CN103770483A - 一种印章制作方法及装置 - Google Patents

Abstract

本申请提供一种印章制作方法及装置，首先获取目标信息图像，然后通过对目标信息图像进行二值图像转换以及矩阵位图转换生成矩阵位图，并依据矩阵位图进行体绘制，生成STL(STereo Lithography,立体光刻)模型，最终可以通过3D打印机对STL模型进行打印，生成印章，本申请通过STL模型生成方法以及3D打印机对获取到的用户输入的目标信息图像进行设计和打印生成印章，使得在降低成本的基础上，提高印章的美观性、满足印章拥有者的个性化需求。

Description

一种印章制作方法及装置

技术领域

本申请涉及计算机开发与应用技术领域，特别是涉及一种印章制作方法及装置。

背景技术

印章是一种雕刻和书法融合的文化艺术瑰宝，在中国文化传承进程中，有着举足轻重的地位，更是中国文化的浓缩。

传统印章制作是靠工艺精湛的雕刻师，耗费几周设置几个月的时间，进行雕刻而成，这样的印章十分昂贵，价格最高的甚至飙升到几百万，对于普通的文化爱好者来讲，简直就是望而却步，这是不利于文化传承和市场需求的。

现有技术中，随着科技的进步，虽然激光印章雕刻技术被开发出来，并且激光雕刻机的成本也仅仅为几万元，但是该方法在印章雕刻过程中，往往由于硬件成本的限制，导致雕刻出的印章缺乏美观和独特个性，虽然可以满足人们一定程度上的需求，但是还是仍然让人觉得美中不足。

并且，印章外形的设计往往是由印章制作者决定，与印章需求者无关，进而导致印章不能反映印章拥有者独特的个性，不能满足印章拥有者的个性化需求。

发明内容

有鉴于此，本申请实施例提供一种印章制作方法及装置，以实现在降低成本的基础上，提高印章的美观性、满足印章拥有者的个性化需求。

为了实现上述目的，本申请实施例提供的技术方案如下：

一种印章制作方法，包括：

获取目标信息图像；

将所述目标信息图像转换成二值图像；

将所述二值图像转换成矩阵位图；

依据所述矩阵位图进行体绘制，生成立体光刻STL模型；

利用3D打印机对所述STL模型进行打印，生成印章。

优选的，在利用3D打印机对所述STL模型进行打印，生成印章之前，还包括：

响应操作者的操作，对所述STL模型进行修补以及属性设计。

优选的，所述获取目标信息图像，包括：

获取与用户手写信息相对应的目标信息图像。

优选的，所述将二值图像转换成矩阵位图的过程为：

依据预先设置的获取顺序逐个获取所述二值图像的单元像素；

判断所述单元像素的幅值是否为1；

若是，则将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为0；

若否，则将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为255。

优选的，还包括：

判断所述单元像素是否为所述二值图像上的最后一个单元像素；

当否时，返回执行如上述权利要求4所述的方法。

优选的，所述依据所述矩阵位图进行体绘制，生成立体光刻STL模型，包括：

依据所述矩阵位图，保存两张与所述矩阵位图相同的矩阵位图；

利用Marching Cubes算法对两张所述矩阵位图进行体绘制生成数字模型；

将预先设置的图像模型融合到所述数字模型中生成立体光刻STL模型。

优选的，还包括：预先设置Marching Cubes算法中的长宽高比例为1:1:2。

优选的，还包括：预先设置Marching Cubes算法中的梯度值为45。

一种印章制作装置，包括：目标信息图像获取单元、二值图像生成单元、矩阵位图生成单元、STL模型生成单元以及印章生成单元，其中，

所述目标信息图像获取单元用于获取目标信息图像；

所述二值图像生成单元与所述目标信息图像获取单元相连接，用于将所述目标信息图像转换成二值图像；

所述矩阵位图生成单元与所述二值图像生成单元相连接，用于将所述二值图像转换成矩阵位图；

所述STL模型生成单元与所述矩阵位图生成单元相连接，用于依据所述矩阵位图进行体绘制，生成立体光刻STL模型；

所述印章生成单元与所述STL模型生成单元相连接，用于利用3D打印机对所述STL模型进行打印，生成印章。

优选的，还包括：STL模型设计单元，

所述STL模型设计单元的一端与所述STL模型生成单元相连接，另一端与所述印章生成单元相连接，用于响应操作者的操作，对所述STL模型进行修补以及属性设计。

本申请提供一种印章制作方法及装置，首先获取目标信息图像，然后通过对目标信息图像进行二值图像转换以及矩阵位图转换生成矩阵位图，并依据矩阵位图进行体绘制，生成STL模型，最终可以通过3D打印机对STL模型进行打印，生成印章，本申请通过STL模型生成方法以及3D打印机对获取到的用户输入的目标信息图像进行设计和打印生成印章，使得在降低成本的基础上，提高印章的美观性、满足印章拥有者的个性化需求。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例一提供的一种印章制作方法流程图；

