CN104508562A - 显像液的处理装置和处理方法 - Google Patents

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Abstract

本发明的目的在于，提供：消除与产生浮渣伴随的问题，非常有助于改善产品不良率、提高制备装置的运行率或通过高效率地回收贵金属来降低制备成本等的显像液的处理装置和处理方法。本发明提供显像液的处理装置，其中，所述装置具备：通过离心将显像处理后的显像液分离为澄清液和残渣的离心机，和将上述澄清液脱泡并排出的脱泡装置。

Description

显像液的处理装置和处理方法
技术领域
本发明涉及显像液的处理装置和处理方法。
背景技术
图案指基板上的特定材料的形状，例如，对于等离子体显示屏，不仅着眼于它的背面板，而且电极、间隔壁和荧光体各自具有复杂的图案。在这样的图案中，导电图案指基板上的导电材料的形状，作为形成该导电性图案的材料，已知含有导电性填充剂的非煅烧型感光性导电糊剂。非煅烧型感光性导电糊剂的导电性填充剂彼此通过较低温的固化工序中的固化收缩而相互接触，从而展现导电性，由于也可在耐热性差的薄膜基板等上形成导电图案，所以进行了面向智能电话和电子黑板的触摸面板的细距配线的开发(专利文献1~5)。
使用感光性导电糊剂的导电图案形成方法是这样的方法：通过隔着具有所希望的图案的光掩模对由感光性导电糊剂形成的涂膜等照射光进行曝光，以产生显像液中的溶解度差，使溶解成分在显像液中洗脱而形成图案。这样，使用感光性导电糊剂的导电图案形成方法必须具备使用显像液的显像处理工序。
在显像处理后的显像液中，不溶性的无机成分和有机成分的块作为不溶成分残留。这些不溶成分(即残渣)例如在等离子体显示屏背面板的间隔壁图案形成过程等中大量产生。为了再利用显像处理后的显像液以再次用于显像处理，需要从显像处理后的显像液中除去残渣，以防止被显像物的污染、显像处理工序装置的堵塞等。另一方面，由于例如用于形成电极图案的感光性导电糊剂含有银等贵金属，所以从显像处理后的显像液中分离残渣还具有作为资源回收的意义。
作为用于从显像处理后的显像液分离残渣的方法，已知使用过滤器或沉淀槽的方法，但具有过滤器的更换频率高或更换过滤器时需要装置停止、或者需要用于降低流速的大容量的沉淀槽等各种问题。因此，作为代替这些方法的方法，开发了离心法(专利文献5和6)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1：日本特开昭59-143149号公报
专利文献2：日本特开平5-75273号公报
专利文献3：日本特许第4034555号公报
专利文献4：日本特许第4319625号公报
专利文献5：日本特许第3191772号公报
专利文献6：日本特开2005-292189号公报。
发明内容
发明所要解决的课题
但是，就通过离心法分离残渣而言，虽然可有效地回收银等高比重(约为10)的无机成分，但低比重的有机物等不溶成分的除去效率低；另外，由于将大量的空气引入显像液中，所以它们混入离心后的显像液中凝集，产生作为悬浮物的浮渣。这样的浮渣在使用非煅烧型感光性导电糊剂的导电图案形成方法中特别容易产生，伴有由浮渣导致的管道堵塞、各种传感器的错误工作或显像处理后的导电图案的缺陷等诸多问题乃是实情。
因此，本发明的目的在于，提供：消除与产生浮渣伴随的问题，非常有助于改善产品不良率、提高制备装置的运行率或通过高效率地回收贵金属来降低制备成本等的显像液的处理装置和处理方法。
解决课题的手段
因此，本发明人在不考虑除去产生的浮渣而首先考虑抑制浮渣的产生的同时进行了深入研究，结果发现，显像处理后的显像液的脱泡与一定条件下的流动的组合对抑制浮渣的产生极其有效，从而完成本发明。
即，本发明提供以下(1)~(10)所记载的显像液的处理装置和处理方法。
(1) 显像液的处理装置，其中，所述装置具备：通过离心将显像处理后的显像液分离为澄清液和残渣的离心机，和将上述澄清液脱泡并排出的脱泡装置。
