CN102714044B - 磁记录介质的制造装置和制造方法 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种能够在磁记录介质的表面以均匀的膜厚形成润滑剂膜的磁记录介质的制造装置和制造方法。具体来说，本发明的磁记录介质的制造装置，通过将具有中心孔的圆盘状的磁记录介质浸渍到装有液体润滑剂的浸渍槽中后，从该浸渍槽中将磁记录介质提起，从而在磁记录介质的表面形成润滑剂膜，该制造装置的特征在于，具有：插入通过所述磁记录介质的中心孔并以悬吊状态支持该磁记录介质的吊架机构；将所述吊架机构和所述浸渍槽的任一方相对于另一方进行升降操作的升降机构，所述吊架机构具有：上端部与所述磁记录介质的内周部抵接的支持板；从所述支持板的下端部延长地设置并在其与所述磁记录介质的内周部之间形成沿该内周部的间隙的断液板。

Description

磁记录介质的制造装置和制造方法
技术领域
本发明涉及磁记录介质的制造装置和制造方法，其中，在将具有中心孔的圆盘状的磁记录介质浸渍到装有液体润滑剂的浸渍槽后，将磁记录介质从该浸渍槽中提起，由此在磁记录介质的表面形成润滑剂膜。
本申请基于在2010年1月26日在日本提出申请的专利申请2010-014272号要求优先权，将其内容援引于本申请中。
背景技术
近年，在用于硬盘驱动器（HDD）等中的磁记录介质的领域中，记录密度的提高很显著，最近，记录密度以每年1.5倍左右的惊人速度持续增长。支持这样的记录密度的提高的技术涉及多方面，但作为关键技术之一，能够列举磁头和磁记录介质之间的滑动特性的控制技术。
例如，被称作温彻斯特样式的、将从磁头的起动到停止的基本动作相对于磁记录介质作为接触滑动-浮起-接触滑动的CSS（接触起动停止）方式成为硬盘驱动器的主流以来，就无法避免磁记录介质上的磁头的接触滑动。
因此，与磁头和磁记录介质之间的润滑性相关的问题，直到现在都是决定性的技术课题，改善层叠在磁记录介质的磁性膜上的保护膜的努力一直在继续，并且，该介质表面的耐磨损性和耐滑动性成为提高磁记录介质的可靠性的重要支柱。
作为磁记录介质的保护层，曾提出了由各种各样的材质构成的保护层的提案，但从成膜性以及耐久性等的综合的观点考虑，主要采用碳膜。另外，该碳膜的硬度、密度、动摩擦系数等如实地反映在磁记录介质的CSS特性或耐腐蚀特性中，所以非常重要。
但是，由于仅通过设置保护层，磁记录介质的耐久性较差，所以，在该保护层的表面形成了润滑剂膜。该润滑剂膜的主要作用是防止磁记录介质的保护层等与大气直接接触，从而提高其耐腐蚀性，以及防止在磁头滑块偶然与磁记录介质的数据面接触时，磁头滑块与保护层直接接触，并且能够使在磁记录介质上滑动的磁头滑块的摩擦力显著降低。
这里，形成在磁记录介质的表面的润滑剂膜，以亚纳米（sub-nm）单位对膜厚进行严格地管理，作为该润滑膜的形成方法，一直以来广泛使用所谓的浸渍法，该浸渍法是使磁记录介质浸渍在装有液体润滑剂的浸渍槽中，然后，将磁记录介质从该浸渍槽中提起，由此在磁记录介质的表面以均匀的膜厚形成润滑剂膜（例如，参照专利文献1。）。另外，在该浸渍法中，从量产性方面考虑一般采用分批处理方式，将磁记录介质以排列多个的状态浸渍到浸渍槽中，进行统一处理。
现有技术文献
专利文献1：日本特开平6-150307号公报
发明内容
因此，在使用了上述的浸渍法的润滑膜的涂布方法中，在从浸渍槽中提起磁记录介质时，以一定的速度提起以使得液体润滑剂的液面不摇动很重要。这是由于，若液体润滑剂的液面发生摇动，则形成在磁记录介质的表面的润滑剂膜的膜厚分布会产生线状的涂布不均。
具体地说，被浸渍到浸渍槽中的磁记录介质，被插入通过其中心孔的吊架（hanger）以悬吊的状态支持，将该吊架从装有液体润滑剂的浸渍槽中提起时，液体润滑剂的液面会产生紊乱（摇动）。尤其是在吊架从液面出来的瞬间，附着在吊架上的液滴（积液）飞溅、滴落，所以，形成在磁记录介质的表面上的润滑剂膜的膜厚分布容易产生不均。