图2为本申请实施例一提供的一种目标信息图像的示意图；

图3为本申请实施例一提供的一种二值图像的示意图；

图4为本申请实施例一提供的一种二值图像转换成矩阵位图的方法流程图；

图5为本申请实施例一提供的一种数字模型的示意图；

图6为本申请实施例一提供的一种STL模型的示意图；

图7为本申请实施例一提供的一种印章使用效果图；

图8为本申请实施例二提供的一种印章制作装置结构示意图。

具体实施方式

为了使本技术领域的人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都应当属于本申请保护的范围。

实施例一：

图1为本申请实施例一提供的一种印章制作方法流程图。

如图1所示，该方法包括：

S101、获取目标信息图像。

在本申请实施例中，该目标信息图像为与用户手写信息相对应的目标信息图像。如图2所示为本申请实施例一提供的一种目标信息图像的示意图，该目标信息图像为用户根据自己的需求以及爱好通过毛笔、签字笔或者其他书写工具等，在打印纸或其他书写材质上写的“刘”字，然后通过相机或者其他影像采集设备对该打印纸上的“刘”字进行采集得到的，在本申请实施例中，该目标信息图像可以保存为任意格式，如：*.PNG,*.JPG,*.BMP等。

在本申请实施例中，该目标信息图像还可以为用户通过其他方式获取的，如在网上下载等，本申请所提供的仅仅是几种优选方式，用户可以通过任何方式获取自己需求的目标信息图像。

S102、将目标信息图像转换成二值图像。

在本申请实施例中，当获取目标信息图像后，会将该目标信息图像转换成二值图像，如图3所示为本申请实施例一提供的一种二值图像的示意图，该二值图像为将上述图2中提供的目标信息图像进行转换生成的。

S103、将二值图像转换成矩阵位图。

在本申请实施例中，当将目标信息图像转换成二值图像后，会将二值图像转换成矩阵位图。

图4为本申请实施例一提供的一种二值图像转换成矩阵位图的方法流程图。

如图4所示，该方法包括：

S201、依据预先设置的获取顺序逐个获取二值图像的单元像素。

在本申请实施例中，将二值图像转换成矩阵位图时，首先需要按照预先设置的顺序逐个获取二值图像的单元像素，如：二值图像为M*N的一个二值图像，按照预先设置的顺序，首先从二值图像的左下角开始获取单元像素，最终实现对整个二值图像的单元像素的获取。

S202、判断单元像素的幅值是否为1。

在本申请实施例中，当获取一个单元像素后，会判断该单元像素的幅值是否为1。

S203、若是，则将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为0。

在本申请实施例中，当单元像素的幅值为1时，将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为0。

S204、若否，则将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为255。

在本申请实施例中，当单元像素的幅值不为1时，将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为255。

如图4所示，进一步的，该方法还包括：

S205、判断单元像素是否为二值图像上的最后一个单元像素。

在本申请实施例中，当每获取一个单元像素，并判断完该单元像素的幅值是否为1，若是，则将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为0；若否，则将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为255后，还会判断该单元像素是否为二值图像上的最后一个单元像素，当是时，则保存生成的矩阵位图并退出；当否时，则返回执行步骤S201。

S104、依据矩阵位图进行体绘制，生成STL(STereo Lithography,标准模板库立体光刻)模型。

在本申请实施例中，当将二值图像转换成矩阵位图后，会依据矩阵位图进行体绘制，生成STL模型。

在本申请实施例中，优选的，当将二值图像转换成矩阵位图后，依据矩阵位图进行体绘制，生成STL模型的具体过程包括：首先对二值图像转换成的矩阵位图进行复制并保存，进而保存两张相同的矩阵位图，然后利用Marching Cubes算法对这两张矩阵位图进行体绘制生成数字模型（如图5所示），并将预先设置的图像模型融合到该数字模型中生成STL模型（如图6所示）。

在本申请实施例中，在利用Marching Cubes算法对这两张矩阵位图进行体绘制生成数字模型的过程中，需要首先设置Marching Cubes算法中的参数，在本申请实施例中，优选的，预先设置Marching Cubes算法中的长宽高比例为1:1:2，预先设置Marching Cubes算法中的梯度值为45，当然上述仅仅是本申请的优选方式，发明人还可以根据自己的需求任意设置Marching Cubes算法中的参数。

在本申请实施例中，该预先设置的图像模型可以为用户自己设计的，也可以使通过网络搜索的，在此不限定该预先设置的图像模型的获取方式。

S105、利用3D打印机对STL模型进行打印，生成印章。

在本申请实施例中，用户可以利用黑白3D打印机/彩色3D打印机对该STL模型进行打印，生成印章，其中，生成的印章的使用效果参见图7所示。

进一步的，本申请实施例提供的印章制作制作方法，还包括：

响应操作者的操作，对STL模型进行修补以及属性设计。

在本申请实施例中，当生成STL模型后，还可以响应操作者的操作，对生成的STL模型进行修补以及属性设计。

且在本申请实施例中，优选的，通常使用常用软件（如：Geomagic或SolidWorks）响应操作者的操作，对生成的STL模型进行修补以及属性设计，其中，修补主要包括：填补洞面、修复烂面、修复突触等，属性设计主要包括：对印章外形的设计，如：颜色、形状、大小等。