(2) 上述(1)记载的处理装置，其中，所述装置具备：将显像处理后的显像液离心以得到澄清液和残渣的离心机，贮存上述澄清液的第1罐，将上述第1罐内的澄清液脱泡并排出的脱泡装置，将从上述脱泡装置排出的澄清液与未使用的显像液混合并贮存的第2罐，和将从上述第2罐溢出的澄清液从上述第1罐的上方供给至上述第1罐的单元。
(3) 上述(1)记载的处理装置，其中，所述装置具备：将显像处理后的显像液离心以得到澄清液和残渣的离心机，贮存上述澄清液的第1罐，将上述第1罐内的澄清液脱泡并排出的脱泡装置，将从上述脱泡装置排出的澄清液与未使用的显像液混合并贮存的第2罐，和将从上述第1罐溢出的澄清液从上述第2罐的上方供给至上述第2罐的单元。
(4) 上述(2)或(3)记载的处理装置，其中，上述第1罐与上述第2罐以夹持隔板的状态毗邻。
(5) 上述(2)~(4)中任一项所记载的处理装置，其中，从上述第1罐或上述第2罐溢出的澄清液沿着上述隔板流动，供给至另一个罐。
(6) 上述(2)~(5)中任一项所记载的处理装置，其中，在上述第1罐中贮存的澄清液的液面与在上述第2罐中贮存的澄清液的液面的高低差为5cm以上。
(7) 上述(2)~(6)中任一项所记载的处理装置，其中，从上述第1罐或上述第2罐的上方供给的澄清液的垂直方向的流速为15cm/s以上。
(8) 上述(2)~(7)中任一项所记载的处理装置，其中，从上述脱泡装置排出的澄清液的气泡率为10%以下。
(9) 显像液的处理方法，其中，所述方法具备：将显像处理后的显像液离心以分离得到澄清液与残渣的离心工序，和将上述澄清液脱泡以得到脱泡显像液的脱泡工序。
(10) 上述(9)所记载的处理方法，其中，所述方法具备：将上述脱泡显像液与未使用的显像液混合以得到混合显像液的混合工序，和将上述混合显像液的一部分供给至上述显像处理、将上述混合显像液的一部分从上述脱泡前的所述澄清液的上方供给至上述脱泡工序的回流工序。
发明的效果
根据本发明的显像液的处理装置，可大幅抑制浮渣的产生，可实现产品不良率的改善、制备装置的运行率的提高或通过高效率的贵金属的回收来降低制备成本等。
附图说明
图1为示出具备以往的显像液的处理装置的显像处理工序的示意图；
图2为示出具备本发明的第一实施方式所涉及的显像液的处理装置的显像处理工序的示意图；
图3为示出具备本发明的第二实施方式所涉及的显像液的处理装置的显像处理工序的示意图；
图4为示出具备本发明的第三实施方式所涉及的显像液的处理装置的显像处理工序的示意图。
具体实施方式
本发明的显像液的处理装置的特征在于，具备：通过离心将显像处理后的显像液分离为澄清液和残渣的离心机，和将上述澄清液脱泡并排出的脱泡装置。
另外，本发明的显像液的处理方法的特征在于，具备：通过离心将显像处理后的显像液分离得到澄清液和残渣的离心工序，和将上述澄清液脱泡以得到脱泡显像液的脱泡工序。
在将显像处理后的显像液再利用的情况下，从防止浮渣产生、有效地分离残渣和提高澄清液的澄清度的方面出发，优选将其全部供给至离心机而得的澄清液作为显像液再利用。
图2所示的本发明的第一实施方式所涉及的显像液的处理装置的特征在于，具备：将显像处理后的显像液离心以得到澄清液和残渣的离心机，贮存上述澄清液的第1罐，将上述第1罐内的澄清液脱泡并排出的脱泡装置，将从上述脱泡装置排出的澄清液与未使用的显像液混合并贮存的第2罐，和将从上述第2罐溢出的澄清液从上述第1罐的上方供给至上述第1罐的单元。
另外，图3所示的本发明的第二实施方式所涉及的显像液的处理装置的特征在于，具备：将显像处理后的显像液离心以得到澄清液和残渣的离心机，贮存上述澄清液的第1罐，将上述第1罐内的澄清液脱泡并排出的脱泡装置，将从上述脱泡装置排出的澄清液与未使用的显像液混合并贮存的第2罐，和将从上述第1罐溢出的澄清液从上述第2罐的上方供给至上述第2罐的单元。
