CN103030234A - 集成电路产业含氟废水处理方法 - Google Patents

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CN103030234A CN 201110305095 CN201110305095A CN103030234A CN 103030234 A CN103030234 A CN 103030234A CN 201110305095 CN201110305095 CN 201110305095 CN 201110305095 A CN201110305095 A CN 201110305095A CN 103030234 A CN103030234 A CN 103030234A
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李建雄
方程冉
陶松垒
乔静兵
郑彬理
石伟峰
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Zhejiang Lover Health Science and Technology Development Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种集成电路产业含氟废水处理方法,采用三级反应一级沉淀的工艺,包括含氟废水收集池、一级反应槽、二级反应槽、三级反应槽、沉淀槽、排放水槽、污泥槽和污泥脱水机。含氟废水通过含氟废水收集池的进水口进入含氟废水收集池,含氟废水收集池管道连接至一级反应槽,在一级反应槽中加入氢氧化钙和氯化钙,一级反应槽管道连接至二级反应槽,在二级反应槽中加入PAC,二级反应槽管道连接至三级反应槽,在三级反应槽中加入PAM,三级反应槽管道连接至沉淀槽,沉淀槽一根管道连接至排放水槽,一根管道连接至污泥槽,污泥槽管道连接至污泥脱水机。本发明具有结构简单、方便实用的优点。

Description

集成电路产业含氟废水处理方法
技术领域:
本发明属于氟化工技术领域,具体涉及一种集成电路产业含氟废水处理方法。
背景技术:
氟是一种微量元素,长期服用氟含量大于1.5mg/L的含氟水会给人带来许多不利影响,严重的会引起氟斑牙和氟骨病,然而氟化物又是重要的化工原料,广泛地应用于钢铁、有色金属冶金、化工、电子等诸多行业中,因而产生了大量含氟废水,对环境和人们的身体健康产生了威胁,我国1996年颁布的《污水综合排放标准》(GB8789-1996)中规定企业对外排放含氟废水,氟化物浓度不得超过10mg/L。
芯片刻蚀过程中排放二股含氟废水:高浓度含氟废水和低浓度含氟废水,其中高浓度含氟废水为刻蚀初期排放的废水,氟离子浓度可高达10000mg/L;低浓度含氟废水为后续冲洗废水,氟离子浓度约为500mg/L。
国内外含氟废水的处理方法主要有沉淀法和吸附法两大类。对于高浓度含氟废水一般可采用钙盐沉淀法,而在实际工程运行中,要确保氟离子浓度(F-<10mg/L)稳定达标,往往比较困难。
发明内容:
为了克服上述所说的不足,本发明提供一种集成电路产业含氟废水处理方法,用以解决现有集成电路产业含氟废水处理方法确保氟离子浓度(F-<10mg/L)稳定达标往往比较困难的问题。
为达到上述目的,本发明集成电路产业含氟废水处理方法,采用三级反应一级沉淀的工艺,包括含氟废水收集池、一级反应槽、二级反应槽、三级反应槽、沉淀槽、排放水槽、污泥槽和污泥脱水机。含氟废水通过含氟废水收集池的进水口进入含氟废水收集池,含氟废水收集池管道连接至一级反应槽,在一级反应槽中加入氢氧化钙和氯化钙,一级反应槽管道连接至二级反应槽,在二级反应槽中加入PAC,二级反应槽管道连接至三级反应槽,在三级反应槽中加入PAM,三级反应槽管道连接至沉淀槽,沉淀槽一根管道连接至排放水槽,一根管道连接至污泥槽,污泥槽管道连接至污泥脱水机。
所述的含氟废水收集池采用钢混凝土结构,内净尺寸为4300mm×2200mm×3700mm,有效水深2.20米,有效容积20.8m3,水力停留时间4.2h,池内设穿孔管进行空气搅拌,池壁内衬玻璃钢防腐,1座。废水池内设置2台CFY65-50-160型液下泵,1用1备。
所述的化学反应系统共设三级反应槽,每级反应槽结构相同,反应槽槽体为钢结构,且内衬玻璃钢防腐。净尺寸为1200mm×1200mm×2500mm,有效水深2.35m,泥斗高0.95m,有效容积3.4m,水力停留时间0.68h,附搅拌装置。
所述的斜管沉淀槽槽体为钢结构,且内衬玻璃钢防腐。净尺寸为4000mm×2500mm×4400mm,1只。表面负荷0.5m/(m·h),沉淀时间3h,重力排泥,分设2个泥斗。
所述的排放水槽槽体为钢结构,且为内衬玻璃钢防腐。净尺寸为2000mm×1000mm×2500mm,1只。有效水深2.00m,有效容积4.0m3,槽内设穿孔管进行空气搅拌。
所述的污泥处理系统中污泥以含水率99.5%计,总产量约为4m3/d,经厢式压滤机(型号XM15/800-UB,1台)脱水后,每天产生含水率80%的泥饼0.15t左右,最终将其外运送有资质的固废处理单位委托处置。
采用上述结构后,使用时,车间排放的含氟废水通过管路系统自流进入含氟废水收集池,含氟废水通过废水泵提升后进入一级反应槽,在该槽内投加Ca(OH)2溶液和CaCl2溶液,使氟离子生成CaF2沉淀,并粗调pH值至8~9;然后废水自流入二级反应槽,在该槽内投加混凝剂PAC、NaOH溶液或H2SO4溶液,使CaF2沉淀生成较大颗粒,并将pH值调至6~7;然后废水自流入三级反应槽,在该槽内投加絮凝剂PAM,增加CaF2沉淀效果。经絮凝反应后的废水自流入斜管沉淀池,通过沉淀作用达到固液分离,同时使污泥得到沉淀和浓缩。斜管沉淀池出水自流入排放水槽,当氟离子浓度达标时排入厂区废水排水管网,当氟离子浓度超过排放标准时回流至含氟废水收集池继续处理。
本发明的优点是:结构简单,方便实用,有效地解决了现有集成电路产业含氟废水处理方法确保氟离子浓度(F-<10mg/L)稳定达标往往比较困难的问题。
附图说明:
图1为本发明集成电路产业含氟废水处理方法结构示意图。
图中:1、含氟废水收集池,2、一级反应槽,3、二级反应槽,
      4、三级反应槽,5、沉淀槽,6、排放水槽,7、污泥槽,
      8、污泥脱水机。
具体实施方式:
如图1所示,一种集成电路产业含氟废水处理方法,采用三级反应一级沉淀的工艺,包括含氟废水收集池1、一级反应槽2、二级反应槽3、三级反应槽4、沉淀槽5、排放水槽6、污泥槽7和污泥脱水机8。含氟废水通过含氟废水收集池1的进水口进入含氟废水收集池1,含氟废水收集池1管道连接至一级反应槽2,在一级反应槽2中加入氢氧化钙和氯化钙,一级反应槽2管道连接至二级反应槽3,在二级反应槽3中加入PAC,二级反应槽3管道连接至三级反应槽4,在三级反应槽4中加入PAM,三级反应槽4管道连接至沉淀槽5,沉淀槽5一根管道连接至排放水槽6,一根管道连接至污泥槽7,污泥槽7管道连接至污泥脱水机8。

