CN103676294B - 基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

基板及其制作方法、显示装置 Download PDF

Info

Publication number
CN103676294B
CN103676294B CN201310642155.0A CN201310642155A CN103676294B CN 103676294 B CN103676294 B CN 103676294B CN 201310642155 A CN201310642155 A CN 201310642155A CN 103676294 B CN103676294 B CN 103676294B
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
color layer
color
substrate
colour filter
Prior art date
Application number
CN201310642155.0A
Other languages
English (en)
Other versions
CN103676294A (zh
Inventor
姚琪
张锋
曹占锋
谷敬霞
舒适
Original Assignee
京东方科技集团股份有限公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 京东方科技集团股份有限公司 filed Critical 京东方科技集团股份有限公司
Priority to CN201310642155.0A priority Critical patent/CN103676294B/zh
Publication of CN103676294A publication Critical patent/CN103676294A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN103676294B publication Critical patent/CN103676294B/zh

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1339Gaskets; Spacers; Sealing of cells
    • G02F1/13394Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136209Light shielding layers, e.g. black matrix, incorporated in the active matrix substrate, e.g. structurally associated with the switching element
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FDEVICES OR ARRANGEMENTS, THE OPTICAL OPERATION OF WHICH IS MODIFIED BY CHANGING THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIUM OF THE DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF THE INTENSITY, COLOUR, PHASE, POLARISATION OR DIRECTION OF LIGHT, e.g. SWITCHING, GATING, MODULATING OR DEMODULATING; TECHNIQUES OR PROCEDURES FOR THE OPERATION THEREOF; FREQUENCY-CHANGING; NON-LINEAR OPTICS; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/136Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
    • G02F1/1362Active matrix addressed cells
    • G02F1/136222Colour filters incorporated in the active matrix substrate

Abstract

本发明实施例公开了一种基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,能够降低制备基板的工艺难度、成本,提高基板的良品率。该种基板,包括黑矩阵和彩色滤色层,所述彩色滤色层至少包括颜色不同的第一滤色部分、第二滤色部分和第三滤色部分,所述基板还包括位于所述黑矩阵上的突起,所述突起至少包括第一彩色层和位于所述第一彩色层上方的第二彩色层,所述第一彩色层和所述第一滤色部分材质相同,所述第二彩色层和所述第二滤色部分材质相同。