图4所示的本发明的第三实施方式所涉及的显像液的处理装置的特征在于，具备：通过离心将显像处理后的显像液分离为澄清液和残渣的离心机，和将上述澄清液脱泡并排出的脱泡装置。
“离心”是下述方法：利用显像液中的固体成分即不溶成分的残渣与显像液的比重之差，通过离心力将残渣与显像液分离，得到从显像液除去了残渣的澄清液。换言之，澄清液指除去了残渣的显像液。澄清液可含有以无法通过离心力完全分离的有机粒子为代表的有机物等不溶成分。另一方面，残渣通常以无机粒子作为主要成分。
机械地实现这样的离心的装置为离心机，因可进行连续处理而优选倾析式离心机。
在分离的残渣中含有作为无机粒子的银等贵金属的情况下，通过将其熔化并回收，可实现制备成本的降低。本发明的显像液的处理装置适合于含有金属粒子作为无机粒子的残渣的回收，若该金属粒子为选自Ag、Au、Cu、Pt、Pb、Sn、Ni、Al、W、Mo、氧化钌、Cr、Ti和铟的贵金属的粒子，则从降低制备成本的观点出发更为合适。
需说明的是，在应作为残渣分离的无机粒子无法通过离心力完全分离而混入澄清液中的情况下，它们易成核而产生浮渣。
将通过离心得到的澄清液供给至第1罐并贮存。供给至第1罐的澄清液因离心而引入大量的空气，气泡率极高。若气泡从液体中上升至液面，则低比重的有机物等不溶成分与气泡一同上升至液面，凝集并悬浮，从而产生浮渣。因此，在第1罐中贮存的澄清液的气泡率优选低。
对于气泡率，可将被测定液体采集于量筒中，分别测定含有气泡的部分的体积(L1)和不含气泡的部分的体积(L2)，通过以下的式(1)来计算：
[数1]
气泡率=L1/(L1+L2) (1)
本发明的第三实施方式所涉及的显像液的处理装置具备将澄清液脱泡并排出的脱泡装置。
为了降低在第1罐中贮存的澄清液的气泡率，本发明的第一实施方式或第二实施方式所涉及的显像液的处理装置具备将第1罐内的澄清液脱泡并排出的脱泡装置。作为脱泡装置，例如可列举出通过加热沸腾脱气、超声脱气、真空减压脱气或离心脱气的脱泡泵或中空丝膜脱气模块、或它们的组合。
通过离心得到的澄清液的气泡率多超过50%，但通过上述脱泡装置的脱泡处理后的澄清液的气泡率优选为10%以下，更优选为5%以下。
在本发明的第一实施方式或第二实施方式所涉及的显像液的处理装置中，将通过离心得到的澄清液供给至第1罐。另外，在本发明的第一实施方式或第二实施方式所涉及的显像液的处理装置中，将脱泡处理后的澄清液供给至第2罐并贮存。另外，将未使用的显像液供给至第2罐。换言之，将脱泡处理后的澄清液与未使用的显像液在第2罐中混合并贮存。供给至第2罐的未使用的显像液的供给量(流量等)只要在考虑本发明的处理装置整体的液流的平衡的同时适宜确定即可。需说明的是，“未使用的显像液”是区别与上述脱泡处理后的澄清液相比来源不同的显像液的便利用语，并不限定于严格意义下的未用于一切显像处理的显像液。即，未使用的显像液可为通过与本发明的处理装置不同的手段纯化的使用过的(再利用的)显像液等。
本发明的第一实施方式所涉及的显像液的处理装置具备将从第2罐溢出的澄清液从第1罐的上方供给至第1罐的单元。另一方面，本发明的第二实施方式所涉及的显像液的处理装置具备将从第1罐溢出的澄清液从第2罐的上方供给至第2罐的单元。
作为将从第1罐或第2罐溢出的澄清液供给至另一个罐的方法，例如可列举出在第1罐与第2罐之间设置管道，从节省空间或简化处理装置结构等观点出发，如图2和图3所示，优选使第1罐与第2罐以夹持隔板的状态毗邻，使从第1罐或第2罐溢出的澄清液沿着该隔板流动。
在本发明的处理装置中，优选与上述脱泡装置的脱泡处理后组合，将用于抑制在第1罐中贮存的澄清液中的不溶成分上升至液面的流动赋予第1罐内的澄清液。
更具体而言，通过从在第1罐中贮存的澄清液的上方供给液体，可产生抑制澄清液中的不溶成分上升至液面的流动。在本发明的第一实施方式所涉及的显像液的处理装置中，如图2所示，从第1罐的上方供给的液体为从第2罐溢出的澄清液。另外，在本发明的第二实施方式所涉及的显像液的处理装置中，如图3所示，为离心后的澄清液。