Claims (6)

1.一种集成电路产业含氟废水处理方法,采用三级反应一级沉淀的工艺,包括含氟废水收集池、一级反应槽、二级反应槽、三级反应槽、沉淀槽、排放水槽、污泥槽和污泥脱水机,其特征是:含氟废水通过含氟废水收集池的进水口进入含氟废水收集池,含氟废水收集池管道连接至一级反应槽,在一级反应槽中加入氢氧化钙和氯化钙,一级反应槽管道连接至二级反应槽,在二级反应槽中加入PAC,二级反应槽管道连接至三级反应槽,在三级反应槽中加入PAM,三级反应槽管道连接至沉淀槽,沉淀槽一根管道连接至排放水槽,一根管道连接至污泥槽,污泥槽管道连接至污泥脱水机。
2.根据权利要求1所述的集成电路产业含氟废水处理方法,其特征是:含氟废水收集池采用钢混凝土结构,内净尺寸为4300mm×2200mm×3700mm,有效水深2.20米,有效容积20.8m3,水力停留时间4.2h,池内设穿孔管进行空气搅拌,池壁内衬玻璃钢防腐,1座。废水池内设置2台CFY65-50-160型液下泵,1用1备。
3.根据权利要求1所述的集成电路产业含氟废水处理方法,其特征是:化学反应系统共设三级反应槽,每级反应槽结构相同,反应槽槽体为钢结构,且内衬玻璃钢防腐。净尺寸为1200mm×1200mm×2500mm,有效水深2.35m,泥斗高0.95m,有效容积3.4m,水力停留时间0.68h,附搅拌装置。
4.根据权利要求1所述的集成电路产业含氟废水处理方法,其特征是:斜管沉淀槽槽体为钢结构,且内衬玻璃钢防腐。净尺寸为4000mm×2500mm×4400mm,1只。表面负荷0.5m/(m·h),沉淀时间3h,重力排泥,分设2个泥斗。
5.根据权利要求1所述的集成电路产业含氟废水处理方法,其特征是:排放水槽槽体为钢结构,且为内衬玻璃钢防腐。净尺寸为2000mm×1000mm×2500mm,1只。有效水深2.00m,有效容积4.0m3,槽内设穿孔管进行空气搅拌。
6.根据权利要求1所述的集成电路产业含氟废水处理方法,其特征是:污泥处理系统中污泥以含水率99.5%计,总产量约为4m3/d,经厢式压滤机(型号XM15/800-UB,1台)脱水后,每天产生含水率80%的泥饼0.15t左右,最终将其外运送有资质的固废处理单位委托处置。
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