Description

基板及其制作方法、显示装置
技术领域
[0001] 本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
[0002] 在显示技术领域,液晶显示装置以其耗电少、轻薄、便于携带等优点占据了显示装置的市场。液晶显示装置中的重要组成部分为液晶面板,液晶面板包括第一基板、第二基板以及位于第一基板和第二基板之间的液晶层。第一基板和第二基板对盒后,为了维持两者之间的盒厚以保证两者之间任意处的液晶量相等,从而保证液晶显示装置的显示效果,通常通过在第一基板或第二基板上设置长度相等的多个隔垫物来实现。
[0003] 发明人在实现本发明的过程中发现,通常在制作完成第一基板或第二基板之后,还需要通过一次掩膜工艺来单独制备隔垫物,每多使用一次掩膜就会相应增大第一基板或第二基板的制作的工艺难度、成本,同时,降低了第一基板或第二基板的良品率。
发明内容
[0004] 本发明所要解决的技术问题在于提供一种基板及其制作方法、显示装置,能够降低制备基板的工艺难度、成本,提高基板的良品率。
[0005] 为解决上述技术问题,本发明采用如下技术方案:
[0006] 本发明的第一方面提供了一种基板,包括黑矩阵和彩色滤色层,所述彩色滤色层至少包括颜色不同的第一滤色部分、第二滤色部分和第三滤色部分,所述基板还包括位于所述黑矩阵上的突起,所述突起至少包括第一彩色层和位于所述第一彩色层上方的第二彩色层,所述第一彩色层和所述第一滤色部分材质相同,所述第二彩色层和所述第二滤色部分材质相同。
[0007] 进一步的,所述突起还包括位于所述第二彩色层上方的第三彩色层,所述第三彩色层和所述第三滤色部分材质相同。
[0008] 进一步的,所述突起还包括位于所述第二彩色层上方的第一绝缘层,或第一绝缘层和第二绝缘层。
[0009] 进一步的,所述突起还包括位于所述第三彩色层上方的第一绝缘层,或第一绝缘层和第二绝缘层。
[0010] 进一步的,所述突起还包括位于所述第二彩色层上方的导电层。
[0011] 进一步的,所述突起还包括位于所述第三彩色层上方的导电层。
[0012] 在本发明实施例的技术方案中,该基板的突起包括第一彩色层和第二彩色层,可在形成彩色滤色层的过程中形成。这一结构的基板与现有技术相比,无需通过单独的掩膜工艺来单独制备隔垫物,相当于简化了基板的制作步骤,减少了基板的制作的工艺难度、成本,同时,提尚了基板的良品率。
[0013] 本发明的第二方面提供了一种显示装置,包括上述的基板。
[0014] 本发明的第三方面提供了一种基板的制备方法,包括:
[0015] 形成黑矩阵;
[0016] 形成彩色滤色层的第一滤色部分和位于所述黑矩阵上方的第一彩色层,所述第一彩色层与所述第一滤色部分材质相同;
[0017] 形成所述彩色滤色层的第二滤色部分和位于所述第一彩色层上方的第二彩色层,所述第二彩色层与所述第二滤色部分材质相同。
[0018] 进一步的,所述制备方法还包括:
[0019] 形成第三种颜色的彩色滤色层和位于所述第二彩色层上方的第三彩色层,所述第三彩色层与所述第三滤色部分材质相同。
[0020] 进一步的,所述制备方法还包括:
[0021] 形成包括第一绝缘层,或第一绝缘层和第二绝缘层的图形。
[0022] 进一步的,所述制备方法还包括:
[0023] 形成包括导电层的图形。
附图说明
[0024] 为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0025]图1为本发明实施例中的第一种基板的截面图;
[0026]图2为本发明实施例中的第二种基板的截面图;
[0027] 图3为本发明实施例中的第三种基板的截面图;
[0028]图4为本发明实施例中的第一种C0A基板的截面图;
[0029]图5为本发明实施例中的第二种C0A基板的截面图;
[0030] 图6为本发明实施例中的第三种C0A基板的截面图;
[0031]图7为本发明实施例中的第一种基板的制备方法的流程图;
[0032]图8为本发明实施例中的第二种基板的制备方法的流程图。
[0033] 附图标记说明:
[0034] 1 一衬底基板; 2—黑矩阵; 3—彩色滤色层;
[0035] 31—第一滤色部分;32—第二滤色部分;33—第三滤色部分;
[0036] 4—突起; 41 一第一彩色层;42—第二彩色层;
[0037] 43一第二彩色层;5—薄膜晶体管; 51—栅极;
[0038] 52—栅极绝缘层;53—有源层; 54—源极;
[0039] 55—漏极; 6—保护层; 7—平坦层;
[0040] 8一公共电极; 9一第一绝缘层; 10—像素电极。
具体实施方式
[0041] 下面将结合本发明实施例中的附图,对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本发明一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本发明保护的范围。
[0042] 实施例一
