CN103663951A - 一种玻璃精雕机磨轮 - Google Patents

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黄文良
赖志成
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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Abstract

本发明公开了一种玻璃精雕机磨轮，其包括：粗磨轮、细磨轮及磨轮轴，所述细磨轮下边缘设有一圈凸起，所述细磨轮下方设有一圈凹槽，所述粗磨轮下方设有一圈凸起，所述粗磨轮设置在所述细磨轮的下方，所述磨轮轴设于细磨轮上方，并位于粗磨轮与细磨轮的中心轴上。本发明公开的玻璃精雕机磨轮在生产中使加工模式既操作简单方便，又可以提高玻璃加工的生产效率，还可以改善玻璃加工的良品率。

Description

一种玻璃精雕机磨轮
技术领域
本发明涉及玻璃加工机械领域，特别是涉及一种玻璃精雕机磨轮。
背景技术
原精雕机在运行时根据高速旋转的主轴上安装磨轮或者钻头对产品进行加工或者钻孔。此加工适用于小片薄板的玻璃镜片，不能加工厚板玻璃及镜片；而且不能将磨边和钻孔一起进行，需要更换磨轮或者钻头。操作比较繁琐。
发明内容
本发明的主要目的就是解决现有技术的不足，提供一种玻璃精雕机磨轮，在生产中使加工模式既操作简单方便，又可以提高玻璃加工的生产效率，还可以改善玻璃加工的良品率。
为解决上述技术问题，本发明采用的一个技术方案是：一种玻璃精雕机磨轮，包括：粗磨轮、细磨轮及磨轮轴，所述细磨轮下边缘设有一圈凸起，所述细磨轮下方设有一圈凹槽，所述粗磨轮下方设有一圈凸起，所述粗磨轮设置在所述细磨轮的下方，所述磨轮轴设于细磨轮上方，并位于粗磨轮与细磨轮的中心轴上。
优选的，所述粗磨轮、细磨轮与磨轮轴为一体式连接。
进一步的，所述细磨轮为600目磨轮，所述粗磨轮为230目磨轮。
本发明公开的玻璃精雕机磨轮的有益效果是：将颗粒粗且切削力大的粗磨轮和颗粒细切削力小的细磨轮结合在一起，一次性地先将厚板玻璃进行粗加工再进行细加工。这种加工模式既操作简单方便，又可以提高玻璃加工的生产效率，还可以改善玻璃加工的良品率。
附图说明
图1是本发明玻璃精雕机磨轮一较佳实施例的结构示意图；
图2是本发明玻璃精雕机磨轮一较佳实施例的工作流程示意图；
图3是本发明玻璃精雕机磨轮一较佳实施例的工作流程示意图；
图4是本发明玻璃精雕机磨轮一较佳实施例的工作流程示意图。
具体实施方式
下面结合附图对本发明的较佳实施例进行详细阐述，以使本发明的优点和特征能更易于被本领域技术人员理解，从而对本发明的保护范围做出更为清楚明确的界定。
请参阅图1，一种玻璃精雕机磨轮，包括：粗磨轮1、细磨轮2及磨轮轴4。粗磨轮1的下方设有一圈凸起11，细磨轮2下边缘设有一圈凸起21，细磨轮下方设有一圈凹槽22，磨轮轴4设于细磨轮2上方，并位于粗磨轮2与细磨轮1的中心轴上，粗磨轮2、细磨轮1与磨轮轴4为一体式连接。
本实施例中细磨轮2为600目磨轮，粗磨轮1为230目磨轮。
请参阅图2、图3和图4，为玻璃精雕机磨轮对玻璃3加工的工作流程示意图：
第一步：用230目的粗磨轮1的凸起11部分研磨，深度预留0.06mm，内径尺寸预留0.5mm；
第二步：用600目的细磨轮2的凸起21部分研磨，深度0.06mm，内径尺寸研磨0.5mm，即深度和内径尺寸研磨到标准尺寸；
第三步：用600目的细磨轮2的凹槽22部分研磨，外径部分0.25-0.3mm，即直接将外径部分加工到标准尺寸。
区别于现有技术，将颗粒粗且切削力大的粗磨轮和颗粒细切削力小的细磨轮结合在一起，一次性地先将厚板玻璃进行粗加工再进行细加工。
这种加工模式既操作简单方便，又可以提高玻璃加工的生产效率，还可以改善玻璃加工的良品率；缩短了以前更换磨轮或者钻头以及对刀的时间，直接地提高了生产效率；因为产品在机器上面没有移动，减少了产品移动时产生的不良，而且能保证产品在生产中的精确性，大幅度地提高生产的良品率和精密性，可以更大限度地满足技术的要求。
以上所述仅为本发明的实施例，并非因此限制本发明的专利范围，凡是利用本发明说明书及附图内容所作的等效结构或等效流程变换，或直接或间接运用在其他相关的技术领域，均同理包括在本发明的专利保护范围内。

Claims (3)

1.一种玻璃精雕机磨轮，其特征在于，包括：粗磨轮、细磨轮及磨轮轴，所述细磨轮下边缘设有一圈凸起，所述细磨轮下方设有一圈凹槽，所述粗磨轮下方设有一圈凸起，所述粗磨轮设置在所述细磨轮的下方，所述磨轮轴设于细磨轮上方，并位于粗磨轮与细磨轮的中心轴上。
2.根据权利要求1所述的一种玻璃精雕机磨轮，其特征在于，所述粗磨轮、细磨轮与磨轮轴为一体式连接。
3.根据权利要求1或2所述的一种玻璃精雕机磨轮，其特征在于，所述细磨轮为600目磨轮，所述粗磨轮为230目磨轮。
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Date Code Title Description
PB01 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20140326