CN104538332A - 一种湿制程机台的腔室结构 - Google Patents

一种湿制程机台的腔室结构 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种湿制程机台的腔室结构包括:一空腔室,以及设置于所述空腔室内的第一喷嘴、制程基板、滚轮装置;所述第一喷嘴用于喷洒液体以对位于所述滚轮装置上方的所述制程基板进行清洗;所述湿制程机台的腔室结构还包括:一设置于所述空腔室内的倾斜板,所述倾斜板设置于所述空腔室顶部,且所述倾斜板与水平方向的所述空腔室顶部呈一定夹角设置,所述倾斜板用于将所述倾斜板聚集的液滴排出至非制程品区域。本发明的倾斜板聚集的液滴能够流向空腔室内的侧壁,而不会掉在制程品区域,避免了产品污染。

Description

一种湿制程机台的腔室结构
【技术领域】
[0001] 本发明涉及湿制程技术领域,特别涉及一种湿制程机台的腔室结构。
【背景技术】
[0002] 在现有技术中,湿制程机台腔室顶部为水平设计,并无导流作用。然而,在湿制程过程中,喷嘴会喷出液体,该液体在高温作用下,容易产生水蒸气,该水蒸气会聚集在腔室顶部,因此容易形成液滴,当液滴聚集过多时,液滴会落下,沾染到制程基板上,从而导致制程基板会出现类似水滴状色不均现象,影响产品的良莠率。
[0003] 故,有必要提出一种新的技术方案,以解决上述技术问题。
【发明内容】
[0004] 本发明的目的在于提供一种湿制程机台的腔室结构,旨在解决现有技术中存在的湿制程机台腔室顶部由于水平设计,因此容易聚集液滴,当液滴聚集过多时,液滴会落下,沾染到制程基板上,从而导致制程基板会出现类似水滴状色不均现象,影响产品的良莠率的问题。
[0005] 为解决上述问题,本发明的技术方案如下:
[0006] 一种湿制程机台的腔室结构,所述湿制程机台的腔室结构包括:一空腔室,以及设置于所述空腔室内的第一喷嘴、制程基板、滚轮装置;所述第一喷嘴用于喷洒液体以对位于所述滚轮装置上方的所述制程基板进行清洗;
[0007] 所述湿制程机台的腔室结构还包括:一设置于所述空腔室内的倾斜板,所述倾斜板设置于所述空腔室顶部,且所述倾斜板与水平方向的所述空腔室顶部呈一定夹角设置,所述倾斜板用于将所述倾斜板聚集的液滴排出至非制程品区域。
[0008] 优选的,在所述倾斜板的下表面设置有多条凹槽,所述多条凹槽之间平行排列;其中,所述凹槽具有一排出口。
[0009] 优选的,所述湿制程机台的腔室结构还包括:一设置于所述空腔室内的第二喷嘴;所述第一喷嘴设置于所述制程基板上方,所述第二喷嘴设置于所述滚轮装置下方;其中,所述第一喷嘴,用于对所述制程基板上表面进行清洗;所述第二喷嘴,用于对所述制程基板下表面进行清洗;所述滚轮装置,用于传输所述制程基板至另一腔室。
[0010] 优选的,所述倾斜板覆盖整个所述制程基板上方的区域。
[0011] 优选的,所述倾斜板与水平方向的所述空腔室顶部之间的所述夹角范围在10度至80度之间。
[0012] 优选的,在所述空腔室的第一侧壁内表面设置有一突台,其中,所述第一侧壁为与所述凹槽排出口连接的侧壁;所述突台,用于收集通过所述凹槽流下的液滴。
[0013] 优选的,所述凹槽的横截面呈半圆形、三角形或梯形。
[0014] 优选的,所述凹槽与所述倾斜板一体成型。
[0015] 优选的,所述突台包括第一挡板和第二挡板,所述第一挡板和第二挡板呈一定夹角设置,所述突台收集的液滴通过所述第一挡板和第二挡板排到所述第一侧壁两侧。
[0016] 优选的,所述第一挡板和第二挡板之间的所述夹角范围在120度至170度之间。
[0017] 相对现有技术,本发明通过在空腔室内的顶部设置一倾斜板,且所述倾斜板与水平方向的所述空腔室顶部呈一定夹角设置,所述倾斜板用于将所述倾斜板聚集的液滴排出至非制程品区域;因此空腔室内聚集的液滴不会落到制程基板上,而是从空腔室的侧壁流走,有效的保护了制程基板的质量。
[0018] 为让本发明的上述内容能更明显易懂,下文特举优选实施例,并配合所附图式,作详细说明如下。
【附图说明】
[0019] 图1为本发明实施例一提供的湿制程机台的腔室结构的示意图;
[0020]图2为本发明实施例一提供的倾斜板的结构示意图;
[0021] 图3为本发明实施例一提供的空腔室的第一侧壁的结构示意图;