[0043] 本发明实施例提供一种基板,包括黑矩阵2和彩色滤色层3,通常来说,所述彩色滤色层3至少包括颜色不同的第一滤色部分31、第二滤色部分32和第三滤色部分33,例如包括红色的第一滤色部分31、绿色的第二滤色部分32、蓝色的第三滤色部分33 (以下本发明以这一情况为例进行具体说明)。其中,光线在透过彩色滤色层3的任一滤色部分之后,会变为与其透过的滤色部分的颜色相同的单色光。
[0044] 如图1或图2所示,在本发明实施例中,所述基板还包括位于黑矩阵2上的突起4,所述突起4至少包括第一彩色层41和位于所述第一彩色层41上方的第二彩色层42,所述第一彩色层41和所述第一滤色部分31的材质相同,所述第二彩色层42和所述第二滤色部分32的材质相同。
[0045] 其中,由于第一彩色层41和第一滤色部分31的材质相同,可优选第一彩色层41和第一滤色部分31在同一次构图工艺中形成;类似的,优选第二彩色层42和第二滤色部分32在同一构图工艺中形成。
[0046] 由图1或2中可看出,该突起4中的第一彩色层41与第一滤色部分31同层设置,即第一彩色层41和第一滤色部分32近似等高。因此,必须在黑矩阵2上方形成第一彩色层41和第二彩色层42,才能使得黑矩阵2上方具有突起4。
[0047] 需要说明的是,图1或图2中的第一彩色层41和第一滤色部分31 —体成型,因此,在图1或图2中,仅以一条虚线分隔开第一彩色层41和第一滤色部分31,其余类似。
[0048] 在本发明实施例中,突起4相当于现有技术中的基板上的主要起支撑作用的隔垫物。本发明实施例中的突起4可在形成彩色滤色层的过程中形成,与现有技术相比,无需通过单独的掩膜工艺来单独制备隔垫物,相当于简化了基板的制作步骤,减少了基板的制作的工艺难度、成本,同时,提高了基板的良品率。
[0049] 例如,任一颜色的彩色滤色层的厚度为1.0-2.0 μπι,S卩,由于突起4此时具有第一彩色层41和第二彩色层42,则其高度比仅具有第一滤色部分31或第二滤色部分32的基板的其余区域高出1.0-2.0 μm。
[0050] 同时,由于该突起4位于黑矩阵2的上方,从而该突起4不会影响基板的开口率,保证了显示装置的显示效果。
[0051] 在本发明实施例的技术方案中,该基板的突起包括第一彩色层和第二彩色层,可在形成彩色滤色层的过程中形成。这一结构的基板与现有技术相比,无需通过单独的掩膜工艺来单独制备隔垫物,相当于简化了基板的制作步骤,减少了基板的制作的工艺难度、成本,同时,提尚了基板的良品率。
[0052] 若是仅具有第一彩色层41和第二彩色层42的突起4的高度不理想,如图2或图3所示,所述突起4还可包括位于所述第二彩色层42上方的第三彩色层43,从而增大突起的高度。与第一彩色层41、第二彩色层42类似的,所述第三彩色层43和所述第三滤色部分33材质相同。
[0053] 因此,如图2或图3所示,在本发明实施例中,优选第三彩色层43和所述第三滤色部分33在同一次构图工艺中形成。
[0054] 一般的,为了保证显示装置的显示效果,应当保证经过彩色滤色层滤出的光线的单色性,因此应当防止彩色滤色层3和黑矩阵2之间漏光所造成的降低光线的单色性等不良影响。正因为如此,彩色滤色层3通常部分位于黑矩阵之上,该部分位于黑矩阵2之上且直接接触黑矩阵2的彩色滤色层3,可为本发明实施例中的第一彩色层41。
[0055] 下面通过几个具体实施例来进一步说明本发明所提供的基板的结构。
[0056] 在本发明实施例的第一种基板的具体实施方式中,如图1所示,首先在衬底基板1上形成黑矩阵2,之后,形成第一滤色部分31以及覆盖黑矩阵2的部分的第一彩色层41。之后,在衬底基板1上形成第三滤色部分33。此时,第三滤色部分33和第一滤色部分31不仅同层设置,并且覆盖黑矩阵的未被第一彩色层41所覆盖的区域。最后,在衬底基板上形成第二滤色部分32和第二彩色层42,形成突起4。例如,每个滤色部分的厚度为1.0-2.0 μ m,SP,此时具有第二彩色层42的突起4比其周围高出1.0-2.0 μπι。
[0057] 在本发明实施例的第二种基板的具体实施方式中,如图2所示,首先在衬底基板1上形成黑矩阵2,之后,形成第一滤色部分31和第一彩色层41。此时黑矩阵2上几乎都被第一彩色层41所覆盖。之后,在衬底基板1上形成材质相同的第二彩色层42和第二滤色部分32,其中第二彩色层42覆盖第一彩色层41,形成比周围高出1.0-2.0 μπι的突起。
[0058] 与图2类似的,如图3所示,首先在衬底基板上形成黑矩阵2,之后,同时形成第一滤色部分31和第一彩色层41。此时黑矩阵2的一半左右区域被第一彩色层41所覆盖,之后,在衬底基板1上形成材质相同的第二彩色层42和第二滤色部分32,其中第二彩色层42覆盖第一彩色层41以及黑矩阵2未被第一彩色层41所覆盖的区域,形成比周围高出1.0-2.Ομπι 的突起。
[0059] 之后,若是该突起4的高度无法满足实际需要,该突起4还可包括位于所述第二彩色层42上方的第三彩色层43,例如,如图2或图3所示,其中,所述第三彩色层43和所述第三滤色部分33材质相同,以增加突起4的高度。此时,突起4的高度比其周围区域高出
