CN104280940B - 一种掩膜板及取向膜摩擦方法 - Google Patents

一种掩膜板及取向膜摩擦方法 Download PDF

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Abstract

本发明公开了一种掩膜板及取向膜摩擦方法,掩膜板包括至少一个垫板;其中,垫板的一面为水平面,另一面至少具有与覆盖位置处的非显示区域的部分图形相匹配的图形;垫板在垫板具有图形的一面与基板接触处置处的厚度等于接触位置处非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离,用于在对基板上的取向膜进行摩擦处理时覆盖基板的非显示区域,使覆盖位置处的非显示区域的表面与显示区域的表面水平,从而可以避免在对取向膜进行摩擦时,由于非显示区域的表面不平整所造成的对应位置处的摩擦布的定向损伤,从而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差,以及造成取向膜的取向异常,进而保证显示产品的显示均匀性。

Description

一种掩膜板及取向膜摩擦方法
技术领域
[0001]本发明涉及液晶显示技术领域,尤其涉及一种掩膜板及取向膜摩擦方法。
背景技术
[0002] 近年来,液晶显示面板(Liquid Crystal Display,LCD)已经逐渐遍及人们的生活中。液晶显示面板主要由阵列基板,彩膜基板,以及位于该两基板之间的液晶分子组成。液晶显示面板通过电场控制液晶分子的取向使液晶显示面板的透射率发生变化,从而实现显示功能。为使液晶分子在初始状态下按一定的方向排列,需要在液晶显示面板的对向基板和阵列基板的内表面分别涂敷一层取向膜,然后利用包裹有摩擦布的摩擦辊在取向膜上摩擦出取向槽,这样液晶分子就能够按照取向槽的方向排列。
[0003]图1所示为对取向膜进行摩擦取向的设备工作示意图,将形成有取向膜的玻璃基板2通过真空吸附在摩擦基台I上,包裹在摩擦辊3上的摩擦布以一定压入量与玻璃基板上的取向膜接触,然后通过摩擦基台I的匀速水平运动和摩擦辊3的匀速转动,实现对玻璃基板2上的取向膜定向摩擦的作用。
[0004]但是,由于为了实现信号加载,玻璃基板2上的非显示区域4 一般均设计有凹凸不平的图形5和走线,从而造成玻璃基板的非显示区域4的表面与显示区域6的表面之间不平整。因此在现有摩擦取向技术中,当摩擦辊3摩擦经过上述凹凸不平的图形5后,就会对应位置处的摩擦布造成定向损伤,进而造成摩擦方向上的摩擦角偏差,造成取向膜的取向异常,从而引起显示产品显示不均的问题。
发明内容
[0005]有鉴于此,本发明实施例提供了一种掩膜板及取向膜摩擦方法,用以解决现有技术中由于非显示区域不平整,导致对经过非显示区域的摩擦辊上的摩擦布造成定向损伤,进而造成摩擦方向上的摩擦角偏差的问题。
[0006]因此,本发明实施例提供的一种掩膜板,所述掩膜板用于在对基板上的取向膜进行摩擦处理时覆盖所述基板的非显示区域;
[0007]所述掩膜板包括至少一个垫板;其中,
[0008]所述垫板的一面为水平面,另一面至少具有与覆盖位置处的所述非显示区域的部分图形相匹配的图形;
[0009]所述垫板在所述垫板具有图形的一面与所述基板接触处置处的厚度等于所述接触位置处所述非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离。
[0010]较佳地,为了使用方便,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述掩膜板包括至少两个条形结构的所述垫板,且各所述垫板的延伸方向与对所述基板将要进行摩擦处理时的摩擦辊的中心轴方向平行。
[0011]较佳地,为了使用方便,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,还包括:固定连接各所述垫板的固定架;
[0012]且相邻两个所述垫板之间的距离等于覆盖位置处的所述非显示区域之间的距离。
[0013]较佳地,为了使用方便,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述固定架为与各所述垫板的一端固定连接的条形架。
[0014]较佳地,为了使用方便,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述固定架为平行设置的两条条形架,其中,一条所述条形架分别与各所述垫板的一端固定,另一条所述条形架分别与各所述垫板的另一端固定。
