CN104076619A - 一种接触式光刻机吸盘 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种接触式光刻机吸盘,其包括金属吸盘本体,所述金属吸盘本体上开设有若干道真空吸气槽,其特征在于,所述金属吸盘本体上于最外侧的真空吸气槽的周边设置有密封部件。上述接触式光刻机吸盘在金属吸盘的周边设置一层密封部件。当真空吸气槽用来吸产品片时,同时也将光掩膜版与产品片间的空气吸走,在光掩膜版与产品片之间形成一层真空层,当光经过真空层时光的强度及方向性都不会受到影响,保持了UV光对胶的高分辨率。
Description
技术领域
本发明涉及一种接触式光刻机,尤其涉及一种接触式光刻机吸盘。
背景技术
传统的接触式光刻机,是将产品片直接放于吸盘上,并用真空吸附住,然后将光刻掩膜版直接压在产品片上。这种曝光方式适合关键尺寸较大的工艺,如2μm以上的条宽。对于2μm以上的器件工艺是没有问题的。但当器件的关键尺寸降到1.0-1.3μm时,这种方式的缺陷就会很明显。主要是因为在曝光时,光掩膜版与产品片之间虽然有压力将两者贴在一起,但空气缝是真实存在的,而且各处无法保证均匀。当UV光垂直照射下来时,经过有空气缝处光的光强和方向性就会受到影响,而这直接影响了UV光对胶的分辨率。
发明内容
本发明的目的在于提供一种接触式光刻机吸盘,其能够保证曝光时UV光对胶的高分辨率,以解决现有技术中接触式光刻机吸盘存在的上述问题。
为达此目的,本发明采用以下技术方案:
一种接触式光刻机吸盘,其包括金属吸盘本体,所述金属吸盘本体上开设有若干道真空吸气槽,其中,所述金属吸盘本体上于最外侧的真空吸气槽的周边设置有密封部件。
特别地,所述密封部件采用硅胶密封条。
特别地,所述真空吸气槽为V型或U型沟槽的任一种。
特别地,相邻两道所述真空吸气槽之间的间距为2㎜。
特别地,所述真空吸气槽为V型沟槽,槽深为1~2㎜,顶部槽宽为1㎜。
特别地,所述金属吸盘本体由铝合金制成。
本发明的有益效果为,与现有技术相比所述接触式光刻机吸盘在金属吸盘的周边设置一层密封部件。当真空吸气槽用来吸产品片时,同时也将光掩膜版与产品片间的空气吸走,在光掩膜版与产品片之间形成一层真空层,当光经过真空层时光的强度及方向性都不会受到影响,保持了UV光对胶的高分辩率。
附图说明
图1是本发明具体实施方式1提供的接触式光刻机吸盘的剖面图;
图2是本发明具体实施方式1提供的接触式光刻机吸盘的侧视图。
图中:
1、金属吸盘本体;2、真空吸气槽;3、硅胶密封条。
具体实施方式
下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。
请参阅图1和图2所示,图1是本发明具体实施方式1提供的接触式光刻机吸盘的剖面图;图2是本发明具体实施方式1提供的接触式光刻机吸盘的侧视图。
本实施例中,一种接触式光刻机吸盘包括金属吸盘本体1,所述金属吸盘本体1由铝合金制成,且所述金属吸盘本体1上开设有若干道真空吸气槽2,相邻两道所述真空吸气槽2之间的间距为2㎜。所述真空吸气槽2为V型沟槽,槽深为1~2㎜,顶部槽宽为1㎜。所述金属吸盘本体1上于最外侧的真空吸气槽2的周边设置有硅胶密封条3。
工作时,产品片直接放于金属吸盘本体1上,然后将光掩膜版直接压在产品片上,当真空吸气槽2用来吸产品片时,由于产品片与光掩膜版之间硅胶密封条3的存在,将光掩膜版与产品片间的空气吸走,在光掩膜版与产品片之间形成一层真空层,当UV光经过真空层时光的强度及方向性都不会受到影响,保持了UV光对胶的高分辩率。
以上实施例只是阐述了本发明的基本原理和特性,本发明不受上述事例限制,在不脱离本发明精神和范围的前提下,本发明还有各种变化和改变,这些变化和改变都落入要求保护的本发明范围内。本发明要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (6)
1.一种接触式光刻机吸盘,其包括金属吸盘本体,所述金属吸盘本体上开设有若干道真空吸气槽,其特征在于,所述金属吸盘本体上于最外侧的真空吸气槽的周边设置有密封部件。
2.根据权利要求1所述的接触式光刻机吸盘,其特征在于,所述密封部件采用硅胶密封条。
3.根据权利要求1或2所述的接触式光刻机吸盘,其特征在于,所述真空吸气槽为V型或U型沟槽的任一种。
4.根据权利要求1所述的接触式光刻机吸盘,其特征在于,相邻两道所述真空吸气槽之间的间距为2㎜。
5.根据权利要求3所述的接触式光刻机吸盘,其特征在于,所述真空吸气槽为V型沟槽,槽深为1~2㎜,顶部槽宽为1㎜。
6.根据权利要求1所述的接触式光刻机吸盘,其特征在于,所述金属吸盘本体由铝合金制成。
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