本申请提供一种印章制作方法，首先获取目标信息图像，然后通过对目标信息图像进行二值图像转换以及矩阵位图转换生成矩阵位图，并依据矩阵位图进行体绘制，生成STL模型，最终可以通过3D打印机对STL模型进行打印，生成印章，本申请通过STL模型生成方法以及3D打印机对获取到的用户输入的目标信息图像进行设计和打印生成印章，使得在降低成本的基础上，提高印章的美观性、满足印章拥有者的个性化需求。

实施例二：

图8为本申请实施例二提供的一种印章制作装置结构示意图。

如图8所示，该装置包括：目标信息图像获取单元1、二值图像生成单元2、矩阵位图生成单元3、STL模型生成单元4以及印章生成单元5，其中，

目标信息图像获取单元1用于获取目标信息图像。

二值图像生成单元2与目标信息图像获取单元1相连接，用于将目标信息图像转换成二值图像。

矩阵位图生成单元3与二值图像生成单元2相连接，用于将二值图像转换成矩阵位图。

STL模型生成单元4与矩阵位图生成单元3相连接，用于依据矩阵位图进行体绘制，生成立体光刻STL模型。

印章生成单元5与STL模型生成单元4相连接，用于利用3D打印机对STL模型进行打印，生成印章。

进一步的，本申请实施例提供的一种印章制作装置还包括：STL模型设计单元。

该STL模型设计单元的一端与STL模型生成单元相连接，另一端与印章生成单元相连接，用于响应操作者的操作，对STL模型进行修补以及属性设计。

本申请实施例提供一种印章制作装置，通过该装置获取目标信息图像，然后通过对目标信息图像进行二值图像转换以及矩阵位图转换生成矩阵位图，并依据矩阵位图进行体绘制，生成STL模型，最终可以通过3D打印机对STL模型进行打印，生成印章，本申请通过STL模型生成方法以及3D打印机对获取到的用户输入的目标信息图像进行设计和打印生成印章，使得在降低成本的基础上，提高印章的美观性、满足印章拥有者的个性化需求。

本说明书中各个实施例采用递进的方式描述，每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处，各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。对于实施例公开的装置而言，由于其与实施例公开的方法相对应，所以描述的比较简单，相关之处参见方法部分说明即可。

以上仅是本申请的优选实施方式，使本领域技术人员能够理解或实现本申请。对这些实施例的多种修改对本领域的技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本申请的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本申请将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种印章制作方法，其特征在于，包括：

获取目标信息图像；

将所述目标信息图像转换成二值图像；

将所述二值图像转换成矩阵位图；

依据所述矩阵位图进行体绘制，生成立体光刻STL模型；

利用3D打印机对所述STL模型进行打印，生成印章。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在利用3D打印机对所述STL模型进行打印，生成印章之前，还包括：

响应操作者的操作，对所述STL模型进行修补以及属性设计。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述获取目标信息图像，包括：

获取与用户手写信息相对应的目标信息图像。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述将二值图像转换成矩阵位图的过程为：

依据预先设置的获取顺序逐个获取所述二值图像的单元像素；

判断所述单元像素的幅值是否为1；

若是，则将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为0；

若否，则将矩阵位图中与该单元像素相对应的位置上的数据设置为255。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，还包括：

判断所述单元像素是否为所述二值图像上的最后一个单元像素；

当否时，返回执行如上述权利要求4所述的方法。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述依据所述矩阵位图进行体绘制，生成立体光刻STL模型，包括：

依据所述矩阵位图，保存两张与所述矩阵位图相同的矩阵位图；

利用Marching Cubes算法对两张所述矩阵位图进行体绘制生成数字模型；

将预先设置的图像模型融合到所述数字模型中生成立体光刻STL模型。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，还包括：预先设置MarchingCubes算法中的长宽高比例为1:1:2。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，还包括：预先设置MarchingCubes算法中的梯度值为45。

9.一种印章制作装置，其特征在于，包括：目标信息图像获取单元、二值图像生成单元、矩阵位图生成单元、STL模型生成单元以及印章生成单元，其中，

所述目标信息图像获取单元用于获取目标信息图像；

所述二值图像生成单元与所述目标信息图像获取单元相连接，用于将所述目标信息图像转换成二值图像；

所述矩阵位图生成单元与所述二值图像生成单元相连接，用于将所述二值图像转换成矩阵位图；

所述STL模型生成单元与所述矩阵位图生成单元相连接，用于依据所述矩阵位图进行体绘制，生成立体光刻STL模型；

所述印章生成单元与所述STL模型生成单元相连接，用于利用3D打印机对所述STL模型进行打印，生成印章。

10.根据权利要求9所述的装置，其特征在于，还包括：STL模型设计单元，

所述STL模型设计单元的一端与所述STL模型生成单元相连接，另一端与所述印章生成单元相连接，用于响应操作者的操作，对所述STL模型进行修补以及属性设计。

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