2.0-4.0 μπι。
[0060] 其中,具有第三彩色层43的突起的高度较大,可以作为主隔垫物,类似的,仅具有第一彩色层41和第二彩色层42的突起由于高度原因,可以作为辅隔垫物。具体的,可以根据实际情况,仅在部分突起上形成第三彩色层33,即仅在部分辅隔垫物的基础上形成主隔垫物。
[0061] 若是该基板具有四种颜色或五种颜色甚至更多种颜色的彩色滤色层,根据前文的记载可知,该突起还可具有第四彩色层甚至第五彩色层。
[0062] 在本发明实施例中,若所述基板为彩膜基板,还可以在突起4和彩色滤色层3上形成保护层、液晶分子的取向层等结构,其中保护层可采用氧化硅、氮化硅、氧化铪、树脂等绝缘材料,液晶分子的取向层可优选聚酰亚胺层等常见材料制成。
[0063] 由于近年来人们对于显示装置的透光率、分辨率、功耗等的要求越来越高,显示装置都在向着高透过率、高分辨率、低功耗等方向发展。其中,分辨率越高,使得每一个像素单元的尺寸越小,当像素单元的边长由几十微米变为十几微米时,显然,像素单元的尺寸得到了大幅度的减小,此时,若黑矩阵的宽度仍然保持不变,相对于像素单元而言,黑矩阵将变得明显,将会影响显示装置的显示效果。因此,黑矩阵的宽度应相应的减小以保证显示装置的显示效果。
[0064] 但是,黑矩阵的宽度减小有可能导致阵列基板和彩膜基板之间的对盒出现偏差,导致漏光等不良现象的产生,因此位于彩膜基板上的黑矩阵的宽度不能任意减小。人们为了克服黑矩阵减小带来的漏光等不良现象,将黑矩阵和彩色滤色层设置在阵列基板上。具体的,在形成数据线、栅线、像素单元等惯常技术中的阵列基板所具有的结构后,在栅线、数据线和像素单元的薄膜晶体管4上方的对应位置形成黑矩阵,之后,在黑矩阵圈出来的对应像素单元的显示区域上方形成滤色部分,其中,每一个滤色部分对应一个像素单元。
[0065] 由于此时黑矩阵2位于阵列基板上,在适当减小黑矩阵2的宽度时,也能保证黑矩阵2能够充分遮挡栅线、数据线和薄膜晶体管5等需遮光的结构,同时,减少漏光现象发生的可能性,在提高分辨率、透过率的同时又保证了显示装置的显示效果。这种技术又叫做COA (Color Filter on Array)技术。
[0066] 但是,由于C0A阵列基板相对与现有技术的阵列基板而言,多设置了黑矩阵2、彩色滤色层等结构,导致C0A阵列基板所经历的构图工艺的次数比现有技术的阵列基板多,这会降低C0A阵列基板的良品率。
[0067] 而由于本发明实施例所提供的基板上的突起是在形成彩色滤色层的材质相同的,无需通过一次构图工艺来单独制备隔垫物,使得采用这种突起的C0A阵列基板的制作所需的构图工艺减少,可以保证C0A阵列基板的良品率。
[0068] 可知,本发明实施例中的基板为C0A阵列基板时,在形成黑矩阵2之前,需要在衬底基板上形成包括薄膜晶体管5在内的多层结构,薄膜晶体管5主要包括顶栅极结构和底栅极结构,如图4-6所示,以底栅极结构为例进行说明。
[0069]由于该C0A阵列基板上形成的薄膜晶体管5为底栅极结构,首先在衬底基板上形成包括栅极51、栅线(图中未示出)等结构的图形;在此结构的基础之上,通过构图工艺形成栅极绝缘层52、有源层53、同层设置的源极54、漏极55和数据线(图中未示出)等结构的图形,至此,薄膜晶体管5制备完成。制作完成薄膜晶体管5后,在薄膜晶体管5的有源层53、栅线、数据线等结构上方形成黑矩阵2,黑矩阵2可防止位于其下方的各个结构受到光照,影响各个结构的工作效果。
[0070] 进一步的,本发明实施例中的基板为C0A阵列基板时,在形成彩色滤色层后,以ADS型阵列基板为例进行说明,还可以在阵列基板上至少形成公共电极8、像素电极10以及公共电极8和像素电极10之间的第一绝缘层9。因此,若是位于突起4仅包括第一彩色层41和第二彩色层42两层彩色层,则突起4还包括位于所述第二彩色层42上方的第一绝缘层9,即如图4所示。
[0071] 另外,若是突起4还包括位于第二彩色层42之上的第三彩色层43,则如图5和图6所示,第一绝缘层8位于第三彩色层31上,即所述突起4还包括位于所述第三彩色层43上方的第一绝缘层9。
[0072] 同时,如图4-6所示,突起还可包括位于所述第二彩色层42或者第三彩色层43上方的一层或两层导电层,该导电层是形成公共电极8(图4-6中以导电层仅有一层且为公共电极8为例)和/或像素电极10时的保留在突起4上的,可采用氧化铟锡或氧化铟锌等材质,并不承载导电作用,仅用于保持突起和其周围之间的高度差。
[0073] 进一步的,在形成C0A阵列基板的过程中,有时候会在形成像素单元的薄膜晶体管5后,形成一层平坦层7,如图4-6所示,以平坦像素区域,减少之后的结构形成的难度。根据平坦层7所选用的材质不同,其粘度不同。一般的,形成平坦层的树脂的粘度范围为5〜8厘帕斯卡?秒(cps),其中,选择粘度尚并控制低转速可增尚突起的尚度,最后可以加尚最多1.5μηι ;相应的,选择粘度较低并提高转速可降低突起的高度,由此,可进一步调节突起的高度,使其符合要求。
