CN103074647A - 一种光亮强走位无氰碱铜液 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种光亮强走位无氰碱铜液,包括以下组分:铜离子1~10g/L;络合剂50~200g/L;光亮剂1~20ppm;走位剂1~20ppm;其中,所述络合剂为HEDP、柠檬酸、焦磷酸盐、糖精钠中的一种或多种。本发明具有以下优点:不含氰化物,且镀液稳定性高;镀层走位能力极强,为光亮均匀红色镀层。

Description

一种光亮强走位无氰碱铜液
技术领域
本发明属于电镀化学技术领域,尤其涉及低污染低毒性的无氰镀铜液。 
背景技术
电镀铜是电镀中重要的一种镀种,主要分酸性镀铜和碱性镀铜。而目前碱性镀铜的络合剂都采用氰化物,因此具有极高的毒性,对环境污染较大。最近也有企业研究出五氰环境下电镀铜,但都处于保密状态,且镀铜工艺不稳定,在电镀过程中,镀层光亮度变化较大,且镀层粗糙,与后续镀镍层结合力较差。 
发明内容
发明目的:为了克服现有技术中存在的不足,本发明提供了一种光亮强走位无氰碱铜液,具有稳定的光亮度和极强的走位能力。 
技术方案:为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:一种光亮强走位无氰碱铜液,包括以下组分: 
铜离子    1~10g/L;
络合剂    50~200g/L;
光亮剂    1~20ppm;
走位剂    1~20ppm;
其中,所述络合剂为HEDP、柠檬酸、焦磷酸盐、糖精钠中的一种或多种。
作为优选,所述光亮剂为BBIS、MPS、ALS或BMP。 
作为优选,所述走位剂为聚乙二醇、二甲基硅油、ZPS中的一种或多种的混合物。 
作为优选,所述铜离子的由硫酸铜、焦磷酸铜或碳酸铜提供。 
有益效果:与现有技术相比,本发明具有以下优点:不含氰化物,且镀液稳定性高;镀层走位能力极强,为光亮均匀红色镀层。 
具体实施方式
下面对本发明作更进一步的说明。 
实施例1 
在150g/L的HEDP(羟基乙叉二膦酸)溶液中,加入25g/L的焦磷酸铜,并加热至40~50℃溶解,并搅拌均匀,缓慢加入20%的氢氧化钠溶液或碳酸钠溶液,调节pH为9~10。并在0.5~2A/平方分米的电流密度下电解10h以上。然后加入20ppm的BMP(单丙氧基丁炔二醇醚)和10ppm的聚乙二醇6000。在赫尔槽中电镀试片,操作条件为:1A电流,电镀时间为2分钟。试片高电流区和低电流区均完全覆盖有均匀的红色铜镀层,该镀层表面均匀光亮,走位能力非常好。在此条件连续电镀3片,镀层外观基本不变。另外再50L的大槽中进行中试试验,在0.5~1A/dm2的电流密度下,以铁件为试件电镀5分钟,然后进入镀镍液中镀镍5分钟,铜层与镍层之间结合力优良,没有起泡。
实施例2 
在100g/L的HEDP溶液中,加入70g/L的焦磷酸钾和20g/L的硫酸铜,搅拌完全溶解,并用碳酸钠溶液调节pH到9~10。并在0.5~2A/平方分米的电流密度下电解10h以上。然后加入20ppm的MPS(硫代丙烷磺酸钠)和5ppm的ZPS(3-(苯骈噻唑-2-巯基)-丙烷磺酸钠)。在赫尔槽中电镀试片,操作条件为:1A电流,电镀时间为2分钟。试片高电流区和低电流区均完全覆盖有均匀的红色铜镀层,该镀层表面均匀光亮,走位能力非常好。在此条件连续电镀3片,镀层外观未见明显变化。另外再50L的大槽中进行中试试验,在0.5~1A/dm2的电流密度下,以铁件为试件电镀5分钟,然后进入镀镍液中镀镍5分钟,铜层与镍层之间结合力优良,没有起泡。
实施例3 
在100g/L的HEDP溶液中,加入50g/L的焦磷酸钾和15g/L的碳酸铜,搅拌完全溶解,并用氢氧化钠或碳酸钠溶液调节pH到9~10。并在0.5~2A/平方分米的电流密度下电解10h以上。然后加入20ppm的BMP(单丙氧基丁炔二醇醚)、10ppm的二甲基硅油和10ppm的聚乙二醇6000。在赫尔槽中电镀试片,操作条件为:1A电流,电镀时间为2分钟。试片高电流区和低电流区均完全覆盖有均匀的红色铜镀层,该镀层表面呈光亮均匀,走位能力非常好。在此条件连续电镀3片,镀层外观基本不变。另外再50L的大槽中进行中试试验,在0.5~1A/dm2的电流密度下,以铁件为试件电镀5分钟,然后进入镀镍液中镀镍5分钟,铜层与镍层之间结合力优良,没有起泡。

Claims (4)

1.一种光亮强走位无氰碱铜液,包括以下组分:
铜离子    1~10g/L;
络合剂    50~200g/L;
光亮剂    1~20ppm;
走位剂    1~20ppm;
其特征在于:所述络合剂为HEDP、柠檬酸、焦磷酸盐、糖精钠中的一种或多种。
2.根据权利要求1所述光亮强走位无氰碱铜液,其特征在于:所述光亮剂为BBIS、MPS、ALS或BMP。
3.根据权利要求1所述光亮强走位无氰碱铜液,其特征在于:所述走位剂为聚乙二醇、二甲基硅油、ZPS中的一种或多种的混合物。
4.根据权利要求1所述光亮强走位无氰碱铜液,其特征在于:所述铜离子的由硫酸铜、焦磷酸铜或碳酸铜提供。
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