)通气；以及

真空管路(162)，所述真空管路的一端连接至所述真空压力源，其中，两个或两个以上阀(406)并联连接至所述真空管路(162)的第二端。

7.根据权利要求1所述的设备，其特征在于：每个腔室(154，408)包括：

至少一个电控阀(406)，所述至少一个电控阀与每个腔室(154，408)关联并且构造成：当真空要被传递入所述腔室时，将所述腔室(154，408)连接至所述真空压力源，或者当真空要从所述腔室释放时，将所述腔室连接至空气压力提供泵(124)，所述空气压力提供泵可操作以将空气压力传递至所述腔室(154，408)，以及

管路，所述管路的一端连接至所述空气压力提供泵(124)，其中，两个或两个以上阀(406)并联连接至所述管路的第二端。

8.根据权利要求2至4任一所述的设备，其特征在于：所述设备进一步包括至少一个向皮肤施加能量的元件以向所述皮肤区段施加皮肤处理能量。

9.根据权利要求8所述的设备，其特征在于：所述向皮肤施加能量的元件为位于所述腔室(154，408)内部的两个RF电极(150，508)并且所述设备进一步包括：

电控RF开关(158)，所述电控RF开关构造成将RF能量连接至所述RF电极(150，508)，以及

RF功率源(218)，所述RF功率源可操作以将RF能量传递至所述RF电极(150，508)，

其中，所述RF能量通过一端连接至所述RF功率源(128)的配线(906，908)传递至所述RF电极(150，508)并且所述RF开关(158)并联连接至所述配线(906，908)的另一端。

10.根据权利要求9所述的设备，其特征在于：所述设备还包括：

至少一个超声换能器(512)，所述至少一个超声换能器构造成辐射所述腔室(154，408)的内部，

电控超声驱动功率源，所述电控超声驱动功率源可操作以向所述超声换能器(512)传递电力，以及

电控开关，所述电控开关构造成将所述超声驱动功率源连接至所述超声换能器(512)，

其中，超声驱动功率通过一端连接至所述超声驱动功率源的配线被提供至所述超声换能器(512)，并且所述电控开关并联连接至所述配线的另一端。

11.根据权利要求10所述的设备，其特征在于：所述设备进一步包括控制单元(104)，所述控制单元构造成至少控制所述真空阀(164)和所述真空压力源从而向所述腔室(154，408)提供和释放真空，并且控制所述空气阀(166)以向所述腔室(154，408)传递和释放空气，和/或所述控制单元构造成至少控制所述RF开关(158)和所述RF功率源(128)，和/或所述控制单元构造成根据预定的处理协议至少控制所述超声驱动功率源和所述电控开关。

12.根据权利要求11所述的设备，其特征在于：所述控制单元(104)的处理器(132)包括可操作以存储至少一个皮肤处理协议的记忆装置(134)，并且便于处理协议进入和处理协议显示的单元选自包括按键板或键盘和触摸屏的组。

13.根据权利要求1至4、6和7中任一所述的设备，其特征在于：所述阵列(108，1008，1108)的每个所述皮肤处理单元(112)构造成允许相对于所述相邻皮肤处理单元的至少两个平移运动(346和348，352和354)，并且其中，所述平移运动位于不同的平面内。

14.根据权利要求1至4、6和7中任一所述的设备，其特征在于：所述阵列的相邻的所述皮肤处理单元由联接件连接，所述联接件构造成允许所述皮肤处理单元在空间内多个方向上相对于彼此的空间运动(356，360)。

15.根据权利要求1至4、6和7中任一所述的设备，其特征在于：单独受控的皮肤处理单元的所述阵列为长度可变阵列，并且其中，所述长度可变阵列进一步包括安装部(208)，所述安装部的大小和形状设置为使所述长度可变阵列耦接和固定至受处理的皮肤区段，由此使得所述阵列可被穿戴。

16.根据权利要求1至4、6和7中任一所述的设备，其特征在于：所述阵列构造成处理包括腹部、四肢、肩部、下背部和上背部在内的至少一组皮肤区段。

17.一种用于操作根据权利要求9的设备的方法，所述方法包括：

选取第一腔室以变得可操作；

接通对向所述第一腔室提供真空进行控制的真空阀，

接通对向所述第一腔室提供RF功率进行控制的RF开关，

断开对向所述第一腔室提供RF功率进行控制的RF开关，

断开对向所述第一腔室提供真空进行控制的真空阀，

接通通向第一腔室的空气阀，以及

选取第二腔室并且重复相同顺序。