CN104646337A - 清洁基板的设备 - Google Patents
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Abstract
本发明提供一种清洁基板的基板清洁设备。该基板清洁设备包括清洁腔、第一清洁喷嘴、盖构件、气流产生单元以及排气单元。主清洁腔具有清洁空间并包括侧壁，基板在清洁空间中被清洁，第一排气孔限定在侧壁中。第一清洁喷嘴设置在主清洁腔中以喷射第一清洁液。盖构件覆盖主清洁腔并具有其中限定第二排气孔的一侧。气流产生单元通过第一排气孔将空气供给到清洁空间中。排气单元被联接到盖构件的该一侧以通过第二排气孔抽吸并排放供给到清洁空间的空气。
Description
技术领域
本公开在此涉及一种清洁基板的设备，更具体地，涉及湿法清洁基板的设备。
背景技术
当制造平板显示器件时，在诸如玻璃基板的基板上可以执行包括清洁工艺的多个工艺。为了清洁用于平板显示器件的大面积玻璃基板，基板被传送到清洁腔以通过设置在清洁腔内的多个喷嘴将清洁液喷射到基板上，由此清洁基板。
多个喷嘴根据清洁液的排出压力而可分为若干类型。此外，通过使用清洁液清洁基板的方法可以根据排出压力而有些不同。例如，多个喷嘴可以包括喷水嘴、喷头和喷雾嘴。喷水嘴可以在大于喷头和喷雾嘴的压力下排放清洁液。喷水嘴可以通过使用从其排放的清洁液来清洁基板。此外，清洁液可以以高压撞击基板以更有效地去除附着于基板的异物诸如微粒和杂质。
发明内容
本公开提供一种能够防止清洁的基板被污染的基板清洁设备。
发明构思的实施方式提供一种清洁基板的基板清洁设备，包括清洁腔、第一清洁喷嘴、盖构件、气流产生单元以及排气单元。主清洁腔具有清洁空间并包括侧壁，基板在清洁空间中被清洁，第一排气孔限定在侧壁中。第一清洁喷嘴设置在主清洁腔中以喷射第一清洁液。盖构件覆盖主清洁腔并具有其中限定第二排气孔的一侧。气流产生单元通过第一排气孔将空气供给到清洁空间中。排气单元被联接到盖构件的该一侧以通过第二排气孔抽吸并排放供给到清洁空间的空气。
附图说明
附图被包括以提供对发明构思的进一步理解，并且被并入本说明书且构成本说明书的一部分。附图和描述一起示出发明构思的示范实施方式，并且用来解释发明构思的原理。在附图中：
图1A是根据发明构思的实施方式的基板清洁设备的透视图；
图1B是图1A的基板清洁设备的截面图；
图2A和图2B是示出在图1B的主清洁腔中产生的雾的状态的视图；以及
图3A、3B和3C是示出通过基板清洁设备排放雾的操作的视图。
具体实施方式
在下文将参考附图更具体地描述发明构思的示范实施方式。发明构思的目标、特性和效果将随着以下相关附图的图示和优选实施方式的具体描述而变得明显。然而，本公开可以以许多不同的形式实施，不应该理解为限于在此阐述的实施方式。而是，提供这些实施方式使得本公开彻底和完整，并将向本领域技术人员充分传达本发明构思的范围。因此，发明构思的范围不应该理解为限于以上描述的实施方式。在实施方式和附图中，相同的附图标记始终指代相同的元件。
将理解，虽然术语“第一”、“第二”在此使用以描述各种元件，但这些元件不应该被这些术语限制。将理解，当层、区域或元件被称为“在”另一层、区域或元件“上”时，它可以直接形成在另一层、区域或元件上，或者可以形成有介于其间的层、区域或元件。
图1A是根据发明构思的实施方式的基板清洁设备100的透视图，图1B是图1A的基板清洁设备100的截面图。
参考图1A和图1B，基板清洁设备100可以是用于执行基板SB的清洁工艺的设备。在当前实施方式中，基板清洁设备100包括传送单元150、第一辅助清洁腔R11、主清洁腔R1和第二辅助清洁腔R12。第一辅助清洁腔R11、主清洁腔R1和第二辅助清洁腔R12被连续地布置。