[0022] 图4为本发明实施例二提供的湿制程机台的腔室结构的示意图;
[0023] 图5为本发明实施例二提供的倾斜板的结构示意图;
[0024] 图6为本发明实施例二提供的空腔室的第一侧壁的结构示意图;
【具体实施方式】
[0025] 本说明书所使用的词语“实施例”意指用作实例、示例或例证。此外,本说明书和所附权利要求中所使用的冠词“一”一般地可以被解释为意指“一个或多个”,除非另外指定或从上下文清楚导向单数形式。
[0026] 在本发明实施例中,通过在空腔室内的顶部设置一倾斜板,且所述倾斜板与水平方向的所述空腔室顶部呈一定夹角设置,所述倾斜板用于将所述倾斜板聚集的液滴排出至非制程品区域;因此,本发明实施例提供的湿制程机台的腔室结构,解决了现有技术中存在的湿制程机台腔室顶部由于水平设计,因此容易聚集液滴,当液滴聚集过多时,液滴会落下,沾染到制程基板上,从而导致制程基板会出现类似水滴状色不均现象,影响产品的良莠率的问题。
[0027] 实施例一
[0028] 请参阅图1,为本发明实施例一提供的湿制程机台的腔室结构的示意图;为了便于说明,仅示出了与本发明实施例相关的部分。
[0029] 所述湿制程机台的腔室结构包括:一空腔室101、第一喷嘴102、制程基板103、滚轮装置104、以及第二喷嘴105 ;其中,所述第一喷嘴102、制程基板103、滚轮装置104、以及第二喷嘴105均设置于所述空腔室101内,所述第一喷嘴102用于喷洒液体以对位于所述滚轮装置104上方的所述制程基板103进行清洗。具体的,所述第一喷嘴102设置于所述制程基板103上方,所述滚轮装置104设置于所述制程基板103下方,所述第二喷嘴105设置于所述滚轮装置104下方;其中,所述第一喷嘴102,用于对所述制程基板103上表面进行清洗,所述第二喷嘴105,用于对所述制程基板103下表面进行清洗;所述滚轮装置104,用于传输所述制程基板103至另一腔室。
[0030] 然而,可以理解的是,所述第一喷嘴102可以包括多个,可以通过一主杆将这多个所述第一喷嘴102挂接起来;同样,所述第二喷嘴105也可以包括多个,也可以通过一主杆将这多个所述第二喷嘴105挂接起来;或者是,将这多个所述第二喷嘴105直接间隔的安装在空腔室101内的底部。设置多个所述第一喷嘴102和所述第二喷嘴105的好处是:能够对制程基板103的整个板面均清洗到,一次清洗到位,从而节省了清洗时间以及清洗次数。
[0031] 然而,可以理解的是,所述滚轮装置104包括多个滚轮,滚轮与滚轮之间间隔设置,多个滚轮能够有效的将所述制程基板103传输至另一腔室。
[0032] 在本发明实施例中,多个所述第二喷嘴105分别对应滚轮与滚轮之间的间隔处而设置,这样所述第二喷嘴105喷出的液体通过该间隔处喷向所述制程基板103下表面,从而对所述制程基板103下表面进行清洗。
[0033] 在本发明实施例中,所述湿制程机台的腔室结构还包括:一设置于所述空腔室内的倾斜板106,所述倾斜板106设置于所述空腔室101顶部,且所述倾斜板106与水平方向的所述空腔室101顶部呈一定夹角设置,所述倾斜板106用于将所述倾斜板106聚集的液滴排出至非制程品区域。
[0034] 在本发明实施例中,所述倾斜板106与水平方向的所述空腔室101顶部之间的所述夹角范围在10度至80度之间。优选的是,所述倾斜板106与水平方向的所述空腔室101顶部之间的所述夹角为30度,这样,具能有效的将所述倾斜板106聚集的液滴排出至非制程品区域,又能减少占用空间。因为这个角度的设计,使得所述倾斜板106不需要设置的太低,从而有效的减少占用空间。
[0035] 请参阅图2,图2为本发明实施例一提供的倾斜板的结构示意图。作为本发明一优选实施例,在所述倾斜板106的下表面设置有多条凹槽1061,所述多条凹槽1061之间平行排列;其中,所述凹槽1061具有一排出口。所述多条凹槽1061依次连接在一起,即所述凹槽1061与所述凹槽1061之间没有间隙,这样设计的好处是:防止所述倾斜板106聚集的液滴落到制程基板上;由于所述凹槽1061与所述凹槽1061之间没有间隙,那么所述倾斜板106聚集的液滴都会通过凹槽1061流向所述空腔室101的侧壁。