[0015]较佳地,为了使用方便,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述固定架为“口”字型框架,所述“口”字型框架的一侧分别与各所述垫板的一端固定,对应的另一侧分别与各所述垫板的另一端固定。
[0016]较佳地,为了便于实施,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述垫板为网格结构,其中,所述网格结构的网孔对应所述基板的显示区域。
[0017]较佳地,为了防止在对基板上的取向膜进行摩擦处理时所产生的静电对取向膜造成的破坏作用,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述垫板具有导电性,且所述垫板还具有接电端子。
[0018]较佳地,为了防止在对基板上的取向膜进行摩擦处理时所产生的静电对取向膜造成的破坏作用,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述垫板和所述固定架均具有导电性;
[0019]各所述垫板与所述固定架电连接,且所述固定架具有接电端子。
[0020]较佳地,为了避免摩擦辊在与垫板的侧面接触时,侧面与水平面之间的棱对摩擦布造成影响,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,在进行摩擦处理时所述垫板与所述摩擦辊有接触的侧面为光滑斜面或光滑弧面。
[0021]较佳地,为了避免掩膜板自身表面对摩擦布的影响,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,所述垫板具有水平面的一面是经过平整化处理后的。
[0022 ]相应地,本发明实施例提供还提供了一种取向膜摩擦方法,包括:
[0023]在摩擦辊对所述涂覆有取向膜的基板进行摩擦前,采用本发明实施例提供的上述掩膜板,将所述掩膜板的垫板覆盖于与所述垫板对应位置具有相匹配图形的所述基板的非显示区域,且所述垫板具有图形一面面向所述基板,使所述垫板的表面与所述基板的显示区域的表面水平;
[0024]使用摩擦辊上的摩擦布对所述涂覆有取向膜的基板进行摩擦处理。
[0025]较佳地,为了防止在对基板上的取向膜进行摩擦处理时所产生的静电对取向膜造成的破坏作用,在本发明实施例提供的上述摩擦方法中,在使用摩擦辊上的摩擦布对所述涂覆有取向膜的基板进行摩擦处理之前,还包括:
[0026]将所述掩膜板中的接线电端子与地线电连接。
[0027]本发明实施例提供的上述掩膜板及取向膜摩擦方法,掩膜板包括至少一个垫板;其中,垫板的一面为水平面,另一面至少具有与覆盖位置处的非显示区域的部分图形相匹配的图形;垫板在垫板具有图形的一面与基板接触处置处的厚度等于接触位置处非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离,用于在对基板上的取向膜进行摩擦处理时覆盖基板的非显示区域,使覆盖位置处的非显示区域的表面与显示区域的表面水平,从而可以避免在对取向膜进行摩擦时,由于非显示区域的表面不平整所造成的对应位置处的摩擦布的定向损伤,从而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差,以及造成取向膜的取向异常,进而保证显示产品的显示均匀性。
附图说明
[0028]图1为现有技术中对取向膜进行摩擦取向的设备工作示意图;
[0029]图2a和图2b分别为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图;
[0030]图3a至图3c分别为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图;
[0031 ]图4a和图4b分别为本发明实施例提供的掩膜板的结构示意图;
[0032]图5为本发明实施例提供的垫板与摩擦辊接触的侧面的结构示意图;
[0033]图6为本发明实施例提供的取向膜摩擦方法的流程示意图。
具体实施方式
[0034]下面结合附图,对本发明实施例提供的掩膜板及取向膜摩擦方法的具体实施方式进行详细地说明。
[0035]附图中各膜层的形状和大小不反映掩膜板的真实比例,目的只是示意说明本发明内容。
[0036]本发明实施例提供的一种掩膜板,如图2a和图2b所示,掩膜板01用于在对基板02上的取向膜进行摩擦处理时覆盖基板02的非显示区域;