[0074] 由于平坦层7通常采用可采用氧化硅、氮化硅、氧化铪、树脂等绝缘材料,在本发明实施例中可称为第二绝缘层,即如图4所示,所述突起4还包括位于所述第二彩色层42上方的第一绝缘层9和第二绝缘层;或是如图5或6所示,所述突起4还包括位于所述第三彩色层43上方的第一绝缘层9和第二绝缘层。
[0075] 进一步的,在本发明中还提供了一种包括上述的基板的显示装置,所述显示装置可以为:液晶面板、电子纸、手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显不功能的广品或部件。
[0076] 实施例二
[0077] 本发明实施例还提供了一种实施例一的基板的制备方法,如图7所示,所述制备方法包括:
[0078] 步骤S101、形成黑矩阵。
[0079] 步骤S102、形成彩色滤色层的第一滤色部分和位于所述黑矩阵上方的第一彩色层,所述第一彩色层与所述第一滤色部分材质相同。
[0080] 步骤S103、形成所述彩色滤色层的第二滤色部分和位于所述第一彩色层上方的第二彩色层,所述第二彩色层与所述第二滤色部分材质相同。
[0081] 其中,由于第一彩色层41和第一滤色部分31的材质相同,可优选第一彩色层41和第一滤色部分31在同一次构图工艺中形成;类似的,优选第二彩色层42和第二滤色部分32在同一构图工艺中形成。
[0082] 具体的,如图1所示,首先在衬底基板1上形成黑矩阵2,之后,形成第一滤色部分31以及覆盖黑矩阵2的部分的第一彩色层41。之后,在衬底基板1上形成第三滤色部分33。此时,第三滤色部分33和第一滤色部分31不仅同层设置,并且覆盖黑矩阵的未被第一彩色层41所覆盖的区域。最后,在衬底基板上形成第二滤色部分32和第二彩色层42,形成突起4。例如,每个滤色部分的厚度为1.0-2.0 μ m,即,此时具有第二彩色层42的突起4比其周围高出1.0-2.ΟμίΉ。
[0083] 在步骤S103之后,若是突起4的高度不理想,还可在某些或全部突起4上形成第三彩色层43,如图2或图3所示。具体的,如图8所示,该基板的制备方法还可包括:
[0084] 步骤S104、形成第三种颜色的彩色滤色层和位于所述第二彩色层上方的第三彩色层,所述第三彩色层与所述第三滤色部分材质相同。
[0085] 类似的,优选第三彩色层43和第三滤色部分33在同一构图工艺中形成。
[0086] 显然,同时具有第一彩色层41、第二彩色层42和第三彩色层43的突起4比仅具有第一彩色层41和第二彩色层42的突起4的高度要高,因此,同时具有第一彩色层41、第二彩色层42和第三彩色层43的突起4可作为主隔垫物,相应的,仅具有第一彩色层41和第二彩色层42的突起4可作为辅隔垫物。
[0087] 之后,由图4-6可知,若是该基板为C0A阵列基板,由于在形成彩色滤色层之后,还需要在C0A基板上形成多层结构,因此,如图8所示,该基板的制备方法还包括:
[0088] 步骤S105、形成包括第一绝缘层,或第一绝缘层和第二绝缘层的图形。
[0089] 由于本发明实施例中的基板为C0A阵列基板,在形成彩色滤色层后,以ADS型阵列基板为例进行说明,还需在阵列基板上至少形成公共电极8、像素电极10以及公共电极8和像素电极10之间的第一绝缘层9,如图4-6所示,该第一绝缘层9具体位于最上层的彩色层的上方,即如图4所示,第一绝缘层9位于第二彩色层42上方,而在图5和图6中,第一绝缘层9位于第三彩色层43上。
[0090] 在形成C0A阵列基板的过程中,有时候会在形成像素单元的薄膜晶体管5后,形成一层平坦层7,如图4-6所示,以平坦像素区域,减少之后的结构形成的难度。根据平坦层7所选用的材质不同,其粘度不同。一般的,粘度大的平坦层7可增高突起的高度,最后可以加高最多1.5 μπι;相应的,粘度较低的平坦层7可降低突起的高度。通过选用不同材质的平坦层7,可进一步调节突起的高度,使其符合要求。
[0091] 由于平坦层7通常采用可采用氧化硅、氮化硅、氧化铪、树脂等绝缘材料,在本发明实施例中可称为第二绝缘层。
[0092] 步骤S106、形成包括导电层的图形。
[0093] 如图4-6所示,突起还可包括位于所述第二彩色层42上方的一层或两层导电层,该导电层是形成公共电极8 (图4-6中以导电层仅有一层且为公共电极8为例)和/或像素电极10时的保留在突起4上的,可采用氧化铟锡或氧化铟锌等材质,并不承载导电作用,仅用于保持突起和其周围之间的高度差。
[0094] 而由于本发明实施例所提供的基板上的突起是在形成彩色滤色层的材质相同的,无需通过一次构图工艺来单独制备隔垫物,使得采用这种突起的C0A阵列基板的制作所需的构图工艺减少,可以保证C0A阵列基板的良品率。
[0095] 以上所述,仅为本发明的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本发明揭露的技术范围内,可轻易想到变化或替换,都应涵盖在本发明的保护范围之内。因此,本发明的保护范围应以所述权利要求的保护范围为准。