在上述第1罐中贮存的澄清液的液面与在上述第2罐中贮存的澄清液的液面的高低差优选为5cm以上。在该情况下，上述第1罐和第2罐的各自的容量优选为100~300L左右。两罐的增加中的液体的液面间的高低差越大，从一个罐溢出的澄清液所具有的势能也越大。由此，其流入另一个罐时的动能也越大，可将上升的不溶成分更细化。
在第1罐中贮存的澄清液所引入的空气即气泡多为0.5mm左右的直径。由于该程度的大小的气泡向液面上升的速度约为15cm/s，从第1罐或第2罐的上方供给的溢出流的垂直方向的流速优选15cm/s以上，更优选20cm/s以上。需说明的是，“从上方”不仅包括垂直方向的上侧，还包括斜上方。此处，在从斜上方供给溢出流的情况下，溢出流的垂直方向的流速可通过将倾斜方向的流速作为速度矢量分解为垂直方向和水平方向来求得。另外，为了更有效地抑制浮渣的产生，优选使脱泡装置进行脱泡处理后的澄清液溢流的本发明的第一实施方式所涉及的显像液的处理装置。
通过本发明的处理装置处理的显像液的浓度优选定期进行校正。作为显像液的浓度的测定装置，例如可列举出pH计、电导率计或自动滴定装置。作为显像液的浓度的调整方法，可列举出在处理装置的系统内追加规定量的未使用的高浓度显像液的方法。
本发明的显像液的处理装置可适合在将由含有感光性成分的有机成分构成的感光性糊剂涂布于基板上、曝光、显像以形成所希望图案的图案形成方法的显像处理工序中使用，更具体而言，可适合在使用感光性导电糊剂的导电图案形成方法的显像处理工序中使用。其中，由于可显著发挥其效果，所以优选在使用特别容易产生浮渣的非煅烧型感光性导电糊剂的导电图案形成方法的显像处理工序使用。
作为显像处理的方法，例如可列举出碱显像或有机显像。
作为碱显像所使用的显像液，例如可列举出四甲基氢氧化铵、二乙醇胺、二乙基氨基乙醇、氢氧化钠、氢氧化钾、碳酸钠、碳酸钾、三乙胺、二乙胺、甲胺、二甲胺、醋酸二甲基氨基乙酯、二甲基氨基乙醇、甲基丙烯酸二甲基氨基乙酯、环己胺、乙二胺或六亚甲基二胺的水溶液，但也可添加N-甲基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、N,N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜或γ-丁内酯等极性溶剂，甲醇、乙醇或异丙醇等醇类，乳酸乙酯或丙二醇单甲基醚醋酸酯等酯类，环戊酮、环己酮、异丁基酮或甲基异丁基酮等酮类等，或表面活性剂。另外，作为有机显像所使用的显像液，例如可列举出N-甲基-2-吡咯烷酮、N-乙酰基-2-吡咯烷酮、N,N-二甲基乙酰胺、N,N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜或六甲基磷酰三胺等极性溶剂或将这些极性溶剂与甲醇、乙醇、异丙醇、二甲苯、水、甲基卡必醇或乙基卡必醇等组合而成的混合溶液。
作为非煅烧型感光性导电糊剂，例如可列举出在将具有烷氧基的化合物(A)、感光性成分(B)、光聚合引发剂(C)混合而成的感光性树脂中分散有导电性填充剂(D)的糊剂。
作为具有烷氧基的化合物(A)，例如可列举出N-甲氧基甲基丙烯酰胺、N-乙氧基甲基丙烯酰胺或N-正丁氧基甲基丙烯酰胺。
感光性成分(B)指在分子内具有一个以上不饱和双键的单体、低聚物或聚合物，但在显像处理为碱显像的情况下，优选含有碱可溶性的聚合物。
作为碱可溶性的聚合物，例如可列举出丙烯酸类共聚物。丙烯酸类共聚物指在共聚成分中含有丙烯酸甲酯、丙烯酸、丙烯酸2-乙基己酯、甲基丙烯酸乙酯或丙烯酸正丁酯等丙烯酸类单体的共聚物。
光聚合引发剂(C)指吸收紫外线等短波长的光并分解以产生自由基的化合物，例如可列举出1,2-辛二酮、1-[4-(苯硫基)-2-(O-苯甲酰基肟)]或2,4,6-三甲基苯甲酰基-二苯基-氧化膦。需说明的是，可与光聚合引发剂(C)同时添加增敏剂，以提高灵敏度或扩大对反应有效的波长范围。作为这样的增敏剂，例如可列举出2,4-二乙基噻吨酮、异丙基噻吨酮或2,3-双(4-二乙基氨基亚苄基)环戊酮。