基板输入孔DR1设置在第一辅助清洁腔R11的外壁中，第一基板入口DR2形成在第一辅助清洁腔R11和主清洁腔R1之间。此外，第二基板入口DR3形成在第二辅助清洁腔R12和主清洁腔R1之间，基板输出孔DR4形成在第二辅助清洁腔R12的外壁中。
传送单元150设置在第一辅助清洁腔R11、主清洁腔R1和第二辅助清洁腔R12内部。因此，在基板SB通过基板输入孔DR1进入基板清洁设备100之后，基板100可以被顺序地传送到第一辅助清洁腔R11、主清洁腔R1和第二辅助清洁腔R12。此外，在清洁工艺终止之后，传送单元150可以运转以将基板SB通过基板输出孔DR4从基板清洁设备100中取出。
在当前实施方式中，传送单元150可以包括多个辊RL。在这种情况下，基板SB可以设置在多个辊RL上然后通过多个辊RL的旋转力被传送。根据另一实施方式，传送单元150可以使用传送带或传送轨以不同的方式操作来传送基板SB。
主清洁腔可以包括侧壁，侧壁包括其中设置第一排气孔的第一侧壁S1、与第一侧壁相对的第二侧壁S2、连接第一侧壁和第二侧壁的第三侧壁、以及连接第一侧壁和第二侧壁且与第三侧壁相对的第四侧壁。因此，第一清洁空间C1由多个侧壁和盖部CP限定。第一清洁喷嘴10和15以及第一到第四阻挡构件31、32、33和34设置在主清洁腔R1内。
第一清洁喷嘴10和15中的一个设置在基板SB之上以喷射第一清洁液L1到基板SB的顶表面上，第一清洁喷嘴10和15中的另一个设置在基板SB之下以喷射第一清洁液L1到基板SB的底表面上。因此，基板SB可以通过从第一清洁喷嘴10和15喷射的第一清洁液L1来清洁。
在当前实施方式中，第一清洁液L1可以是蒸馏水(DW)或去离子水(DIW)。然而，本公开不局限于一种类型的第一清洁液L1。例如，根据另一实施方式，第一清洁液L1可以包括异丙醇(IPA)。
在当前实施方式中，第一清洁喷嘴10和15可以是喷水嘴。第一清洁喷嘴10和15的每个可以以大约100bar的压力排出由高压泵产生的第一清洁液L1。因此，基板SB可以通过第一清洁液L1的成分而被清洁。此外，第一清洁液L1可以通过以高压撞击基板SB的物理力而容易地清洁附着于基板SB的异物。
第一排气孔ST1设置在形成于第一辅助清洁腔R11和主清洁腔R1之间的第一侧壁S1的上部上。空气可以通过第一排气孔ST1从第一辅助清洁腔R11供给到主清洁腔R1。
在当前实施方式中，如图3B中所示，第一排气孔ST1可以在基板清洁设备100的宽度方向(图3B中的方向D1)上延伸。此外，第一排气孔ST1可以具有平行于基板清洁设备100的宽度方向(图3B中的方向D1)的长度方向。
盖构件50覆盖主清洁腔R1。盖构件设置在主清洁腔R1上。在当前实施方式中，盖构件50包括侧部SP、与侧部SP相对的相对侧部、以及联接到侧部SP和相对侧部以覆盖主清洁腔的上部的盖部CP。侧部SP具有第一高度，相对侧部具有小于第一高度的第二高度。盖部朝向相对侧部倾斜。在当前实施方式中，盖构件50可以由透明材料诸如丙烯酸树脂形成。盖构件50可以与主清洁腔R1分离。
第二排气孔ST2设置在侧部SP上。因此，通过第一排气孔ST1从第一辅助清洁腔R11供给到主清洁腔R1的空气可以通过第二排气孔ST2排出到主清洁腔R1外部。
在当前实施方式中，如图3C中所示，第二排气孔ST2可以在侧部SP的宽度方向(图3C中的方向D1)上延伸。结果，第一排气孔ST1和第二排气孔ST2的每个可以具有平行于基板清洁设备100的宽度方向(图3C中的方向D1)的长度方向。
盖部CP被联接到侧部SP以覆盖主清洁腔R1的上侧。在当前实施方式中，在侧视图中，盖部CP可以从第二排气孔ST2朝向第一排气孔ST1倾斜。因此，即使由第一清洁空间C1中执行的清洁工艺产生的雾(见图2A的参考符号MT)在盖部CP上冷凝成露，由冷凝的雾产生的液体也不会落到基板SB上，而是沿盖部CP和第一侧壁S1流下。
