CN103506921A - 纸管打磨机 - Google Patents

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徐永良
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WUJIANG MEISHENG MACHINERY EQUIPMENT CO Ltd
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WUJIANG MEISHENG MACHINERY EQUIPMENT CO Ltd
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24—GRINDING; POLISHING
    • B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B21/00—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor
    • B24B21/02—Machines or devices using grinding or polishing belts; Accessories therefor for grinding rotationally symmetrical surfaces

Abstract

本发明公开一种纸管打磨机，其包括机架、转动设置在所述机架上的转动轴、设置在所述转动轴上的打磨辊、套设在所述打磨辊上的打磨带、与所述机架相固定设置的导轨、滑动设置在所述导轨上的固定座、水平转动设置在固定座上的纸管套杆，所述转动轴与所述纸管套杆平行设置，所述纸管套杆方向所述导轨方向相平行，由于本发明采用了将纸管套设在纸管套杆上再打磨的方式，能够增加打磨的精度 。

Description

纸管打磨机
技术领域
本发明涉及纸管机械，特别是纸管打磨机。
背景技术
在纸管生产过程中，纸管上相邻的纸条会有重叠部分，重叠部分在纸管表面凸起来，使纸管表面不平整，当纸管的使用过程中容易损坏卷绕在纸管上的物品，一般的打磨设备过于笨重，且打磨后纸管表面的光滑度一般。
发明内容
本发明的目的是提供一种结构简单且打磨进度高的纸管打磨机。
为达到上述目的，本发明采用的技术方案是：纸管打磨机，其包括机架、转动设置在所述机架上的转动轴、设置在所述转动轴上的打磨辊、套设在所述打磨辊上的打磨带、与所述机架相固定设置的导轨、滑动设置在所述导轨上的固定座、水平转动设置在固定座上的纸管套杆，所述转动轴与所述纸管套杆平行设置，所述纸管套杆方向所述导轨方向相平行。
优选地，所述转动轴通过电机驱动。
优选地，所述打磨带包括粗磨带和精磨带。
由于上述技术方案运用，本发明与现有技术相比具有下列优点：
由于本发明采用了将纸管套设在纸管套杆上再打磨的方式，能够增加打磨的精度。
附图说明
附图1为本发明的示意图；
附图2为本发明的工作示意图。
以上附图中：1、固定座；2、导轨；3、纸管套杆；4、粗磨带；5、机架；6、精磨带；7、转动轴；8、电机；9、打磨辊。
具体实施方式
下面结合附图所示的实施例对本发明作进一步描述：
实施例一：参见附图1所示，纸管打磨机，其包括机架5、转动设置在所述机架5上的转动轴7、设置在所述转动轴7上的打磨辊9、套设在所述打磨辊9上的打磨带、与所述机架5相固定设置的导轨2、滑动设置在所述导轨2上的固定座1、水平转动设置在固定座1上的纸管套杆3，转动轴7平行设置有两根，每根转动轴7上设置有两个打磨辊9，两根转动轴7同一侧的打磨辊9为一组，两组打磨辊9上分别套设有粗磨带4和精磨带6，转动轴7与、纸管套杆3以及导轨的方向相互平行，转动轴7通过电机8驱动，需要打磨的纸管套设在纸管套杆3上随着纸管套杆3不停转动，固定座在导轨上来回运动，粗磨带4和精磨带6便能够同时打磨纸管套杆3的纸管。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并据以实施，并不能以此限制本发明的保护范围。凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本发明的保护范围之内。

Claims (3)

1.纸管打磨机，其特征在于：其包括机架、转动设置在所述机架上的转动轴、设置在所述转动轴上的打磨辊、套设在所述打磨辊上的打磨带、与所述机架相固定设置的导轨、滑动设置在所述导轨上的固定座、水平转动设置在固定座上的纸管套杆，所述转动轴与所述纸管套杆平行设置，所述纸管套杆方向所述导轨方向相平行。
2.根据权利要求1所述的纸管打磨机，其特征在于：所述转动轴通过电机驱动。
3.根据权利要求1所述的纸管打磨机，其特征在于：所述打磨带包括粗磨带和精磨带。 
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PB01 Publication
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SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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