Claims (5)

1.一种基板,包括黑矩阵和彩色滤色层,所述彩色滤色层至少包括颜色不同的第一滤色部分、第二滤色部分和第三滤色部分,其特征在于,所述基板还包括位于所述黑矩阵上的突起,所述突起至少包括第一彩色层和位于所述第一彩色层上方的第二彩色层,所述第一彩色层和所述第一滤色部分材质相同,所述第二彩色层和所述第二滤色部分材质相同,所述突起还包括位于所述第二彩色层上方的第一绝缘层和第二绝缘层,所述基板还包括公共电极,所述第一绝缘层位于所述公共电极上方,所述第二绝缘层位于所述第二彩色层与所述公共电极之间; 或者,所述突起至少包括第一彩色层和位于所述第一彩色层上方的第二彩色层,所述第一彩色层和所述第一滤色部分材质相同,所述第二彩色层和所述第二滤色部分材质相同,所述突起还包括位于所述第二彩色层上方的第三彩色层,所述第三彩色层和所述第三滤色部分材质相同,及位于所述第三彩色层上方的第一绝缘层和第二绝缘层,所述基板还包括公共电极,所述第一绝缘层位于所述公共电极上方,所述第二绝缘层位于所述第三彩色层与所述公共电极之间。
2.根据权利要求1所述的基板,其特征在于,所述基板还包括像素电极,所述像素电极位于所述第一绝缘层上方,所述突起还包括形成所述像素电极时保留在所述突起上的导电层。
3.—种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1或2所述的基板。
4.一种基板的制备方法,其特征在于,所述制备方法包括: 形成黑矩阵; 形成彩色滤色层的第一滤色部分和位于所述黑矩阵上方的第一彩色层,所述第一彩色层与所述第一滤色部分材质相同; 形成所述彩色滤色层的第二滤色部分和位于所述第一彩色层上方的第二彩色层,所述第二彩色层与所述第二滤色部分材质相同,在所述第二彩色层上方依次形成第二绝缘层、公共电极和第一绝缘层; 或者形成所述彩色滤色层的第二滤色部分和位于所述第一彩色层上方的第二彩色层,所述第二彩色层与所述第二滤色部分材质相同,形成所述彩色滤色层的第三滤色部分和位于所述第二彩色层上方的第三彩色层,所述第三彩色层与所述第三滤色部分材质相同,在所述第三彩色层上方依次形成第二绝缘层、公共电极和第一绝缘层。
5.根据权利要求4所述的制备方法,其特征在于,还包括: 在所述第一绝缘层上方形成像素电极。
CN201310642155.0A 2013-12-03 2013-12-03 基板及其制作方法、显示装置 CN103676294B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310642155.0A CN103676294B (zh) 2013-12-03 2013-12-03 基板及其制作方法、显示装置