大部分液体可以包括在主清洁腔R1中使用的第一清洁液L1。然而，当液体在盖部CP上被冷凝成露时，液体会被保留在盖部CP上的微粒和细菌污染。因此，如上所述，液体滴落在基板SB上会导致基板的污染。倾斜的盖部CP防止基板SB被从盖部滴落的液体污染。
此外，当空气通过第一排气孔ST1从辅助清洁腔R11供给到主清洁腔R1时，空气可以被盖部CP的倾斜形状容易地引导到第二排气孔ST2。因此，在空气经由主清洁腔R1流动时不会发生空气湍流。
在当前实施方式中，盖部CP可以关于连接第一辅助清洁腔R11和第二辅助清洁腔R12的顶板的水平线40以大约20度至大约50度的角度倾斜。
第一阻挡构件31和第二阻挡构件32被联接到第一侧壁S1以突出到第一清洁空间C1，第三阻挡构件33和第四阻挡构件34被联接到第二侧壁S2以突出到第一清洁空间C1中。此外，由于第一至第四阻挡构件31、32、33和34的每个在侧视图中是倾斜的，所以第一至第四阻挡构件31、32、33和34可以阻挡液体沿第一侧壁S1和第二侧壁S2滴落。因此，虽然在液体沿第一侧壁S1和第二侧壁S2流下时液体会被污染，但可以通过第一至第四阻挡构件31、32、33和34防止液体滴落在基板SB上从而防止基板SB被污染。
在当前实施方式中，第一至第四阻挡构件31、32、33和34可以设置在第一侧壁S1和第二侧壁S2上。在另一实施方式中，其他阻挡构件还可以设置在主清洁腔R1的除了第一侧壁S1和第二侧壁S2之外的其他侧壁上。
排气单元DP联接到盖构件50的侧部SP。侧部SP设置在第二侧壁S2上。排气单元DP通过第二排气孔ST2抽吸供给到第一清洁空间C1中的空气以将清洁空间C1中的空气排放到主清洁腔R1外部。在当前实施方式中，排气单元DP可以包括排气风门(exhaust damper)和排气泵。
第一辅助清洁腔R11具有第二清洁空间C2，基板输入孔DR1设置在第一辅助清洁腔R11的侧部。第二清洁喷嘴110、第一辅助喷嘴120、第二辅助喷嘴130、第五阻挡构件131和第六阻挡构件132设置在第一辅助清洁腔R11内。
第二清洁喷嘴110设置在基板SB上以喷射第二清洁液L2到基板SB上。因此，在基板SB通过传送单元150被传送到主清洁腔R1中之前，基板SB可以在第一辅助清洁腔R11中被清洁。
在当前实施方式中，第二清洁喷嘴110可以是喷头。每个第二清洁喷嘴110可以以小于从第一清洁喷嘴10和15排出的第一清洁液L1的压力排出第二清洁液L2。例如，如上所述，当第一清洁液L1以大约100bar的压力从第一清洁喷嘴10和15排出时，第二清洁液L2可以以大约50bar的压力从第二清洁喷嘴110排出。
第一辅助喷嘴120可以比第二清洁喷嘴110设置得更靠近基板输入孔DR1。第一辅助喷嘴120供给水到基板SB上。水可以与第二清洁液L2一起被用来清洁基板SB。
第二辅助喷嘴130设置得邻近于第一基板入口DR2。第二辅助喷嘴130竖直地喷射水到基板SB上。因此，通过第一基板入口DR2从第一清洁空间C1到第二清洁空间C2的流体的流动可以被喷射的水阻挡。在当前实施方式中，流体可以是当第一清洁喷嘴10和15喷射第一清洁液L1时产生的雾。
第五阻挡构件131和第六阻挡构件132可以设置在第一辅助清洁腔R11的侧壁上。第五阻挡构件131和第六阻挡构件132的每个可以联接到侧壁之一从而突出到第二清洁空间C2中。此外，如第一至第四阻挡构件31、32、33和34一样，第五阻挡构件131和第六阻挡构件132的每个可以在侧视图中向上倾斜。因此，沿第一辅助清洁腔R11的侧壁流下以污染基板SB的液体的流动可以被第五阻挡构件131和第六阻挡构件132阻挡。