[0036] 然而,可以理解的是,所述多条凹槽1061之间不一定平行排列;例如,可以是所述多条凹槽1061的远离排出口的一端聚集在一起,而所述多条凹槽1061的排出口的这一端则分开,且所述凹槽1061与所述凹槽1061之间同样没有间隙,即多条凹槽1061的排列呈扇形。这种排列设计,同样由于所述凹槽1061与所述凹槽1061之间没有间隙,那么所述倾斜板106聚集的液滴都会通过凹槽1061流向所述空腔室101的侧壁。
[0037] 可以理解的是,只要是每一条凹槽1061的排出口不会被挡住,且每一条凹槽1061的排出口均能够与所述空腔室101的侧壁相通,那么不管凹槽1061的排列如何,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
[0038] 作为本发明另一优选实施例,所述倾斜板106覆盖整个所述制程基板103上方的区域,即所述倾斜板106的面积大于所述制程基板103的面积。这样所述倾斜板106聚集的液滴不会掉到制程基板区域,而是通过凹槽1061流向所述空腔室101的侧壁。
[0039] 作为本发明一实施例,所述凹槽1061的横截面呈三角形,这样能够加速液滴流向所述空腔室101的侧壁。
[0040] 请参阅图3,图3为本发明实施例一提供的空腔室的第一侧壁的结构示意图。作为本发明另一优选实施例,在所述空腔室101的第一侧壁107内表面设置有一突台1071,其中,所述第一侧壁107为与所述凹槽1061排出口连接的侧壁;所述突台1071,用于收集通过所述凹槽1061流下的液滴。然而,可以理解的是,在这里的第一侧壁107可以是所述空腔室101的四个侧壁中的其中一个。
[0041] 进一步优选的,在所述空腔室101第二侧壁108上设置有传输口,所述传输口为将所述制程基板103传输至另一腔室的口 ;其中,所述第一侧壁107与所述第二侧壁108相对设置。这里,将所述突台1071设置在用于传输所述制程基板103至另一腔室的侧壁的相对的所述第一侧壁107,这样的好处是,所述倾斜板106聚集的液滴绝对不会流向制程基板。
[0042] 在本发明实施例中,所述凹槽1061与所述倾斜板106可一体成型;也可以是提供一倾斜板106,然后在倾斜板106上设置凹槽1061。
[0043] 实施例二
[0044] 请参阅图4,为本发明实施例二提供的湿制程机台的腔室结构的示意图;为了便于说明,仅示出了与本发明实施例相关的部分。
[0045] 所述湿制程机台的腔室结构包括:一空腔室201、第一喷嘴202、制程基板203、滚轮装置204、以及第二喷嘴205 ;其中,所述第一喷嘴202、制程基板203、滚轮装置204、以及第二喷嘴205均设置于所述空腔室201内;具体的,所述第一喷嘴202设置于所述制程基板203上方,所述滚轮装置204设置于所述制程基板203下方,所述第二喷嘴205设置于所述滚轮装置204下方;其中,所述第一喷嘴202,用于对所述制程基板203上表面进行清洗,所述第二喷嘴205,用于对所述制程基板203下表面进行清洗;所述滚轮装置204,用于传输所述制程基板203至另一腔室。
[0046] 然而,可以理解的是,所述第一喷嘴202可以包括多个,可以通过一主杆将这多个所述第一喷嘴202挂接起来;同样,所述第二喷嘴205也可以包括多个,也可以通过一主杆将这多个所述第二喷嘴205挂接起来;或者是,将这多个所述第二喷嘴205直接间隔的安装在空腔室201内的底部。设置多个所述第一喷嘴202和所述第二喷嘴205的好处是:能够对制程基板203的整个板面均清洗到,一次清洗到位,从而节省了清洗时间以及清洗次数。
[0047] 然而,可以理解的是,所述滚轮装置204包括多个滚轮,滚轮与滚轮之间间隔设置,多个滚轮能够有效的将所述制程基板203传输至另一腔室。
[0048] 在本发明实施例中,多个所述第二喷嘴205分别对应滚轮与滚轮之间的间隔处而设置,这样所述第二喷嘴205喷出的液体通过该间隔处喷向所述制程基板203下表面,从而对所述制程基板203下表面进行清洗。
[0049] 在本发明实施例中,所述湿制程机台的腔室结构还包括:一设置于所述空腔室内的倾斜板206,所述倾斜板206设置于所述空腔室201顶部,且所述倾斜板206与水平方向的所述空腔室201顶部呈一定夹角设置,所述倾斜板206用于将所述倾斜板206聚集的液滴排出至非制程品区域。