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201310642155.0A CN103676294B (zh) 2013-12-03 2013-12-03 基板及其制作方法、显示装置
PCT/CN2014/078845 WO2015081675A1 (zh) 2013-12-03 2014-05-29 基板及其制作方法、显示装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN103676294A CN103676294A (zh) 2014-03-26
CN103676294B true CN103676294B (zh) 2016-02-03

Family

ID=50314335

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201310642155.0A CN103676294B (zh) 2013-12-03 2013-12-03 基板及其制作方法、显示装置

Country Status (2)

Country Link
CN (1) CN103676294B (zh)
WO (1) WO2015081675A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170219748A1 (en) * 2016-02-01 2017-08-03 Boe Technology Group Co., Ltd. Fabrication Method of Color Filter Substrate, Color Filter Substrate and Display Device
WO2017197928A1 (zh) * 2016-05-17 2017-11-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN103676294B (zh) * 2013-12-03 2016-02-03 京东方科技集团股份有限公司 基板及其制作方法、显示装置
CN104516157A (zh) * 2015-01-04 2015-04-15 京东方科技集团股份有限公司 液晶面板及显示装置
CN106324899B (zh) * 2016-11-08 2019-09-13 深圳市华星光电技术有限公司 阵列基板、阵列基板的制作方法及液晶显示面板
CN106483719B (zh) * 2016-12-29 2019-08-02 深圳市华星光电技术有限公司 一种电子设备、阵列基板及其制作方法
CN107024812A (zh) 2017-06-08 2017-08-08 深圳市华星光电技术有限公司 具有彩色滤光层的阵列基板及其制备方法、液晶显示装置

