CN102943289B - 一种全走位无氰碱铜 - Google Patents

一种全走位无氰碱铜 Download PDF

Info

Publication number
CN102943289B
CN102943289B CN201210411481.6A CN201210411481A CN102943289B CN 102943289 B CN102943289 B CN 102943289B CN 201210411481 A CN201210411481 A CN 201210411481A CN 102943289 B CN102943289 B CN 102943289B
Authority
CN
China
Prior art keywords
copper
cyanide
full displacement
free alkaline
alkaline copper
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN201210411481.6A
Other languages
English (en)
Other versions
CN102943289A (zh
Inventor
陈大弟
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NANJING DADI REFRIGERATION FOOD CO Ltd
Original Assignee
NANJING DADI REFRIGERATION FOOD CO Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NANJING DADI REFRIGERATION FOOD CO Ltd filed Critical NANJING DADI REFRIGERATION FOOD CO Ltd
Priority to CN201210411481.6A priority Critical patent/CN102943289B/zh
Publication of CN102943289A publication Critical patent/CN102943289A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN102943289B publication Critical patent/CN102943289B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

本发明公开了一种全走位无氰碱铜,包括以下组分:铜离子1~10g/L;HEDP络合剂50~150g/L;EDTA10~25g/L;四羟丙基乙二胺10~15g/L;2,2-联吡啶3~8ppm;铁氰化钾50~100ppm;走位剂1~20ppm。本发明具有以下优点:不含氰化物,具有全走位的铜覆盖能力,特别适于复杂形状的工件。

Description

一种全走位无氰碱铜
技术领域
[0001] 本发明属于电镀化学技术领域,尤其涉及低污染低毒性的无氰镀铜液。
背景技术
[0002] 电镀铜是电镀中重要的一种镀种,主要分酸性镀铜和碱性镀铜。而目前碱性镀铜 的络合剂都采用氰化物,因此具有极高的毒性,对环境污染较大。最近也有企业研宄出五氰 环境下电镀铜,但只能用于铁基材。当工件形状比较复杂,如铁管的管内壁在普通碱铜电镀 中时难以沉积铜镀层,因此在后续酸性镀液中,铁基材会发生腐蚀,并对后续镀液带来铁等 杂质,影响后续电镀;同时铁管内壁腐蚀也会在管口处出现腐蚀流痕。
发明内容
[0003] 发明目的:为了克服现有技术中存在的不足,本发明提供了一种全走位无氰镀铜, 具有全方位覆盖能力,非常适合复杂工件的铜电沉积工艺。
[0004] 技术方案:为解决上述技术问题,本发明采用以下技术方案:一种全走位无氰碱 铜,由以下组分组成:铜离子1~l〇g/L ;HEDP络合剂50~150g/L ;EDTA10~25g/L ;四羟 丙基乙二胺10~15g/L ;2, 2-联吡啶3~8ppm ;铁氰化钾50~IOOppm ;走位剂1~20ppm。 [0005] 作为优选,所述铜离子的来源为硫酸铜、焦磷酸铜、碳酸铜中的一种或多种的混 合。
[0006] 有益效果:与现有技术相比,本发明具有以下优点:不含氰化物,具有全走位的铜 覆盖能力,特别适于复杂形状的工件。
具体实施方式
[0007] 下面对本发明作更进一步的说明。
[0008] 实施例1
[0009] 在120g/L的HEDP (羟基乙叉二膦酸)溶液中,加入20g/L的EDTA并搅拌均匀。然 后加入20g/L的焦磷酸铜和5g/L的硫酸铜,加热到50°C搅拌均匀。继续加入10g/L的四羟 丙基乙二胺、5ppm的2, 2-联吡啶、80ppm的铁氰化钾和IOppm的聚乙二醇,并用20%的氢氧 化钠调节pH到10~11。
[0010] 在赫尔槽中电镀试片,操作条件为:1A电流,电镀时间为2分钟。得到的试片上铜 镀层完全覆盖试片,且呈半光亮均匀红色。
[0011] 另外在50L的大槽中进行中试试验,在0. 5~lA/dm2的电流密度下,以铁管作为 工件带电下槽进行电镀5分钟,铁管外壁镀上半光亮的铜镀层,镀层厚度为0. 2~I. 2 ym ; 而铁管内壁也镀上暗红色铜层厚度为0. 1~0. 5 ym。本发明主要是在无氰碱铜的基础上结 合化学镀铜技术,使得无氰镀铜具有全走位的覆盖能力,特别适于铁管这类复杂形状的工 件。

