CN104112797A - 一种白光发光二极管的制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种白光发光二极管LED的制作方法,属于半导体技术领域。所述方法包括:在临时基板上依次沉积N型层、发光层、P型层,构成LED晶片;在所述P型层上形成掺有荧光粉的键合层;将所述键合层与永久基板键合;去除所述临时基板,并将所述LED晶片倒置;在所述LED晶片上开设从所述N型层延伸到所述P型层的凹槽;在所述N型层上沉积金属反射层;在所述金属反射层上设置N电极,在所述P型层上设置P电极。本发明通过在LED芯片的制作过程中,将荧光粉掺入键合层中,省去在制作LED芯片后的封装过程中涂覆荧光粉的过程,过程简单方便,提高了白光LED的生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及半导体技术领域,特别涉及一种白光发光二极管的制作方法。
背景技术
LED(Light Emitting Diode,发光二极管)是一种半导体发光器件,被广泛用于指示灯、显示屏等。白光LED的能耗仅为白炽灯的1/8,荧光灯的1/2,是继白炽灯和日光灯之后的第三代电光源。白光LED寿命可长达10万小时,对于普通家庭照明可谓“一劳永逸”,同时还可实现无汞化,回收容易,对于环境保护和节约能源具有重要意义,已成为世界各地光源和灯具研究机构竞相开发、努力获取的目标,是未来照明领域的明星行业。
目前一种制作白光LED的包括:制作LED芯片;将LED芯片固定在支架上;将聚二甲基硅酮和用于LED封装的固化剂按第一预定比例调配形成配粉胶;按照第二预定比例调配荧光粉和配粉胶;将调配后的荧光粉和配粉胶涂覆在LED的封装体上。
在实现本发明的过程中,发明人发现现有技术至少存在以下问题:
现有的白光LED的制作方法需要在完成LED芯片的制作后,专门在封装阶段完成荧光粉的涂覆,过程繁琐冗长,白光LED的生产效率较低。
发明内容
为了解决现有技术过程繁琐冗长,白光LED的生产效率较低的问题,本发明实施例提供了一种白光发光二极管的制作方法。所述技术方案如下:
本发明实施例提供了一种白光发光二极管的制作方法,所述方法包括:
在临时基板上依次沉积N型层、发光层、P型层,构成LED晶片;
在所述P型层上形成掺有荧光粉的键合层;
将所述键合层与永久基板键合;
去除所述临时基板,并将所述LED晶片倒置;
在所述LED晶片上开设从所述N型层延伸到所述P型层的凹槽;
在所述N型层上沉积金属反射层;
在所述金属反射层上设置N电极,在所述P型层上设置P电极。
优选地,所述荧光粉均匀分布在所述键合层中。
可选地,所述荧光粉占所述键合层的比例大于0且小于50%。
可选地,所述荧光粉为钇铝石榴石YAG铝酸盐荧光粉、氮化物荧光粉或者硫化物荧光粉。
优选地,所述荧光粉为YAG铝酸盐荧光粉中的YAG:Ce3+荧光粉,且YAG与Ce3+的比例大于或等于9:1。
可选地,所述键合层采用有机黏合胶、环氧树脂中的一种或多种制成。
可选地,所述键合层的厚度为1-200微米。
可选地,所述永久基板采用蓝宝石、磷化镓、玻璃透明基板中的一种或多种制成。
可选地,所述临时基板采用Si片、蓝宝石、SiC基板中的一种或多种制成。
可选地,所述金属反射层采用Au、Ag、Al、Pt、Zn中的一种或多种制成。
本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是:
通过在LED芯片的制作过程中,将荧光粉掺入键合层中,省去在制作LED芯片后的封装过程中涂覆荧光粉的过程,过程简单方便,提高了白光LED的生产效率,并且实现了白光LED芯片的小型化和集成化。而且与涂覆在封装件上相比,将荧光粉掺入键合层中时,荧光粉与发光层的距离较近,发光层发出的部分蓝光更容易激发荧光粉发出黄光,并与发光层发出的另一部分蓝光混合后发出白光,减少了光损失,提高了发光效率。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本发明实施例提供的一种白光LED的制作方法的流程图;
图2a-图2h是本发明实施例提供的LED芯片在制作白光LED的过程中的结构示意图。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合附图对本发明实施方式作进一步地详细描述。
实施例
本发明实施例提供了一种白光LED的制作方法,参见图1,该方法包括:
步骤101:在临时基板上依次沉积N型层、发光层、P型层,构成LED晶片。
可选地,临时基板包括Si片、蓝宝石、SiC基板中的一种或多种,如蓝宝石,使LED晶片可以有较好的热导率,提高了产品性能。
具体地,N型层可以为N型GaN层,P型层可以为P型GaN层。
图2a为执行步骤101后得到的LED芯片的结构示意图。其中,1表示临时基板,2表示N型层,3表示发光层,4表示P型层。
步骤102:在P型层上形成掺有荧光粉的键合层。
在具体实现中,可以通过高速转动呈液体状(可通过加热实现)的键合层材料(掺有荧光粉),将键合层材料甩到P型层上,从而形成键合层。也可以在P型层上涂覆键合层材料,形成键合层。
具体地,键合层是透明的。
可选地,键合层采用有机黏合胶、环氧树脂中的一种或多种制成,如环氧树脂,以兼顾键合层的透光性和键合层的稳定性。
可选地,键合层的厚度为1-200微米。一方面不会因为键合层的厚度太厚而影响出光效率,另一方面也不会因为键合层的厚度太薄而影响键合效果。
优选地,荧光粉均匀分布在键合层中,使得发光层发出的一部分蓝光与荧光粉充分反应发出黄光,并使发出的黄光与发光层发出的一部分蓝光充分混合直接发出白光,提高了发光效率。
可选地,荧光粉占键合层的比例大于0且小于50%。一方面避免了荧光粉过多,没有与蓝光充分反应而造成浪费,另一方面保证了键合层的透光效果,从而避免对出光效率造成影响。