第二辅助清洁腔R12具有第三清洁空间C3，基板输出孔DR4设置在第二辅助清洁腔R12的侧部。此外，第三清洁喷嘴210、第三辅助喷嘴220、第四辅助喷嘴230、第七阻挡构件231和第八阻挡构件232设置在第二辅助清洁腔R12内。
第三清洁喷嘴210设置在基板SB上以喷射第三清洁液L3到基板SB上。在当前实施方式中，第三清洁喷嘴210可以是喷头。每个第三清洁喷嘴210可以以小于从第一清洁喷嘴10和15排出的第一清洁液L1的压力排出第三清洁液L3。
第三辅助喷嘴220可以比第三清洁喷嘴210设置得更靠近基板入口DR3。如第一辅助喷嘴120一样，第三辅助喷嘴220供给用于清洁基板SB的水到基板SB上。
第四辅助喷嘴230设置得邻近于第二基板入口DR3。第四辅助喷嘴230竖直地喷射水到基板SB上。因此，通过第二基板入口DR3从第一清洁空间C1到第三清洁空间C3的流体的流动可以被喷射的水阻挡。在当前实施方式中，流体可以是当第一清洁喷嘴10和15喷射第一清洁液L1时产生的雾。
第七阻挡构件231和第八阻挡构件232可以设置在第三辅助清洁腔R12的侧壁上。第七阻挡构件231和第八阻挡构件232的每个可以联接到侧壁之一以突出到第三清洁空间C3中。此外，如第一至第四阻挡构件31、32、33和34一样，第七阻挡构件231和第八阻挡构件232的每个可以在侧视图中向上倾斜。因此，沿第二辅助清洁腔R12的侧壁流下以污染基板SB的液体的流动可以被第七阻挡构件231和第八阻挡构件232阻挡。
气流产生单元FU1被联接到第一辅助清洁腔R11。气流产生单元FU1设置在第一辅助清洁腔R11的顶板上。在当前实施方式中，气流产生单元FU1可以是包括风扇和过滤器的风扇过滤单元。气流产生单元FU1可以净化从基板清洁设备100外部供给的空气。净化的空气可以通过设置在第一辅助清洁腔R11上的孔170供给到第二清洁空间C2。
在当前实施方式中，引导构件160可以设置在第二清洁空间C2内。引导构件160可以具有板形。引导构件160可以横穿第二清洁空间C2内部以延伸到其中设置第一排气孔ST1的第一侧壁S1。因此，从气流产生单元FU1供给到第二清洁空间C2的空气的一部分可以通过引导构件160被引导到第一排气孔ST1。此外，另一部分空气可以通过设置在第一辅助清洁腔R11的至少一个侧壁上的第一排气孔20排放。结果，空气可以流通到第二清洁空间C2中。
在当前实施方式中，基板清洁设备100可以还包括联接到第二辅助清洁腔R12的辅助气流产生单元FU2。辅助气流产生单元FU2设置在第二辅助清洁腔R12的顶板上。辅助气流产生单元FU2可以是风扇过滤单元。辅助气流产生单元FU2可以通过设置在第二辅助清洁腔R12中的孔270供给空气到第二辅助清洁腔C3中。供给到第二辅助清洁腔R12中的空气可以通过设置在第二辅助清洁腔R12的至少一个侧壁上的第二排气孔21排放。结果，空气可以流通到第二清洁空间C2中。此外，当空气流通到第二辅助清洁腔R12中时，从主清洁腔R1引入到第二辅助清洁腔R12中的雾可以与空气一起排放。
在下文，将描述这样的工艺，其中气流产生单元FU1和排气单元DP在第一清洁空间C1内产生气流以排出填充到第一清洁空间C1中的雾。
图2A和图2B是示出在图1B的主清洁腔中产生的雾的状态的视图。
参考图2A和2B，在第一辅助清洁腔R11中在基板SB上执行清洁工艺之后，基板SB通过传送单元150被传送到主清洁腔R1中。此后，第一清洁喷嘴10和15喷射第一清洁液L1到基板SB上以在主清洁腔R1中执行清洁工艺。
在当前实施方式中，第一清洁喷嘴10和15可以以大约100bar的压力喷射第一清洁液L1到基板SB上。因此，基板SB可以通过第一清洁液L1而被清洁。此外，第一清洁液L1可以通过撞击基板SB的物理力而清洁基板SB。
