CN103769478A - 一种led支架冲压模具 - Google Patents
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Abstract
一种LED支架冲压模具，冲压模具的基体设有氮化钛金属膜层。所述氮化钛金属膜层厚度为：5～6μm。所述冲压模具包括：大方凸模，大异形凸模，小异形凸模，花边凸模，所述大方凸模、大异形凸模、小异形凸模、花边凸模分别设有氮化钛金属膜层。本发明一种LED支架冲压模具，采用在传统的冲压模具的硬质合金表面增加氮化钛金属涂层，提高了表面硬度，增加了模具的耐磨性，使用寿命提高了50%以上，可使用约75万次，缩短了更换模具配件的频率，降低了模具的维护成本，提高了生产效率。
Description
技术领域
本发明涉及一种冲压模具，特别是一种LED支架冲压模具。
背景技术
LED支架冲压模具在冲压过程中起着十分重要的作用，是整个冲压模具中关键部件之一。其作用是将LED支架上多余素材冲压出来。传统LED支架冲压所用模具材料为硬质合金，由于冲压模具的高速运动及长期运行，在冲压过程中磨损较快，是冲压设备中最易磨损的一个配件，平均使用2天，约50万次便需更换。
发明内容
本发明所要解决的技术问题是提供一种LED支架冲压模具，在传统的冲压模具硬质合金表面增加氮化钛金属涂层，提高了表面硬度，增加了模具的耐磨性。该模具能有效地提高LED支架质量，加强了冲压模的光滑性及耐磨性；同时延长了冲压模的使用寿命及改进冲压效果，减少冲压模的更换频率，提高了生产效率。
本发明的上述目的是通过这样的技术方案来实现的：一种LED支架冲压模具，冲压模具的基体设有氮化钛金属膜层。所述氮化钛金属膜层厚度为：5～6μm。所述冲压模具包括：大方凸模，大异形凸模，小异形凸模，花边凸模，所述大方凸模、大异形凸模、小异形凸模、花边凸模分别设有氮化钛金属膜层。
本发明一种LED支架冲压模具，采用在传统的冲压模具的硬质合金表面增加氮化钛金属涂层，提高了表面硬度，增加了模具的耐磨性，使用寿命提高了50%以上，可使用约75万次，缩短了更换模具配件的频率，降低了模具的维护成本，提高了生产效率。
本发明一种LED支架冲压模具，氮化钛金属涂层冲压模具有极高的耐磨能力。耐高温能力，冲压模具每分钟冲压约420次，每天工作达几十万次。对冲压模具的耐磨能力和耐高温能力是一个极大的考验，而本发明的氮化钛金属涂层使其冲压模的使用寿命延长50%以上。可以大大提高生产效率，并获得良好的冲压质量。
附图说明
图1是LED支架图。
图2是本发明所述氮化钛涂层大方凸模结构示意图。
图3是本发明所述氮化钛涂层大异形凸模结构示意图。
图4是本发明所述氮化钛涂层小异形凸模结构示意图。
图5是本发明所述氮化钛涂层花边凸模结构示意图。
具体实施方式
一种LED支架冲压模具，冲压模具的基体设有氮化钛金属膜层。所述氮化钛金属膜层厚度为：5～6μm。
本发明选用防磨材料作涂层，通过特殊涂层工艺在所述的呈带状的合金钢片上的外表面涂覆有一层氮化钛金属膜。所述的金属膜层与冲压膜具外表面结合稳层，金属涂层材料均匀细致、表面光滑、发亮。现有的普通合金冲压模的表面光滑度为0.7，而本发明的氮化钛金属涂层冲压膜的光滑度为0.3，更为光滑的涂层材料保证了冲压模的使用过程中的耐磨损能力。
所述冲压模具包括：大方凸模，大异形凸模，小异形凸模，花边凸模，所述大方凸模、大异形凸模、小异形凸模、花边凸模分别设有氮化钛金属膜层。
图1为冲压成型后的LED支架图。
图2为大方凸模，用于冲压图1中LED支架的第1部分区域，在大方凸模的的外表面A区域涂有一层氮化钛金属涂层，所述涂层厚度为5～6μm。
图3为大异形凸模，用于冲压图1中LED支架的第2部分区域，在大异形凸模的外表面B区域涂有一层氮化钛金属涂层，所述涂层厚度为5～6μm。
图4为小异形模，用于冲压图1中LED支架的第3部分区域，在小异形模的外表面C区域涂有一层氮化钛金属涂层，所述涂层厚度为5～6μm。
图5为花边凸模，用于冲压图1中LED支架的第4部分区域，在花边凸模的外表面D区域和E区域的外表面涂有一层氮化钛金属涂层，所述涂层厚度为5～6μm。
Claims (3)
1.一种LED支架冲压模具，其特征在于，冲压模具的基体设有氮化钛金属膜层。
2.根据权利要求1所述一种LED支架冲压模具，其特征在于， 所述氮化钛金属膜层厚度为：5～6μm。
3.根据权利要求1所述一种LED支架冲压模具，其特征在于，所述冲压模具包括：大方凸模，大异形凸模，小异形凸模，花边凸模，所述大方凸模、大异形凸模、小异形凸模、花边凸模分别设有氮化钛金属膜层。
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Cited By (1)
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| CN104289626A (zh) * | 2014-10-30 | 2015-01-21 | 苏州广型模具有限公司 | 冲压模具的安全防护装置 |
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2012
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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