在上述的专利文献1记载的发明中，为了解决这样的问题，在与磁记录介质的内周部抵接的吊架的上端部形成锐角的边缘，防止产生积液。但是，在该情况下，在因边缘而使液体润滑剂的液面被切断的瞬间，在边缘产生的微量的积液飞溅，在液体润滑剂的液面产生摇动，因此形成在磁记录介质的表面的润滑剂膜的膜厚分布会产生不均。
本发明是鉴于这样的以往的情况而提出的发明，其目的在于提供一种能够在磁记录介质的表面上以均匀的膜厚形成润滑剂膜的磁记录介质的制造装置和制造方法。
为了实现上述目的，本发明提供以下的技术方案。
（1）一种磁记录介质的制造装置，通过将具有中心孔的圆盘状的磁记录介质浸渍到装有液体润滑剂的浸渍槽中后，从该浸渍槽中提起磁记录介质，从而在磁记录介质的表面形成润滑剂膜，该制造装置的特征在于，具备：
插入通过所述磁记录介质的中心孔并以悬吊状态支持该磁记录介质的吊架机构；和
将所述吊架机构和所述浸渍槽的任一方相对于另一方进行升降操作的升降机构，
所述吊架机构具有：
上端部与所述磁记录介质的内周部抵接的支持板；和
从所述支持板的下端部延长地设置并在与所述磁记录介质的内周部之间形成沿该内周部的间隙的断液板。
（2）根据上述（1）所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，所述吊架机构具有：
上端部与所述磁记录介质的内周部抵接的一对支持板；和
从所述一对支持板的下端部相互反向地延长地设置并在与所述磁记录介质的内周部之间形成沿该内周部的间隙的一对断液板。
（3）根据上述（1）或（2）所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，所述断液板在从其中途部到下端部的范围内从所述磁记录介质的内周部向分离的方向折曲。
（4）根据上述（1）~（3）的任一项所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，所述断液板的下端部与积存在与所述磁记录介质的内周部之间的间隙中的积液被断液的位置相比位于下方。
（5）根据上述（1）~（4）的任一项所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，在所述支持板的上端部设有卡合所述磁记录介质的内周部的槽部。
（6）根据上述（5）所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，在所述槽部的底部设有将所述支持板铅直向下地切口的狭缝。
（7）根据上述（1）~（6）的任一项所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，所述吊架机构将所述磁记录介质以排列多个的状态支持。
（8）一种磁记录介质的制造方法，通过一边将吊架机构插入通过具有中心孔的圆盘状的磁记录介质的中心孔并以悬吊状态支持该磁记录介质，一边将磁记录介质浸渍到装有液体润滑剂的浸渍槽中后，从该浸渍槽中提起磁记录介质，从而在磁记录介质的表面形成润滑剂膜，该制造方法的特征在于，将所述吊架机构形成为下述结构，该结构具有：其上端部与所述磁记录介质的内周部抵接的支持板；从所述支持板的下端部延长地设置并在与所述磁记录介质的内周部之间形成沿该内周部的间隙的断液板。
如以上所述，在本发明中，通过设置在其与磁记录介质的内周部之间形成了沿该内周部的间隙的断液板，从而可将在将磁记录介质从装有液体润滑剂的浸渍槽中提起时，液体润滑剂的液面被支持板断开的瞬间产生的液面的摇动抑制为较低。