导电性填充剂(D)优选含有Ag、Au、Cu、Pt、Pb、Sn、Ni、Al、W、Mo、氧化钌、Cr、Ti或铟，从成本和稳定性的观点出发，更优选含有Ag。
非煅烧型感光性导电糊剂可含有环氧树脂，从涂膜的保存稳定性和导电图案的粘附性提高的方面出发，环氧树脂的环氧当量优选为200~500g/当量。环氧当量指含有1当量的环氧基的树脂的质量，可通过JIS-K7236记载的电位差滴定法来求得。
相对于100重量份的感光性成分(B)，环氧树脂的添加量优选为1~100重量份，更优选为30~80重量份。
作为环氧当量为200~500g/当量的感光性成分(B)，例如可列举出乙二醇改性环氧树脂、双酚A型环氧树脂或溴化环氧树脂。
实施例
以下列举本发明的实施例和比较例以详细地说明本发明，但本发明的实施方式并不限定于此。
(非煅烧型感光性导电糊剂的制备)
在100mL的洁净瓶中分别加入20g的感光性成分(B-1)、12g的N-正丁氧基甲基丙烯酰胺、4g的光聚合引发剂(OXE-01，Ciba Japan K.K.制)、0.6g的酸生成剂(SI-110，三新化学工业株式会社制)、10g的γ-丁内酯(Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.制)，通过Awatori Rentaro (注册商标) (ARE-310，THINKY CORPORATION制)进行混合，得到46.6g的感光性树脂溶液A (固体成分为78.5重量%)。使用三辊式滚压机(EXAKT M-50，EXAKT公司制)，将8.0g的感光性树脂溶液A与42.0g的银粒子(平均粒径为2μm)捏合，得到50g的非煅烧型感光性导电糊剂A。
需说明的是，感光性成分(B-1)是使5重量份的甲基丙烯酸缩水甘油酯(GMA)与丙烯酸乙酯(EA)/甲基丙烯酸2-乙基己酯(2-EHMA)/苯乙烯(St)/丙烯酸(AA)的共聚物(共聚比例：20重量份/40重量份/20重量份/15重量份)进行加成反应而得，如下进行合成。
在氮气氛的反应容器中投入150g的二甘醇单乙基醚醋酸酯，使用油浴升温至80℃。用1小时向其中滴加由20g的丙烯酸乙酯、40g的甲基丙烯酸2-乙基己酯、20g的苯乙烯、15g的丙烯酸、0.8g的2,2’-偶氮双异丁腈和10g的二甘醇单乙基醚醋酸酯构成的混合物。在滴加结束后，进一步进行6小时的聚合反应。然后，添加1g的氢醌单甲基醚以停止聚合反应。接着，用0.5小时滴加由5g的甲基丙烯酸缩水甘油酯、1g的三乙基苄基氯化铵和10g的二甘醇单乙基醚醋酸酯构成的混合物。在滴加结束后，进一步进行2小时的加成反应。通过用甲醇将得到的反应溶液纯化来除去未反应的杂质，进一步真空干燥24小时，由此得到感光性成分(B-1)。得到的感光性成分(B-1)的酸值为103mgKOH/g，通过以下的式(2)求得的玻璃化转变温度为21.7℃：
[数2]
此处，Tg为聚合物的玻璃化转变温度(单位：K)，T1、T2、T3…为单体1、单体2、单体3…的均聚物的玻璃化转变温度(单位：K)，W1、W2、W3…为单体1、单体2、单体3…的重量基准的共聚比例。
(涂膜形成~曝光~显像处理)
通过丝网印刷将40g的非煅烧型感光性导电糊剂A涂布于附带ITO的玻璃基板上，在100℃的干燥烘箱中预烘10分钟。接着，使用曝光装置(PEM-6M，UNION OPTICAL CO., LTD.制)，以70mJ/cm2 (换算为365nm的波长)的曝光量进行全线曝光。该全线曝光后的涂膜合计制备1000片。然后，在使用本发明的显像液处理装置的同时，对于1片全线曝光后的涂膜进行1分钟的显像处理。需说明的是，显像处理与下一次的显像处理之间分别设置80秒的间隔。
(显像处理后的导电图案等的评价)
在用超纯水冲洗显像处理后的涂膜后，在200℃的干燥烘箱中固化1小时，得到膜厚度为10μm的导电图案。通过光学显微镜确认导电图案的线与间隔(以下记为“L/S”)图案。另外，确认导电图案的电阻率和弯曲性(在试验后有无裂纹或断线等)。
