CN103557230A - 高速转台轴承 - Google Patents

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CN103557230A
CN103557230A CN201310539100.7A CN201310539100A CN103557230A CN 103557230 A CN103557230 A CN 103557230A CN 201310539100 A CN201310539100 A CN 201310539100A CN 103557230 A CN103557230 A CN 103557230A
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CN
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刘洪富
高希睦
周晓丹
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Wafangdian Kaiwei Fine Bearing Manufacturing Co Ltd
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Wafangdian Kaiwei Fine Bearing Manufacturing Co Ltd
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Abstract

一种高速转台轴承属于轴承领域。是由第一内圈、外圈、第二内圈组成：第一内圈的靠近内径的位置有第一轴向滚道槽和径向滚道槽，分别装有第一轴向滚动体和径向滚动体，在第一轴向滚道槽和径向滚道槽的两端有油槽，在径向滚道槽的壁上有油孔；外圈坐落于第一轴向滚动体上，在外圈的内径一侧有轴向滚道槽，装有轴向滚道体，轴向滚道槽上的油孔与外径侧面的油孔相通；第二内圈坐落于外圈的轴向滚道体上。本发明高速运转时比较稳定，摩擦阻力减小，润滑油不外漏。

Description

高速转台轴承
技术领域
本发明设计一种高速运转的高速转台轴承，属于轴承领域。
背景技术
YRT转台轴承是一种外圈旋转，内圈支撑的回转机构有三列滚子构成，两列轴向滚子保证稳定的轴向承载能力，一列径向滚子保证轴承可承受径向力及倾覆力矩作用，保持器采用尼龙分体式的，适合轴向承载的回转机构，其安装空间小，是轴径向组合轴承，减少了轴承的使用数量及空间，精密度很高，可同时承载轴承径向的极大负荷，倾覆力距也比较大，但此种轴承只适用于转速较低的精密机床，在高速旋转过程中，其轴向滚道中的滚动体在离心力的作用下会脱离滚道，且润滑油会被甩出来。此发明专利将轴承外圈滚道两面各挖一个和滚动体相配合的滚道槽，使轴承在高速旋转过程中滚动体不会因为离心力作用，脱出滚道。
发明内容
本发明为了克服上述技术中存在的问题，提供了一种高速转台轴承，本发明是由第一内圈、外圈、第二内圈组成：第一内圈的靠近内径的位置有第一轴向滚道槽和径向滚道槽，分别装有第一轴向滚动体和径向滚动体，在第一轴向滚道槽和径向滚道槽的两端有油槽，在径向滚道槽的壁上有油孔；外圈坐落于第一轴向滚动体上，在外圈的内径一侧有轴向滚道槽，装有轴向滚道体，轴向滚道槽上的油孔与外径侧面的油孔相通；第二内圈坐落于外圈的轴向滚道体上。
有益效果：本发明高速运转时比较稳定，摩擦阻力减小，润滑油不外漏。
附图说明
附图是本发明的机构示意图。
如图所示附图标记如下：1、第一内圈；2、第一轴向滚道槽；3、径向滚道槽；4、第一轴向滚动体；5、径向滚动体；6、油槽；7、油孔；8、外圈；9、第二轴向滚道槽；10、第二轴向滚动体；11、外圈第一油孔；12、外圈第二油孔，13、第二内圈
具体实施方式
如图所示本发明是由第一内圈1、外圈8、第二内圈13组成：第一内圈1的靠近内径的位置有第一轴向滚道槽2和径向滚道槽3，分别装有第一轴向滚动体4和径向滚动体5，在第一轴向滚道槽2和径向滚道槽3的两端有油槽6，在径向滚道槽3的壁上有油孔7；外圈8坐落于第一轴向滚动体4上，在外圈8的内径一侧有第二轴向滚道槽9，装有第二轴向滚道体10，第二轴向滚道槽9上的外圈第一油孔11与外径侧面的外圈第二油孔12相通；第二内圈13坐落于外圈8的第二轴向滚动体10上。
以上所述是本发明的技术特征，在不脱离本发明的精神范畴内，熟悉此技术的本领域的技术人员所做的各种简单的变相与修饰仍属于本发明的保护范围。

Claims (1)

1.高速转台轴承，其特征在于：本发明是由第一内圈（1）、外圈（8）、第二内圈（13）组成：第一内圈（1）的靠近内径的位置有第一轴向滚道槽（2）和径向滚道槽（3），分别装有第一轴向滚动体（4）和径向滚动体（5），在第一轴向滚道槽（2）和径向滚道槽（3）的两端有油槽（6），在径向滚道槽（3）的壁上有油孔（7）；外圈（8）坐落于第一轴向滚动体（4）上，在外圈（8）的内径一侧有第二轴向滚道槽（9），装有第二轴向滚道体（10），第二轴向滚道槽（9）上的外圈第一油孔（11）与外径侧面的外圈第二油孔（12）相通；第二内圈（13）坐落于外圈（8）的第二轴向滚动体（10）上。
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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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