[0037]掩膜板01包括至少一个垫板011;其中,
[0038]垫板011的一面为水平面,另一面至少具有与覆盖位置处的非显示区域的部分图形相匹配的图形;
[0039]垫板011在该垫板011具有图形的一面与基板02接触处置处的厚度等于该接触位置处非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离。
[0040]本发明实施例提供的上述掩膜板,包括至少一个垫板;其中,垫板的一面为水平面,另一面至少具有与覆盖位置处的非显示区域的部分图形相匹配的图形;垫板在垫板具有图形的一面与基板接触处置处的厚度等于接触位置处非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离,用于在对基板上的取向膜进行摩擦处理时覆盖基板的非显示区域,使覆盖位置处的非显示区域的表面与显示区域的表面水平,从而可以避免在对取向膜进行摩擦时,由于非显示区域的表面不平整所造成的对应位置处的摩擦布的定向损伤,从而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差,以及造成取向膜的取向异常,进而保证显示产品的显示均匀性。
[0041]较佳地,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,如图2a所示,掩膜板01包括至少两个条形结构的垫板011,且垫板011的延伸方向与将要对基板02进行摩擦处理时的摩擦辊03的中心轴方向平行。这是因为,在对取向膜进行摩擦处理时,根据受力作用,沿垂直于摩擦辊03的中心轴方向延伸的非显示区域的不平整基本上不会对摩擦辊上的摩擦布造成影响,因此,采用掩膜板覆盖沿平行于摩擦辊03的中心轴方向延伸的非显示区域,就可以避免由于非显示区域的不平整对摩擦辊上的摩擦布造成损伤,从而可以保证取向膜的摩擦效果。
[0042]较佳地,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,如图3a至图3c所示,还包括:固定连接各垫板011的固定架012;
[0043]且相邻两个垫板011之间的距离等于覆盖位置处的非显示区域之间的距离。这样,在使用上述掩膜板时,通过一次操作就可以进行掩膜板的取放。
[0044]较佳地,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,固定架012可以仅固定各垫板011的一侧,如图3a所示,固定架012为与各垫板011的一端固定连接的条形架。
[0045]或者,较佳地,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,固定架012可以固定各垫板011的两侧,如图3b所示,固定架012为平行设置的两条条形架,其中,一条条形架分别与各垫板011的一端固定,另一条条形架分别与各垫板011的另一端固定。
[0046]或者,较佳地,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,固定架012可以固定各垫板011的两侧,如图3c所示,固定架012为“口”字型框架,“口”字型框架的一侧分别与各垫板011的一端固定,对应的另一侧分别与各垫板011的另一端固定。
[0047]进一步地,在具体实施时,本发明实施例提供的上述掩膜板,各垫板可以通过拉伸焊接的方式固定在固定架上,当然也可以通过其它连接方式,在此不作限定。
[0048]进一步地,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,如图2b所示,垫板011为网格结构,其中,网格结构的网孔对应基板的显示区域。这样,相当于在对取向膜进行摩擦时,掩膜板不仅覆盖了沿平行于摩擦辊03的中心轴方向延伸的非显示区域,而且还覆盖了沿垂直于摩擦辊03的中心轴方向延伸的非显示区域,从而进一步避免了由于非显示区域的不平整对摩擦辊上的摩擦布造成损伤,从而可以保证取向膜的摩擦效果。
[0049]进一步地,在对取向膜进行摩擦处理时,还容易产生静电。当静电电压达到一定值,对取向膜有直接的破坏作用,即取向膜被击穿或定向状态被破坏,从而使显示产品出现外观缺陷。虽然现有技术中通常利用能产生空气电离化或者光离化的离子发生器来进行静电消除,但是任然会存在一些问题:
[0050 ] 1、电离化离子除静电法效率较低,并且放电极电晕放电会产生电磁噪声的危害;