因此，根据本发明，能够防止形成于磁记录介质表面的润滑剂膜的膜厚分布产生线状的涂布不均，并且，在该磁记录介质的表面以均匀的膜厚形成润滑剂膜，所以能够提供一种适于磁头的低浮起化、耐磨损性和耐环境性优异的磁记录介质。
附图说明
图1是表示应用了本发明的浸渍装置的一例的侧视图。
图2是基于图1所示的线段X-X＇的吊架机构的剖视图。
图3是从上方观察图1所示的吊架机构的主要部分俯视图。
图4是基于图3中所示的线段Y-Y＇的吊架机构的剖视图。
图5表示比较将磁记录介质从浸渍槽中提起时的液体润滑剂的液面的状态的模拟结果，是表示形成积液之前的状态的侧视图。
图6表示比较将磁记录介质从浸渍槽中提起时的液体润滑剂的液面的状态的模拟结果，是表示形成有积液的状态的侧视图。
图7表示比较将磁记录介质从浸渍槽中提起时的液体润滑剂的液面的状态的模拟结果，是表示积液断开了的状态的侧视图。
图8是表示测定将磁记录介质从浸渍槽中提起时的液体润滑剂的液面的高度的模拟的特性图。
图9是放大地表示图7所示的图的断液点附近的特性图。
图10是表示断液板的变形例的侧视图。
图11是表示磁记录介质的一例的剖视图。
图12是表示磁记录再生装置的一例的立体图。
具体实施方式
以下，关于本发明的实施方式，参照附图进行详细说明。
（磁记录介质的制造装置）
应用了本发明的磁记录介质的制造装置，例如，如图1所示，是所谓的浸渍装置，即通过将具有中心孔100a的圆盘状的磁记录介质100浸渍到装有液体润滑剂L的浸渍槽1中后，从该浸渍槽1提起磁记录介质100，从而在磁记录介质100的表面形成润滑剂膜。
具体来说，该浸渍装置，如图1、图2、图3和图4所示，具有：插入通过磁记录介质100的中心孔100a并以悬吊的状态支持该磁记录介质100的吊架机构2、和将该吊架机构2和浸渍槽1的任一方相对于另一方进行升降操作的升降机构3。
吊架机构2具有以相互平行的状态沿水平方向延长地设置的一对支持板4a、4b。另外，在这一对支持板4a、4b的上端部，以一定的间隔排列多个地设置有将磁记录介质100的内周部卡合的V字状的槽部5。由此，将多个磁记录介质100以在纵长方向平行地排列的状态支持。另外，通过磁记录介质100的内周部抵接在这样的槽部5中，能够稳定地保持磁记录介质100。
而且，在槽部5的底部设有将一对支持板4a、4b铅直向下地切口的狭缝6。该狭缝6是用于将积存在槽部5和与该槽部5卡合的磁记录介质100的内周部之间的液体润滑剂L迅速向下方引导的狭缝，以比磁记录介质100的厚度窄的宽度切口形成为直线状（或也可以为V字状。）。
吊架机构2具有从这样的一对支持板4a、4b的下端部相互反向地延长并沿磁记录介质100的内周部折曲的一对断液板7a、7b。这一对断液板7a、7b，与磁记录介质100的内周部之间具有一定的间隙S地弯曲成圆弧状。另外，这一对断液板7a、7b的下端部，与通过磁记录介质100的中心的水平线相比位于上方。另外，优选：断液板7a、7b的下端部，与积存在其与后述的磁记录介质100的内周部之间的间隙S中的积液断液的位置相比位于下方。
升降机构3，只要是能够将磁记录介质100浸渍在装有液体润滑剂L的浸渍槽1中、能够从该浸渍槽1中将磁记录介质100提起的机构，就没有特别限定。例如，升降机构3具有：悬臂支持一对支持板4a、4b的基端侧的支持柱8；安装在该支持柱8上的螺母部9；与该螺母部9啮合的导螺杆10；旋转驱动该导螺杆10的驱动电动机11，驱动电动机11一边旋转驱动导螺杆10，一边使支持柱8与和该导螺杆10啮合的螺母部9一起在上下方向上移动操作，由此能够将一对支持板4a、4b相对于浸渍槽1进行升降操作。
在具有以上这样的结构的浸渍装置中，通过设置在其与磁记录介质100的内周部之间形成沿该内周部的间隙S的断液板7a、7b，能够将在将浸渍在浸渍槽1内的液体润滑剂L中的磁记录介质100从浸渍槽1中提起时因支持板4a、4b而使液体润滑剂L的液面被断液的瞬间产生的液面的摇动抑制为较低。