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267524A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Sharp Corp 液晶パネル、液晶表示装置および液晶パネルの製造方法
CN101114073A (zh) * 2006-07-25 2008-01-30 中华映管股份有限公司 液晶显示面板
CN101675377A (zh) * 2007-06-11 2010-03-17 夏普株式会社 彩色滤光片基板的制造方法、液晶显示装置的制造方法、彩色滤光片基板、和液晶显示装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008010298A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Idemitsu Kosan Co Ltd 色変換基板及びカラー表示装置
JP4899698B2 (ja) * 2006-08-01 2012-03-21 凸版印刷株式会社 カラーフィルタ及びそれを用いた液晶表示装置
JPWO2009037874A1 (ja) * 2007-09-19 2011-01-06 富士電機ホールディングス株式会社 色変換フィルタ、ならびに色変換フィルタおよび有機elディスプレイの製造方法
US8698995B2 (en) * 2009-09-30 2014-04-15 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display panel having particular laminate spacer
CN103676294B (zh) * 2013-12-03 2016-02-03 京东方科技集团股份有限公司 基板及其制作方法、显示装置

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006267524A (ja) * 2005-03-24 2006-10-05 Sharp Corp 液晶パネル、液晶表示装置および液晶パネルの製造方法
CN101114073A (zh) * 2006-07-25 2008-01-30 中华映管股份有限公司 液晶显示面板
CN101675377A (zh) * 2007-06-11 2010-03-17 夏普株式会社 彩色滤光片基板的制造方法、液晶显示装置的制造方法、彩色滤光片基板、和液晶显示装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20170219748A1 (en) * 2016-02-01 2017-08-03 Boe Technology Group Co., Ltd. Fabrication Method of Color Filter Substrate, Color Filter Substrate and Display Device
WO2017197928A1 (zh) * 2016-05-17 2017-11-23 京东方科技集团股份有限公司 显示面板及显示装置

Also Published As

Publication number Publication date
WO2015081675A1 (zh) 2015-06-11
CN103676294A (zh) 2014-03-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN104965366B (zh) 阵列彩膜集成式液晶显示面板的制作方法及其结构
JP5390585B2 (ja) 垂直配向型液晶表示装置
CN102346339B (zh) 液晶显示器
CN104991377B (zh) 阵列基板、液晶显示面板及显示装置
KR102122402B1 (ko) 씨오티 구조 액정표시장치 및 이의 제조방법
CN100389356C (zh) 四色液晶显示器及用于该液晶显示器的面板
CN106483719B (zh) 一种电子设备、阵列基板及其制作方法
CN102681276B (zh) 阵列基板及其制造方法以及包括该阵列基板的显示装置
CN101201499B (zh) 液晶显示装置
JP3125872B2 (ja) アクティブマトリクス型液晶表示装置
CN105607368B (zh) 阵列基板及其制备方法、显示装置
JP4162129B2 (ja) 液晶表示装置及びその製造方法
KR101335276B1 (ko) 어레이 기판, 이를 갖는 표시패널 및 그 제조 방법
CN103676374B (zh) 一种阵列基板、液晶显示面板及显示装置
TWI281752B (en) Liquid crystal display panel and method of fabricating the same
CN103309081B (zh) 阵列基板及其制造方法、显示装置
CN100416367C (zh) 用于提高亮度的滤色装置
US9589834B2 (en) Array substrate and manufacturing method thereof, and display device
CN104965333A (zh) Coa型液晶显示面板及其制作方法
CN105425480A (zh) 可切换视角的液晶显示装置及其视角切换方法
TW384409B (en) Liquid crystal display device
CN100587571C (zh) 一种薄膜晶体管在彩膜之上的液晶显示器件及其制造方法
CN102809855B (zh) 薄膜晶体管基板及其制造方法
CN101661178B (zh) 液晶显示设备
US9224762B1 (en) Array substrate and display device

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C10 Entry into substantive examination
GR01 Patent grant
C14 Grant of patent or utility model