[0050] 在本发明实施例中,所述倾斜板206与水平方向的所述空腔室201顶部之间的所述夹角范围在10度至80度之间。优选的是,所述倾斜板206与水平方向的所述空腔室201顶部之间的所述夹角为30度,这样,具能有效的将所述倾斜板206聚集的液滴排出至非制程品区域,又能减少占用空间。因为这个角度的设计,使得所述倾斜板206不需要设置的太低,从而有效的减少占用空间。
[0051] 请参阅图5,图5为本发明实施例二提供的倾斜板的结构示意图。作为本发明一优选实施例,在所述倾斜板206的下表面设置有多条凹槽2061,所述多条凹槽2061之间平行排列;其中,所述凹槽2061具有一排出口。所述多条凹槽2061依次连接在一起,即所述凹槽2061与所述凹槽2061之间没有间隙,这样设计的好处是:防止所述倾斜板206聚集的液滴落到制程基板上;由于所述凹槽2061与所述凹槽2061之间没有间隙,那么所述倾斜板206聚集的液滴都会通过凹槽2061流向所述空腔室201的侧壁。
[0052] 然而,可以理解的是,所述多条凹槽2061之间不一定平行排列;例如,可以是所述多条凹槽2061的远离排出口的一端聚集在一起,而所述多条凹槽2061的排出口的这一端则分开,且所述凹槽2061与所述凹槽2061之间同样没有间隙,即多条凹槽2061的排列呈扇形。这种排列设计,同样由于所述凹槽2061与所述凹槽2061之间没有间隙,那么所述倾斜板206聚集的液滴都会通过凹槽2061流向所述空腔室201的侧壁。
[0053] 可以理解的是,只要是每一条凹槽2061的排出口不会被挡住,且每一条凹槽2061的排出口均能够与所述空腔室201的侧壁相通,那么不管凹槽2061的排列如何,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
[0054] 作为本发明另一优选实施例,所述倾斜板206覆盖整个所述制程基板203上方的区域,即所述倾斜板206的面积大于所述制程基板203的面积。这样所述倾斜板206聚集的液滴不会掉到制程基板区域,而是通过凹槽2061流向所述空腔室201的侧壁。
[0055] 作为本发明一实施例,所述凹槽2061的横截面呈半圆形,这样能够加速液滴流向所述空腔室201的侧壁。然而,可以理解的是,所述凹槽2061的横截面也可以呈梯形,这样能够加速液滴流向所述空腔室201的侧壁。可以理解的是,所述凹槽2061的横截面也可以是其他形状的凹槽,凡在本发明的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
[0056] 请参阅图6,图6为本发明实施例二提供的空腔室的第一侧壁的结构示意图。作为本发明另一优选实施例,在所述空腔室201的第一侧壁207内表面设置有一突台,进一步优选的,所述突台包括第一挡板2071和第二挡板2072,所述第一挡板2071和第二挡板2072呈一定夹角设置,所述突台收集的液滴通过所述第一挡板2071和第二挡板2072排到所述第一侧壁两侧。例如,所述第一挡板2071和第二挡板2072交接呈金字塔形状,这种设计,能更好的将液滴排到所述第一侧壁两侧。又如,所述第一挡板2071和第二挡板2072之间的所述夹角范围在120度至170度之间;优选的是,所述第一挡板2071和第二挡板2072之间的所述夹角为160度。其中,所述第一侧壁207为与所述凹槽2061排出口连接的侧壁。然而,可以理解的是,在这里的第一侧壁207可以是所述空腔室201的四个侧壁中的其中一个。
[0057] 进一步优选的,在所述空腔室201第二侧壁208上设置有传输口,所述传输口为将所述制程基板203传输至另一腔室的口;其中,所述第一侧壁207与所述第二侧壁208相对设置。这里,将所述突台2071设置在用于传输所述制程基板203至另一腔室的侧壁的相对的所述第一侧壁207,这样的好处是,所述倾斜板206聚集的液滴绝对不会流向制程基板。
[0058] 在本发明实施例中,所述凹槽2061与所述倾斜板206可一体成型;也可以是提供一倾斜板206,然后在倾斜板206上设置凹槽2061。
[0059] 综上所述,通过在空腔室内的顶部设置一倾斜板,且所述倾斜板与水平方向的所述空腔室顶部呈一定夹角设置,所述倾斜板用于将所述倾斜板聚集的液滴排出至非制程品区域;因此,本发明实施例提供的湿制程机台的腔室结构,由于在空腔室内的顶部设置一倾斜板,因此所述倾斜板聚集的液滴能够流向空腔室内的侧壁,而不会掉在制程品区域,避免了产品污染。