(实施例1)
构成图2所示的本发明的第一实施方式所涉及的显像液的处理装置，对显像液即0.5%碳酸钠水溶液进行处理。
具体而言，作为显像装置(1)，对于1根喷淋管以150mm的间隔向下设置喷嘴。相对于以一定速度在显像装置(1)的下方移动的被显像目标物(上述全线曝光后的涂膜)，从喷嘴喷射显像液。将显像处理中使用过的使用后显像液集中并贮存于罐(5b)中。罐(5b)为通过隔板分割成两个的使用后显像液罐(5)的一个室。作为使用后显像液罐(5)，使用分割成容量分别为150L的罐(5a)和罐(5b)的二室、总容量为300L的罐。需说明的是，对于使用后显像液罐(5)内的显像液，在进行搅拌的同时通过加热器调整温度。
在罐(5b)中贮存的使用后显像液经由供给泵Y(7)和送液单元Y(8)以65L/分钟的流量(q1)供给至倾析式离心机(6)。离心机(6)以SUS304作为主要的构成材料，在磨损严重的螺旋输送机前端粘贴WC芯片以实施抗磨损处理。
通过使用离心机(6)的处理，得到澄清液和残渣，分别将澄清液供给至第1罐(10)，将残渣供给至固体成分贮存罐(9)。
在第1罐(10)中贮存的澄清液以68L/分钟的流量(q2)供给至脱泡装置即脱泡泵(12) (UPSA-1010S型，横田制作所制+真空泵(最大排气速度为300m3/小时，极限压力为17托)，在脱泡后排出的脱泡显像液经由送液单元Z(14)供给至第2罐(13)。
稳态下的在脱泡后排出的脱泡显像液的气泡率为5%。另外，在测定SS浓度(JIS K0102)时，为0.03g/L。
在第2罐(13)中贮存的澄清液通过供给泵Z(11)与上述流量(q1)相同地以65L/分钟供给至罐(5a)。需说明的是，使得从罐(5a)溢出的澄清液从罐(5b)的上方作为溢出流流入。
将在罐(5a)中贮存的澄清液作为再利用的显像液经由供给泵X(3)和送液单元X(4)以60L/分钟的流量(Q)供给至显像装置(1)。
在设为如上所述的构成时，澄清液从第2罐(13)溢出，从第1罐(10)的上方作为溢出流流入。在第1罐(10)中贮存的澄清液的液面与在第2罐(13)中贮存的澄清液的液面的高低差为5cm。另外，在测定溢出流的垂直方向的流速时，为15cm/s。
需说明的是，处理装置内的显像液通过自动滴定装置(Electrochemistry Systems 1036D)进行全时浓度控制，在第1罐(10)中以3L/分钟的流量与未使用的显像液进行替换，以维持设定浓度(0.5%)。
对于最终得到的导电图案，在L/S为20/20μm以下时无图案间残渣和图案剥落，导电图案的电阻率为7.3×10-5Ωcm，进行了良好的图案加工。另外，对于弯曲性，在试验后也未产生裂纹或断线等，良好。产品的不良率为0%。
在固体成分贮存罐(9)中贮存的残渣几乎不含水分，可回收3.9kg的银粉末(回收率为99%)。
在连日重复一系列的操作时，在30日内未发生管路堵塞(超过供给泵X(3)的排出压力上限)，期间完全不需要进行管路等的维护。
(实施例2)
与实施例1相同地构成图2所示的本发明的第一实施方式所涉及的显像液的处理装置，对显像液进行处理。但是，将流量(q2)变更为70L/分钟。
因此，澄清液从第2罐(13)溢出，从第1罐(10)的上方作为溢出流流入。在第1罐(10)中贮存的澄清液的液面与在第2罐(13)中贮存的澄清液的液面的高低差为7cm。另外，在测定溢出流的垂直方向的流速时，为20cm/s。
稳态下的在脱泡后排出的脱泡显像液的气泡率为3%。另外，SS浓度为0.01g/L。
对于最终得到的导电图案，在L/S为20/20μm以下时无图案间残渣和图案剥落，导电图案的电阻率为7.3×10-5Ωcm，进行了良好的图案加工。另外，对于弯曲性，在试验后也未产生裂纹或断线等，良好。产品的不良率为0%。
在固体成分贮存罐(9)中贮存的残渣几乎不含水分，可回收3.9kg的银粉末(回收率为99%)。