Claims (2)

1. 一种全走位无氰碱铜,由以下组分组成: 铜离子 1~10g/L; HEDP 络 Λ*剂 50~150gZL; EDTA 10 ~25g/L; 四轻丙基乙二胺 10~15g/L; 2,2-联吡啶 3~8ppm; 铁氰化钾 50~IOOppm; 走位剂 1~20ppm。
2. 根据权利要求1所述全走位无氰碱铜,其特征在于:所述铜离子的来源为硫酸铜、焦 磷酸铜、碳酸铜中的一种或多种的混合。
CN201210411481.6A 2012-10-25 2012-10-25 一种全走位无氰碱铜 Expired - Fee Related CN102943289B (zh)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210411481.6A CN102943289B (zh) 2012-10-25 2012-10-25 一种全走位无氰碱铜

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CN201210411481.6A CN102943289B (zh) 2012-10-25 2012-10-25 一种全走位无氰碱铜

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN102943289A CN102943289A (zh) 2013-02-27
CN102943289B true CN102943289B (zh) 2015-08-26

Family

ID=47726271

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN201210411481.6A Expired - Fee Related CN102943289B (zh) 2012-10-25 2012-10-25 一种全走位无氰碱铜

Country Status (1)

Country Link
CN (1) CN102943289B (zh)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105154929A (zh) * 2015-09-24 2015-12-16 钱宏彬 一种碱性无氰镀铜剂及其使用方法
CN107829116B (zh) * 2017-12-14 2019-08-09 广州三孚新材料科技股份有限公司 无氰碱性镀铜电镀液
CN111962109A (zh) * 2020-08-20 2020-11-20 苏州大学 一种酸铜添加剂及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101914789A (zh) * 2010-08-12 2010-12-15 河南平原光电有限公司 无氰镀铜方法
CN102127781A (zh) * 2011-02-25 2011-07-20 湖南大学 适用于印制板孔金属化的电化镀铜

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101914789A (zh) * 2010-08-12 2010-12-15 河南平原光电有限公司 无氰镀铜方法
CN102127781A (zh) * 2011-02-25 2011-07-20 湖南大学 适用于印制板孔金属化的电化镀铜

Also Published As

Publication number Publication date
CN102943289A (zh) 2013-02-27

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103668357B (zh) 一种碱性无氰高速镀铜镀液
CN103014787B (zh) 一种铜电镀液及其电镀工艺
CN102758228B (zh) 一种磺酸型半光亮纯锡电镀液
CN104109885B (zh) 一种弱碱性焦磷酸盐电镀光亮锡溶液及工艺
CN102080241A (zh) 一种低浓度弱碱性无氰镀铜及槽液配制方法
CN103074647A (zh) 一种光亮强走位无氰碱铜液
CN104152955A (zh) 碱性溶液电镀光亮白铜锡电镀液及工艺
CN101550569A (zh) 一种无氰碱性镀铜液及其制备和使用方法
CN101314861A (zh) 低镍含量的无氰碱性锌镍合金的电镀工艺
CN106968003A (zh) 钕铁硼磁钢表面镀层方法
CN102268701A (zh) 一种光亮无氰镀银电镀液及其配制方法
CN102943289B (zh) 一种全走位无氰碱铜
CN102492968A (zh) 在黄铜基材上镀铜的方法
CN102677116A (zh) 一种在铁基体上双脉冲预镀无氰碱铜的方法
CN110029374A (zh) 一种无氰碱性镀铜电镀液及电镀工艺
CN101550570A (zh) Edta体系无氰电镀铜液及其使用方法
CN204174295U (zh) 配置有双阳极的酸性锌镍合金电镀装置
CN102719864A (zh) 一种含铈锌镀层的制备方法
CN104789999B (zh) 一种铁件直接电镀酸铜溶液
CN110923757B (zh) 一种无氰碱铜电镀液及其使用方法
CN100588750C (zh) 焦磷酸盐镀铜作为无氰镀铜的打底电镀液
CN102383149A (zh) 一种环保三价铬电镀液及其电镀方法
CN107858712A (zh) 水电解极板镀镍添加剂
CN103938233A (zh) 一种电镀锌镍合金镀液
CN101760769B (zh) 非晶态铁磷合金电镀液及其配制方法

Legal Events

Date Code Title Description
PB01 Publication
C06 Publication
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C10 Entry into substantive examination
GR01 Patent grant
C14 Grant of patent or utility model
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20150826

Termination date: 20151025

EXPY Termination of patent right or utility model