具体来说，对于设有上述断液板7a、7b的本发明的浸渍装置和没有设置断液板7a、7b的以往的浸渍装置，比较将磁记录介质100从浸渍槽1中提起时的液体润滑剂L的液面的状态的模拟结果表示在图5、图6和图7中。
在图5、图6和图7所示的模拟结果中，各图的（a）表示以往的浸渍装置的情况，各图的（b）为本发明的浸渍装置的情况。另外，各图都是放大地表示磁记录介质100的内周部和支持板4a的抵接位置附近的图。
在以往的浸渍装置中，如图5（a）所示，将浸渍在浸渍槽1内的液体润滑剂L中的磁记录介质100以一定的速度从浸渍槽1中提起，由此，液体润滑剂L的液面t沿磁记录介质100的表面向下方移动。
然后，如图6（a）所示，在支持板4a的上端部和磁记录介质100的内周部的抵接位置在液体润滑剂L的液面t的上方露出时，由支持板4a的上端部隔断的液体润滑剂L的液面t，在磁记录介质100的内周部和支持板4a之间的间隙S＇中形成积液d＇，并向下方移动。该积液d＇是由于液体润滑剂L的表面张力而产生的，被向下方移动的液体润滑剂L的液面t拉拽，其厚度逐渐变薄。
另外，如图7（a）所示，在积液d＇断开的瞬间，形成该积液d＇的残液z＇被液体润滑剂L的液面t拉拽，并沿着磁记录介质100的内周部移动到液体润滑剂L的液面t。此时，和残液z＇的移动相伴的相应于与液面t的落差的波动，向液体润滑剂L的液面t传递，该液体润滑剂L的液面t产生摇动（紊乱）。
与此相对，在本发明的浸渍装置中，如图5（b）所示，通过将浸渍在浸渍槽1内的液体润滑剂L中的磁记录介质100从浸渍槽1中以一定的速度提起，液体润滑剂L的液面t沿磁记录介质100的表面向下方移动。
另外，如图6（b）所示，在支持板4a的上端部和磁记录介质100的内周部的抵接位置在液体润滑剂L的液面t的上方露出时，被支持板4a的上端部隔断的液体润滑剂L的液面t，在磁记录介质100的内周部与支持板4a以及断液板7a之间的间隙S中形成积液d，并向下方移动。该积液d是由于液体润滑剂L的表面张力而产生的，并被向下方移动的液体润滑剂L的液面t拉拽，其厚度逐渐变薄。此外，积液d的大小可由间隙S的宽度控制，虽然也取决于液体润滑剂L的粘度，但一般来说，若间隙S的宽度变小，则积液d也变小。
然后，如图7（b）所示，在积液d断液的瞬间，形成了该积液d的残液z被液体润滑剂L的液面t拉拽，沿磁记录介质100的内周部和断液板7a之间的间隙S移动到液体润滑剂L的液面t。此时，断液板7a抑制与残液z的移动相伴的波动的产生，并能够将液体润滑剂L的液面t切断的瞬间产生的液面t的摇动（紊乱）抑制为较低。
另外，关于本发明的浸渍装置和以往的浸渍装置，测定将磁记录介质100从浸渍槽1中提起时的液体润滑剂L的液面高度的模拟结果示于图8和图9中。
在本模拟中，对于以往的浸渍装置，形成为下述解析模型：将外径65mm、内径20mm、厚度0.8mm的磁记录介质100以6.35mm的间隔排列地配置在厚度0.2mm、高度7mm的支持板4a（4b）上，在该磁记录介质的内周部和支持板4a（4b）的抵接位置设置了宽度0.3mm、深度3mm的狭缝6。另一方面，对于本发明的浸渍装置，形成为下述解析模型：将磁记录介质100的内周部和断液板7a（7b）之间的间隙S设定为0.5mm和1mm，除此以外，与以往的浸渍装置同样。另外，关于液体润滑剂，将表面张力系数设定为水的1/10、接触角设定为60°，解析了液面t以3mm/秒的速度下降的情况。
其结果，如图8和图9所示，本发明的浸渍装置，与以往的浸渍装置相比，能够将在液体润滑剂L的液面t切断的瞬间产生的液面t的摇动（紊乱）抑制为较低。此外，图9所示的图是放大地表示图8所示的图的断液点附近的图。