[0051] 2、电极放电的离子化方式极易吸附灰尘,在气流输送离子的过程中会造成环境和被消物体的污染,需经常清洗电极;
[0052] 3、采用光离子化静电消除器时,由于光离子的照射范围就是静电消除器的工作区域,覆盖范围较小,因此在工作时产生的软X射线,对人体会有一定的危害;
[0053] 4、残留的静电对取向膜和摩擦布的损伤会造成相应的显示缺陷。
[0054]因此,基于上述原因,为了防止在对取向膜进行摩擦处理时所产生的静电破坏作用,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,如图4a所示,垫板011具有导电性,且垫板还具有接电端子013。这样,在使用上述掩膜板时,可以通过该接电端子013将垫板011与地线电连接,从而防止摩擦过程中产生的静电发生积累。
[0055]或者,较佳地,当掩膜板中包括有固定架时,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,如图4b所示,垫板011和固定架012均具有导电性;各垫板011与固定架012电连接,且固定架012具有接电端子013。这样,在使用上述掩膜板时,可以通过该接电端子013将垫板011与地线电连接,从而防止摩擦过程中产生的静电发生积累。
[0056]具体地,在具体实施时,垫板的导电性可以通过镀膜的方法在垫板的表面沉积导电薄膜;或者采用导电材料制作垫板,在此不作限定。
[0057]同理,在具体实施时,固定架的导电性可以通过镀膜的方法在固定架的表面沉积导电薄膜;或者采用导电材料制作固定架,在此不作限定。
[0058]进一步地,在具体实施时,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,如图4a和图4b所示,还包括与接电端子013匹配的具有插头的导线014,这样在使用时,直接将插头插入接地端口就可以实现垫板接地。
[0059]进一步地,为了避免摩擦辊在与垫板的侧面接触时,垫板的侧面与水平面之间的棱对摩擦布造成影响,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,如图5所示,在进行摩擦处理时垫板011与摩擦辊03有接触的侧面为光滑斜面或光滑弧面。
[0060]较佳地,为了避免在本发明实施例提供的上述掩膜板中,垫板具有水平面的一面是经过平整化处理后的。这是由于经过平整化处理后的表面会更加光滑,从而可以减小掩膜板自身表面对摩擦布的影响。
[0061 ]具体地,在具体实施时,平整化处理可以是抛光处理等,在此不作限定。
[0062]进一步地,为了保证掩膜板的使用寿命,在本发明实施例提供的上述掩膜板中,垫板的材料可以采用硬度比较高、且耐摩擦的材料。
[0063]需要说明的是,本发明实施例提供的上述掩膜板所覆盖的基板可以是阵列基板,也可以是彩膜基板,在此不作限定。
[0064]基于同一发明构思,本发明实施例提供还提供了一种取向膜摩擦方法,如图6所示,包括:
[0065] S101、在摩擦辊对涂覆有取向膜的基板进行摩擦前,采用本发明实施例提供的上述掩膜板,将掩膜板的垫板覆盖于与垫板对应位置具有相匹配图形的基板的非显示区域,且垫板具有图形一面面向基板,使垫板的表面与基板的显示区域的表面水平;
[0066] SI 02、使用摩擦辊上的摩擦布对涂覆有取向膜的基板进行摩擦处理。
[0067]本发明实施例提供的上述摩擦方法,由于在摩擦辊对涂覆有取向膜的基板进行摩擦前,在基板的非显示区域覆盖有一掩膜板。其中,该掩膜板包括至少一个垫板;其中,垫板的一面为水平面,另一面至少具有与覆盖位置处的非显示区域的部分图形相匹配的图形;垫板在垫板具有图形的一面与基板接触处置处的厚度等于接触位置处非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离。因此,当该掩膜板覆盖基板的非显示区域时,可以使覆盖位置处的非显示区域的表面与显示区域的表面水平,从而可以避免在对取向膜进行摩擦时,由于非显示区域的表面不平整所造成的对应位置处的摩擦布的定向损伤,从而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差,以及造成取向膜的取向异常,进而保证显示产品的显示均匀性。
[0068]较佳地,为了防止在对基板上的取向膜进行摩擦处理时所产生的静电对取向膜造成的破坏作用,在本发明实施例提供的上述摩擦方法中,在使用摩擦辊上的摩擦布对涂覆有取向膜的基板进行摩擦处理之前,还包括:
[0069]将掩膜板中的接线电端子与地线电连接。从而防止摩擦过程中产生的静电发生积累,进而可以防止由于静电击穿摩擦布所引起的摩擦不均匀,以及由于取向膜被静电损伤所导致的液晶取向不良,引起漏光、低对比度等不良问题。
[0070]本发明实施例提供的掩膜板及取向膜摩擦方法,掩膜板包括至少一个垫板;其中,垫板的一面为水平面,另一面至少具有与覆盖位置处的非显示区域的部分图形相匹配的图形;垫板在垫板具有图形的一面与基板接触处置处的厚度等于接触位置处非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离,用于在对基板上的取向膜进行摩擦处理时覆盖基板的非显示区域,使覆盖位置处的非显示区域的表面与显示区域的表面水平,从而可以避免在对取向膜进行摩擦时,由于非显示区域的表面不平整所造成的对应位置处的摩擦布的定向损伤,从而避免造成摩擦方向上的摩擦角偏差,以及造成取向膜的取向异常,进而保证显示产品的显不均勾性。
[0071]显然,本领域的技术人员可以对本发明进行各种改动和变型而不脱离本发明的精神和范围。这样,倘若本发明的这些修改和变型属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内,则本发明也意图包含这些改动和变型在内。

Claims (13)

1.一种掩膜板,用于在对基板上的取向膜进行摩擦处理时覆盖所述基板的非显示区域;其特征在于:所述掩膜板包括至少一个垫板;其中, 所述垫板的一面为水平面,另一面至少具有与覆盖位置处的所述非显示区域的部分图形相匹配的图形; 所述垫板在所述垫板具有图形的一面与所述基板接触位置处的厚度等于所述接触位置处所述非显示区域的表面与显示区域的表面之间的距离。
2.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述掩膜板包括至少两个条形结构的所述垫板,且各所述垫板的延伸方向与对所述基板将要进行摩擦处理时的摩擦辊的中心轴方向平行。
3.如权利要求2所述的掩膜板,其特征在于,还包括:固定连接各所述垫板的固定架; 且相邻两个所述垫板之间的距离等于覆盖位置处的所述非显示区域之间的距离。
4.如权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述固定架为与各所述垫板的一端固定连接的条形架。
5.如权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述固定架为平行设置的两条条形架,其中,一条所述条形架分别与各所述垫板的一端固定,另一条所述条形架分别与各所述垫板的另一端固定。
6.如权利要求3所述的掩膜板,其特征在于,所述固定架为“口”字型框架,所述“口”字型框架的一侧分别与各所述垫板的一端固定,对应的另一侧分别与各所述垫板的另一端固定。
7.如权利要求1所述的掩膜板,其特征在于,所述垫板为网格结构,其中,所述网格结构的网孔对应所述基板的显示区域。
8.如权利要求1-7任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述垫板具有导电性,且所述垫板还具有接电端子。
9.如权利要求3-6任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述垫板和所述固定架均具有导电性; 各所述垫板与所述固定架电连接,且所述固定架具有接电端子。
10.如权利要求1-7任一项所述的掩膜板,其特征在于,在进行摩擦处理时所述垫板与所述摩擦辊有接触的侧面为光滑斜面或光滑弧面。
11.如权利要求1-7任一项所述的掩膜板,其特征在于,所述垫板具有水平面的一面是经过平整化处理后的。
12.—种取向膜摩擦方法,其特征在于,包括: 在摩擦辊对涂覆有取向膜的基板进行摩擦前,采用权利要求1-11任一项所述的掩膜板,将所述掩膜板的垫板覆盖于与所述垫板对应位置具有相匹配图形的所述基板的非显示区域,且所述垫板具有图形一面面向所述基板,使所述垫板的表面与所述基板的显示区域的表面水平; 使用摩擦辊上的摩擦布对所述涂覆有取向膜的基板进行摩擦处理。
13.如权利要求12所述的摩擦方法,其特征在于,在使用摩擦辊上的摩擦布对所述涂覆有取向膜的基板进行摩擦处理之前,还包括: 将所述掩膜板中的接电端子与地线电连接。
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