在连日重复一系列的操作时，在180日内未发生管路堵塞，期间完全不需要进行管路等的维护。
(实施例3)
构成图3所示的本发明的第二实施方式所涉及的显像液的处理装置，与实施例1和2相同地对显像液进行处理。但是，基板使用在玻璃基板上粘贴有膜厚度为50μm的聚酰亚胺薄膜的基板，流量(q2)变更为55L/分钟。
在进行如上所述的变更时，澄清液从第1罐(10)溢出，从第2罐(13)的上方作为溢出流流入。在第1罐(10)中贮存的澄清液的液面与在第2罐(13)中贮存的澄清液的液面的高低差为7cm。另外，在测定溢出流的垂直方向的流速时，为20cm/s。
稳态下的在脱泡后排出的脱泡显像液的气泡率为10%。另外，SS浓度为0.05g/L。
对于最终得到的导电图案，在L/S为20/20μm以下时无图案间残渣和图案剥落，导电图案的电阻率为7.3×10-5Ωcm，进行了良好的图案加工。另外，对于弯曲性，在试验后也未产生裂纹或断线等，良好。产品的不良率为0%。
在固体成分贮存罐(9)中贮存的残渣几乎不含水分，可回收3.9kg的银粉末(回收率为99%)。
在连日重复一系列的操作时，在14日内未发生管路堵塞，期间完全不需要进行管路等的维护。
(实施例4)
构成图4所示的显像液的处理装置。构成为：统一成第1罐(10)，且设置脱泡泵(12)和送液单元Z(14)。流量(q1)变更为30L/分钟，流量(q2)变更为55L/分钟。稳态下的在脱泡后排出的脱泡显像液的气泡率为10%。另外，SS浓度为0.1g/L。
对于最终得到的导电图案，在L/S为20/20μm以下时无图案间残渣和图案剥落，导电图案的电阻率为7.3×10-5Ωcm，进行了良好的图案加工。另外，对于弯曲性，在试验后也未产生裂纹或断线等，良好。产品的不良率为0%。
在固体成分贮存罐(9)中贮存的残渣几乎不含水分，可回收3kg的银粉末(回收率为76%)。
在连日重复一系列的操作时，在7日内未发生管路堵塞，期间完全不需要进行管路等的维护。
(比较例)
构成图1所示的显像液的处理装置。即，构成为：不进行图2和图3中的第1罐与第2罐的区分而统一成第1罐(10)，且不设置脱泡泵(12)和送液单元Z(14)。流量(q1)设为30L/分钟。
在不具有脱泡装置、且也不产生离心的澄清液的溢出流的方案的处理装置中，在合计1000片的全线曝光后的涂膜中，在对约半数进行了显像处理时发生管路堵塞，不得不进行管路等的维护。
显像处理后的涂膜
标记说明
1　　　：　显像装置
2　　　：　溢出流
3　　　：　供给泵X
4　　　：　送液单元X
5　　　：　使用后显像液罐
5a、5b ：　罐(使用后显像液罐的一个室)
6　　　：　离心机
7　　　：　供给泵Y
8　　　：　送液单元Y
9　　　：　固体成分贮存罐
10　　 ：　第1罐
11　　 ：　供给泵Z
12　　 ：　脱泡泵
13　　 ：　第2罐
14　　 ：　送液单元Z
15　　 ：　未使用的显像液。
产业上的可利用性
本发明的显像液的处理装置和处理方法可适合在使用非煅烧型感光性导电糊剂的导电图案形成方法的显像处理工序中使用。

Claims (10)

1. 显像液的处理装置，其中，所述装置具备：
通过离心将显像处理后的显像液分离为澄清液和残渣的离心机，和
将所述澄清液脱泡并排出的脱泡装置。
2. 权利要求1的显像液的处理装置，其中，所述装置具备：
所述离心机，
贮存所述澄清液的第1罐，
将所述第1罐内的澄清液脱泡并排出的所述脱泡装置，
将从所述脱泡装置排出的澄清液与未使用的显像液混合并贮存的第2罐，和
将从所述第2罐溢出的澄清液从所述第1罐的上方供给至所述第1罐的单元。
3. 权利要求1的显像液的处理装置，其中，所述装置具备：
所述离心机，
贮存所述澄清液的第1罐，
将所述第1罐内的澄清液脱泡并排出的所述脱泡装置，
将从所述脱泡装置排出的澄清液与未使用的显像液混合并贮存的第2罐，和
将从所述第1罐溢出的澄清液从所述第2罐的上方供给至所述第2罐的单元。