在第一清洁液L1以高压被喷射到基板SB上期间，第一清洁液L1的雾MT可以由从基板SB弹回的第一清洁液L1产生。结果，一部分雾MT可以散布到第一清洁空间C1中。然后，雾MT可以在盖部CP的侧表面以及第一和第二侧壁C1和C2上冷凝成露以产生液体LC。在这种情况下，虽然液体LC沿盖部CP以及第一侧壁S1和第二侧壁S2流下，但液体的流动会被第一至第四阻挡构件31、32、33和34阻挡。此外，聚集到第一到第四阻挡构件31、32、33和34的液体LC可以沿管(见图3C的附图标记75)排出到主清洁腔R1外部。为了加速排出过程，阻挡构件31、32、33和34可以以预定角度朝向管倾斜。
图3A、3B和3C是示出通过基板清洁设备100排放雾的操作的视图。作为参考，图3B参考沿图1A的线I-I’截取的截面图示出用于通过基板清洁设备100排出雾的操作，图3C参考沿图1A的线II-II’截取的截面图示出用于通过基板清洁设备排出雾的操作。
参考图3A、3B和3C，在第一气流产生单元FU1净化从外部供给的空气AR之后，空气AR通过孔170被供给到第一辅助清洁腔R11。此外，供给到第一辅助清洁腔R11的空气AR可以通过引导构件160被引导到第一排气孔ST1。结果，空气AR可以通过第一排气孔ST1被供给到主清洁腔R1。
如上所述，第一排气孔ST1具有狭缝形状。狭缝可以具有平行于主清洁腔R1的第一侧壁S1的宽度方向D1的长度方向。与前述实施方式不同，如果设置在第一侧壁中的排气孔具有相应于将主清洁腔R1连接到第一辅助清洁腔R11的圆柱形管的形状，则在排气孔周围会发生空气湍流。因此，穿过排气孔的空气不能平稳地流动。然而，在当前实施方式中，由于第一排气孔ST1具有狭缝形状，所以在第一排气孔ST1周围会发生水平气流。结果，空气AR会平稳地从第一辅助清洁腔R11流动到主清洁腔R1。
在空气AR从第一辅助清洁腔R11流动到主清洁腔R1时，排气单元DP可以工作以抽取流入主清洁腔R1中的空气AR。因此，供给到主清洁腔R1中的空气AR可以通过第二排气孔ST2由排气单元DP排出。
与第一排气孔ST1一样，第二排气孔ST2可以具有在主清洁腔R1的第二侧壁的宽度方向D1延伸的狭缝形状。因此，水平气流会在第二排气孔ST2周围发生以通过第二排气孔ST2平稳地将空气AR排放到外部。
如上所述，空气AR的流动可以控制在第一辅助清洁腔R11和主清洁腔R1内。因此，穿越主清洁腔R1的第一清洁空间C1的气流AF可以被气流产生单元FU1和排气单元DP控制。在这种情况下，即使在第一清洁空间C1中产生雾MT，雾MT可以由气流AF通过第二排气孔ST2容易地排放到外部。即，雾MT可以与沿上述路径排放到外部的空气AR一起被容易地排放到主清洁腔R1外部。
根据用于通过基板清洁设备去除雾MT的操作，由于散布到主清洁腔R1中的雾MT利用气流AF而被容易地去除，所以不必将盖构件50从主清洁腔R1分离来去除在主清洁腔R1和盖构件50上冷凝成露的雾MT。此外，由于基板清洁设备100具有用于去除可能作为基板SB的污染源的雾MT的自去除功能，所以基板清洁设备100的操作可以更容易。此外，维护基板清洁设备100所需的人力和成本可以降低。
根据发明构思的基板清洁设备可以具有能够通过自身去除雾和由雾产生的液体的功能。通过使用发明构思的基板清洁设备可以防止由于雾和液体导致的基板的污染。因此，维护基板清洁设备100所需的人力和成本可以降低。
对本领域技术人员来说明显的是，可以在发明构思中进行各种修改和变化。因此，发明构思旨在覆盖在权利要求及其等同物范围内的本发明的修改和变化。因此，发明构思的实际保护范围应该由所附权利要求的技术范围确定。
本专利申请要求于2013年11月19日提交的韩国专利申请No.10-2013-0140683的优先权，其全部内容通过引用合并在此。
Claims (15)
1.一种清洁基板的基板清洁设备，所述基板清洁设备包括：
