CN103083547A - 妊娠纹真皮修复膏 - Google Patents
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Abstract
本发明是一种用于修复妊娠纹的真皮修复膏，妊娠纹真皮修复膏的成份主要由大黄、青黛、乳香、当归、川芎以及白蔹等组成，由上述的主要成份经过纳米技术提取并经乳化就可以得到相应的妊娠纹真皮修复膏。本发明的优点和效果在于：妊娠纹真皮修复膏，能快速修复受损的表皮细胞，促进表皮细胞的增殖、分化，强烈刺激细胞的生长，促进上皮细胞，成纤维细胞的增殖，以及胶原蛋白的合成，并有降温的作用。本发明产品适合在细胞焊接后对表皮细胞的修复，使表皮细胞增生活跃，加速妊娠纹受损皮肤链接修复。
Description
技术领域
本发明是属于用于女性产后妊娠纹修复领域的一种膏剂。
背景技术
随着人们生活水平的提高，产后妈妈对身体的要求越来越高，因为妊娠纹的存在直接影响到女性的穿衣，社交以及夫妻生活；据国家权威计生和民政调查机构统计，近年来，我国每年因为妊娠纹影响夫妻生活，引起婚外恋，最后导致离婚的夫妻有90多万对，并呈增长趋势！可见妊娠纹对于产后女性的危害是非常大的，对此专家呼吁，产后修复妊娠纹，已经成为产后女性的一种迫切需要，成为婚姻社会安定的必要了。
发明内容
本发明的目的就是提供一种具有修复妊娠纹功能与作用的一种妊娠纹真皮修复膏。
本发明的目的就是通过这样的方法来实现的：妊娠纹真皮修复膏的成份主要由大黄、青黛、乳香、当归、川芎以及白蔹等组成，由上述的主要成份经过纳米技术提取并经乳化就可以得到相应的妊娠纹真皮修复膏。
本发明的优点和效果在于：妊娠纹真皮修复膏，能快速修复受损的表皮细胞，促进表皮细胞的增殖、分化，强烈刺激细胞的生长，促进上皮细胞，成纤维细胞的增殖，以及胶原蛋白的合成，并有降温的作用。
本发明产品适合在细胞焊接后对表皮细胞的修复，使表皮细胞增生活跃，加速妊娠纹受损皮肤链接修复。
具体实施方式
下面介绍产品的制作配方及工艺
将大黄、青黛、乳香、当归、川芎以及白蔹等绪药经纳米技术精制提炼并经乳化就可以得到相应的妊娠纹真皮修复膏。批量生产，扩大生产规模即可.
Claims (1)
1.妊娠纹真皮修复膏，主要由大黄、青黛、乳香、当归、川芎以及白蔹等组成：其主要特征是：要其主要组成份由大黄、青黛、乳香、当归、川芎以及白蔹等精制而成。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN 201110342715 CN103083547A (zh) | 2011-11-03 | 2011-11-03 | 妊娠纹真皮修复膏 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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|---|---|
| CN103083547A true CN103083547A (zh) | 2013-05-08 |
Family
ID=48197026
Family Applications (1)
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| CN 201110342715 Pending CN103083547A (zh) | 2011-11-03 | 2011-11-03 | 妊娠纹真皮修复膏 |
Country Status (1)
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN103380647A (zh) * | 2011-01-07 | 2013-10-30 | 日本电气株式会社 | 移动通信方法、移动管理节点和服务网关设备 |
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2011
- 2011-11-03 CN CN 201110342715 patent/CN103083547A/zh active Pending
Cited By (3)
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| US10129849B2 (en) | 2011-01-07 | 2018-11-13 | Nec Corporation | Mobile communication method, mobile communication system, and mobile management node |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| C06 | Publication | ||
| PB01 | Publication | ||
| DD01 | Delivery of document by public notice |
Addressee: Tianjin Wealth Bioengineering Science and Technology Co., Ltd. Document name: Notification of Publication of the Application for Invention |
|
| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
| WD01 | Invention patent application deemed withdrawn after publication |
Application publication date: 20130508 |