[0060] 尽管已经相对于一个或多个实现方式示出并描述了本发明,但是本领域技术人员基于对本说明书和附图的阅读和理解将会想到等价变型和修改。本发明包括所有这样的修改和变型,并且仅由所附权利要求的范围限制。特别地关于由上述组件执行的各种功能,用于描述这样的组件的术语旨在对应于执行所述组件的指定功能(例如其在功能上是等价的)的任意组件(除非另外指示),即使在结构上与执行本文所示的本说明书的示范性实现方式中的功能的公开结构不等同。此外,尽管本说明书的特定特征已经相对于若干实现方式中的仅一个被公开,但是这种特征可以与如可以对给定或特定应用而言是期望和有利的其他实现方式的一个或多个其他特征组合。而且,就术语“包括”、“具有”、“含有”或其变形被用在具体实施方式或权利要求中而言,这样的术语旨在以与术语“包含”相似的方式包括。
[0061] 综上所述,虽然本发明已以优选实施例揭露如上,但上述优选实施例并非用以限制本发明,本领域的普通技术人员,在不脱离本发明的精神和范围内,均可作各种更动与润饰,因此本发明的保护范围以权利要求界定的范围为准。

Claims (10)

1.一种湿制程机台的腔室结构,其特征在于,所述湿制程机台的腔室结构包括:一空腔室,以及设置于所述空腔室内的第一喷嘴、制程基板、滚轮装置;所述第一喷嘴用于喷洒液体以对位于所述滚轮装置上方的所述制程基板进行清洗; 所述湿制程机台的腔室结构还包括:一设置于所述空腔室内的倾斜板,所述倾斜板设置于所述空腔室顶部,且所述倾斜板与水平方向的所述空腔室顶部呈一定夹角设置,所述倾斜板用于将所述倾斜板聚集的液滴排出至非制程品区域。
2.根据权利要求1所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,在所述倾斜板的下表面设置有多条凹槽,所述多条凹槽之间平行排列;其中,所述凹槽具有一排出口。
3.根据权利要求1所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,所述湿制程机台的腔室结构还包括:一设置于所述空腔室内的第二喷嘴;所述第一喷嘴设置于所述制程基板上方,所述第二喷嘴设置于所述滚轮装置下方;其中,所述第一喷嘴,用于对所述制程基板上表面进行清洗;所述第二喷嘴,用于对所述制程基板下表面进行清洗;所述滚轮装置,用于传输所述制程基板至另一腔室。
4.根据权利要求2所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,所述倾斜板覆盖整个所述制程基板上方的区域。
5.根据权利要求1所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,所述倾斜板与水平方向的所述空腔室顶部之间的所述夹角范围在10度至80度之间。
6.根据权利要求2所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,在所述空腔室的第一侧壁内表面设置有一突台,其中,所述第一侧壁为与所述凹槽排出口连接的侧壁;所述突台,用于收集通过所述凹槽流下的液滴。
7.根据权利要求2所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,所述凹槽的横截面呈半圆形、三角形或梯形。
8.根据权利要求2所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,所述凹槽与所述倾斜板一体成型。
9.根据权利要求6所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,所述突台包括第一挡板和第二挡板,所述第一挡板和第二挡板呈一定夹角设置,所述突台收集的液滴通过所述第一挡板和第二挡板排到所述第一侧壁两侧。
10.根据权利要求9所述的湿制程机台的腔室结构,其特征在于,所述第一挡板和第二挡板之间的所述夹角范围在120度至170度之间。
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