可选地,荧光粉为YAG(Yttrium Aluminum Garnet Ultraviolet,钇铝石榴石)铝酸盐荧光粉、氮化物荧光粉或者硫化物荧光粉。
优选地,荧光粉为YAG铝酸盐荧光粉中的YAG:Ce3+荧光粉。一方面白光LED的亮度高,发射峰宽,白光LED的性能较好,另一方面制作白光LED的成本较低。
具体地,YAG与Ce3+的比例大于或等于9:1,如47:3,以获得比较理想的发光强度。
图2b为执行步骤102后得到的LED芯片的结构示意图。其中,1表示临时基板,2表示N型层,3表示发光层,4表示P型层,5表示键合层。
步骤103:将键合层与永久基板键合。
在具体实现中,可以采用键合技术将键合层与永久基板键合,即将永久基板放置在键合层上以后,对永久基板施加高压,从而将LED晶片与永久基板键合。
可选地,永久基板包括蓝宝石、磷化镓、玻璃透明基板中的一种或多种,如蓝宝石,使LED晶片可以有较好的热导率,提高了产品性能。
图2c为执行步骤103后得到的LED芯片的结构示意图。其中,1表示临时基板,2表示N型层,3表示发光层,4表示P型层,5表示键合层,6表示永久基板。
步骤104:去除临时基板,并将LED晶片倒置。
图2d为执行步骤104后得到的LED芯片的结构示意图。其中,2表示N型层,3表示发光层,4表示P型层,5表示键合层,6表示永久基板。
步骤105:在LED晶片上开设从N型层延伸到P型层的凹槽。
图2e为执行步骤105后得到的LED芯片的结构示意图。其中,2表示N型层,3表示发光层,4表示P型层,5表示键合层,6表示永久基板。
步骤106:在N型层上沉积金属反射层。
可选地,金属反射层包括Au、Ag、Al、Pt、Zn中的一种或多种,如Ag,使LED晶片更具稳定性(如提高LED芯片的抗热性、抗腐蚀性)。
在具体实现中,可以利用湿法或干法刻蚀法,在LED晶片上开设从N型层延伸到P型层的凹槽,湿法或干法刻蚀法可以为现有技术,在此不再详述。
图2d为执行步骤106后得到的LED芯片的结构示意图。其中,2表示N型层,3表示发光层,4表示P型层,5表示键合层,6表示永久基板,7表示金属反射层。
步骤107:在金属反射层上设置N电极,在P型层上设置P电极。
图2g为执行步骤107后得到的LED芯片的结构示意图,其中,2表示N型层,3表示发光层,4表示P型层,5表示键合层,6表示永久基板,7表示金属反射层,8表示P型电极,9表示N型电极。
可以理解地,将LED晶片切割、倒置,即可得到白光LED芯片。图2h为得到的白光LED芯片的结构示意图。其中,2表示N型层,3表示发光层,4表示P型层,5表示键合层,6表示永久基板,7表示金属反射层,8表示P型电极,9表示N型电极。
本发明实施例通过在LED芯片的制作过程中,将荧光粉掺入键合层中,省去在制作LED芯片后的封装过程中涂覆荧光粉的过程,过程简单方便,提高了白光LED的生产效率,并且实现了白光LED芯片的小型化和集成化。而且与涂覆在封装件上相比,将荧光粉掺入键合层中时,荧光粉与发光层的距离较近,发光层发出的部分蓝光更容易激发荧光粉发出黄光,并与发光层发出的另一部分蓝光混合后发出白光,减少了光损失,提高了发光效率。
以上所述仅为本发明的较佳实施例,并不用以限制本发明,凡在本发明的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种白光发光二极管LED的制作方法,其特征在于,所述方法包括:
在临时基板上依次沉积N型层、发光层、P型层,构成LED晶片;
在所述P型层上形成掺有荧光粉的键合层;
将所述键合层与永久基板键合;
去除所述临时基板,并将所述LED晶片倒置;
在所述LED晶片上开设从所述N型层延伸到所述P型层的凹槽;
在所述N型层上沉积金属反射层;
在所述金属反射层上设置N电极,在所述P型层上设置P电极。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述荧光粉均匀分布在所述键合层中。
3.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述荧光粉占所述键合层的比例大于0且小于50%。
4.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述荧光粉为钇铝石榴石YAG铝酸盐荧光粉、氮化物荧光粉或者硫化物荧光粉。
5.根据权利要求4所述的方法,其特征在于,所述荧光粉为YAG铝酸盐荧光粉中的YAG:Ce3+荧光粉,且YAG与Ce3+的比例大于或等于9:1。
6.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述键合层采用有机黏合胶、环氧树脂中的一种或多种制成。
7.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述键合层的厚度为1-200微米。
8.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述永久基板采用蓝宝石、磷化镓、玻璃透明基板中的一种或多种制成。
9.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述临时基板采用Si片、蓝宝石、SiC基板中的一种或多种制成。
10.根据权利要求1或2所述的方法,其特征在于,所述金属反射层采用Au、Ag、Al、Pt、Zn中的一种或多种制成。
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |
Application publication date: 20141022 |
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RJ01 | Rejection of invention patent application after publication |