4. 权利要求2或3的处理装置，其中，所述第1罐与所述第2罐以夹持隔板的状态毗邻。
5. 权利要求2~4中任一项的处理装置，其中，从所述第1罐或所述第2罐溢出的澄清液沿着所述隔板流动，供给至另一个罐。
6. 权利要求2~5中任一项的处理装置，其中，在所述第1罐中贮存的澄清液的液面与在所述第2罐中贮存的澄清液的液面的高低差为5cm以上。
7. 权利要求2~6中任一项的处理装置，其中，从所述第1罐或所述第2罐的上方供给的澄清液的垂直方向的流速为15cm/s以上。
8. 权利要求2~7中任一项的处理装置，其中，从所述脱泡装置排出的澄清液的气泡率为10%以下。
9. 显像液的处理方法，其中，所述方法具备：
将显像处理后的显像液离心以分离得到澄清液与残渣的离心工序，和
将所述澄清液脱泡以得到脱泡显像液的脱泡工序。
10. 权利要求9的处理方法，其中，所述方法具备：
将所述脱泡显像液与未使用的显像液混合以得到混合显像液的混合工序，和
将所述混合显像液的一部分供给至所述显像处理、将所述混合显像液的一部分从所述脱泡前的所述澄清液的上方供给至所述脱泡工序的回流工序。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106925492A (zh) * 2017-03-20 2017-07-07 京东方科技集团股份有限公司 涂布液回收装置及涂布系统

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014077136A1 (ja) * 2012-11-13 2014-05-22 東レ株式会社 感光性導電ペースト、積層基板、導電パターンの製造方法及び静電容量型タッチパネル
JP6732107B2 (ja) * 2017-03-31 2020-07-29 富士フイルム株式会社 処理方法および処理装置
JP7113671B2 (ja) * 2018-06-12 2022-08-05 東京エレクトロン株式会社 脱泡装置および脱泡方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5346339Y2 (zh) 1975-12-24 1978-11-07
CN2188986Y (zh) 1993-11-29 1995-02-08 刘先华 膨胀式消泡器
JP3758011B2 (ja) * 1998-11-24 2006-03-22 オルガノ株式会社 フォトレジスト現像廃液からの再生現像液の回収再利用装置
US7326353B2 (en) * 2001-11-27 2008-02-05 Nupro Technologies Methods for reclaiming developing solvents
JP2003215810A (ja) 2002-01-22 2003-07-30 Japan Organo Co Ltd フォトレジスト現像廃液からの現像液の回収方法
JP4461779B2 (ja) 2003-11-19 2010-05-12 東レ株式会社 無機粉末の再利用方法
JP2005292189A (ja) 2004-03-31 2005-10-20 Dap Technology Kk 固形物回収装置
CN102114360A (zh) 2010-01-05 2011-07-06 东京化工机株式会社 泡沫处理装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106925492A (zh) * 2017-03-20 2017-07-07 京东方科技集团股份有限公司 涂布液回收装置及涂布系统
CN106925492B (zh) * 2017-03-20 2019-04-05 京东方科技集团股份有限公司 涂布液回收装置及涂布系统

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