主清洁腔，具有清洁空间，所述基板在所述清洁空间中被清洁，所述主清洁腔包括其中限定第一排气孔的侧壁；
至少一个第一清洁喷嘴，设置在所述主清洁腔中以喷射第一清洁液；
覆盖所述主清洁腔的盖构件，所述盖构件具有其中限定第二排气孔的一侧；
气流产生单元，通过所述第一排气孔将空气供给到所述清洁空间中；以及
排气单元，联接到所述盖构件的所述一侧以通过所述第二排气孔抽吸并排放供给到所述清洁空间的空气。
2.如权利要求1所述的设备，其中所述气流产生单元和所述排气单元在所述清洁空间中产生气流，所述气流由通过所述第一排气孔和第二排气孔穿过所述清洁空间的空气的流动而限定。
3.如权利要求2所述的设备，其中所述气流产生单元和所述排气单元通过使用所述气流将由所述第一清洁液产生并填充到所述清洁空间中的雾排放到所述主清洁腔的外部。
4.如权利要求2所述的设备，还包括：
第一辅助清洁腔，设置得邻近于所述主清洁腔的所述侧壁；
至少一个第二清洁喷嘴，设置在所述第一辅助清洁腔中以喷射第二清洁液；
第二辅助清洁腔，面对所述第一辅助清洁腔且所述主清洁腔位于所述第一辅助清洁腔和第二辅助清洁腔之间；
至少一个第三清洁喷嘴，设置在所述第二辅助清洁腔中以喷射第三清洁液；以及
传送单元，设置在所述第一辅助清洁腔、所述主清洁腔和所述第二辅助清洁腔中以传送所述基板。
5.如权利要求4所述的设备，其中所述气流产生单元通过限定在所述第一辅助清洁腔中的孔将所述空气供给到所述第一辅助清洁腔，供给到所述第一辅助清洁腔的空气通过第一排气孔被供给到所述清洁空间。
6.如权利要求5所述的设备，还包括设置在所述第一辅助清洁腔内以延伸到所述第一排气孔的引导构件，其中所述引导构件将供给到所述第一辅助清洁腔中的空气引导到所述第一排气孔。
7.如权利要求4所述的设备，其中所述第一清洁喷嘴以第一压力喷射所述第一清洁液，所述第二清洁喷嘴以第二压力喷射所述第二清洁液，所述第三清洁喷嘴以第三压力喷射所述第三清洁液，
其中所述第一压力大于所述第二压力和第三压力的每个。
8.如权利要求4所述的设备，还包括：
第一辅助喷嘴，设置在所述第一辅助清洁腔内以喷射第一流体，所述第一辅助喷嘴阻挡由第一清洁液产生并通过第一基板入口引入到所述第一辅助清洁腔中的雾；和
第二辅助喷嘴，设置在所述第二辅助清洁腔内以喷射第二流体，所述第二辅助喷嘴阻挡通过第二基板入口引入到所述第二辅助清洁腔中的雾，
其中在所述主清洁腔中限定与所述第一辅助清洁腔连通的所述第一基板入口，在所述主清洁腔中限定与所述第二辅助清洁腔连通的所述第二基板入口。
9.如权利要求4所述的设备，还包括辅助气流产生单元，所述辅助气流产生单元通过限定在所述第二辅助清洁腔中的孔将空气供给到所述第二辅助清洁腔中以阻挡被引入所述第二辅助清洁腔的雾。
10.如权利要求4所述的设备，其中所述第一清洁喷嘴包括喷水嘴，所述第二清洁喷嘴和第三清洁喷嘴的每个包括喷雾嘴或喷头。
11.如权利要求1所述的设备，其中所述第一排气孔和第二排气孔的每个具有在所述主清洁腔的所述侧壁的宽度方向上延伸的狭缝形状。
12.如权利要求1所述的设备，其中所述盖构件包括：
侧部，所述第二排气孔限定在所述侧部中，所述侧部被联接到所述排气单元；以及
盖部，联接到所述侧部以覆盖所述主清洁腔的上部，
其中所述盖部在侧视图中从所述第二排气孔到所述第一排气孔倾斜。
13.如权利要求12所述的设备，其中所述盖部将通过所述第一排气孔被供给到所述清洁空间中的空气引导到所述第二排气孔。
14.如权利要求1所述的设备，还包括从所述主清洁腔的所述侧壁及其他侧壁中的至少一个突出到所述清洁空间中的阻挡构件，以阻挡沿所述侧壁及其他侧壁下降的液体。
15.如权利要求1所述的设备，其中所述第一清洁喷嘴包括喷水嘴。
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