如以上所述，在本发明的浸渍装置中，能够防止形成于磁记录介质100的表面的润滑剂膜的膜厚分布产生线状的涂布不均，能够以均匀的膜厚在该磁记录介质的表面形成润滑剂膜。另外，通过使用这样的浸渍装置，能够制造适于磁头的低浮起化、耐磨损性和耐环境性优异的磁记录介质。
此外，本发明不限于上述实施方式，在不脱离本发明的主旨的范围内可以追加各种变更。
例如，如图10所示，也可以形成为下述结构：从上述断液板7a、7b的中途部到下端部，向从磁记录介质100的内周部离开的方向折曲。在采用这样的构成的情况下，形成在磁记录介质100的内周部和断液板7a、7b之间的间隙S中的积液d被向下方移动的液体润滑剂L的液面t拉拽，其厚度逐渐变薄时，在横向扩展并且将其与液面t的高低差减小下去，所以，能够将在液体润滑剂L的液面t切断的瞬间产生的液面t的摇动（紊乱）抑制为更低。
（磁记录介质）
接下来，对于使用本发明的浸渍装置制造的磁记录介质的具体构成，以例如图11所示的分离（离散，discrete）型的磁记录介质30为例进行详细说明。
以下的说明中例示的磁记录介质30仅仅是一例，应用本发明制造的磁记录介质并不一定限于这样的构成，在不变更本发明的主旨的范围可以适当变更并实施。
该磁记录介质30，如图11所示，具有在非磁性基板31的两面依次层叠有软磁性层32、中间层33、具有磁记录图案34a的记录磁性层34、和保护层35的结构，而且具有在最表面形成有润滑剂膜36的结构。另外，由软磁性层32、中间层33和记录磁性层34构成磁性层37。此外，在图11中，仅对非磁性基板31的单面进行了图示。
作为非磁性基板31，可以列举例如Al-Mg合金等的以Al为主成分的Al合金基板、钠玻璃（soda glass）、铝硅酸盐系玻璃、结晶化玻璃等的玻璃基板、硅基板、钛基板、陶瓷基板、树脂基板等的各种基板，但其中，优选使用Al合金基板、玻璃基板、硅基板。另外，非磁性基板31的平均表面粗糙度（Ra）优选为1nm以下，更优选为0.5nm以下，进一步优选为0.1nm以下。
软磁性层32是为了增大从磁头产生的磁通的相对于基板面的垂直方向分量，另外，是为了所记录信息的记录磁性层34的磁化方向更牢固地固定为与非磁性基板31垂直的方向而设置的。其作用，尤其是作为记录再生用的磁头使用垂直记录用的单磁极磁头的情况下，变得更加显著。
作为软磁性层32，可以使用包含例如Fe、Ni、Co等的软磁性材料。作为具体的软磁性材料，可以列举例如CoFe系合金（CoFeTaZr、CoFeZrNb等）、FeCo系合金（FeCo、FeCoV等）、FeNi系合金（FeNi、FeNiMo、FeNiCr、FeNiSi等）、FeAl系合金（FeAl、FeAlSi、FeAlSiCr、FeAlSiTiRu、FeAlO等）、FeCr系合金（FeCr、FeCrTi、FeCrCu等）、FeTa系合金（FeTa、FeTaC、FeTaN等）、FeMg系合金（FeMgO等）、FeZr系合金（FeZrN等）、FeC系合金、FeN系合金、FeSi系合金、FeP系合金、FeNb系合金、FeHf系合金、FeB系合金等。
中间层33能够对磁性层的晶粒进行微细化，改善记录再生特性。作为这样的材料，并没有特别限定，但优选具有hcp结构、fcc结构、非晶结构的材料。尤其是优选Ru系合金、Ni系合金、Co系合金、Pt系合金、Cu系合金，另外，也可以将这些合金多层化。例如，优选采用从基板侧起的Ni系合金与Ru系合金的多层结构、Co系合金与Ru系合金的多层结构、Pt系合金与Ru系合金的多层结构。
例如，若为Ni系合金，则优选由从包含33～96原子%Ni的、NiW合金、NiTa合金、NiNb合金、NiTi合金、NiZr合金、NiMn合金、NiFe合金中选择的至少一种材料构成。另外，也可以为包含33～96原子%Ni、且包含Sc、Y、Ti、Zr、Hf、Nb、Ta、C中的至少一种或两种以上的非磁性材料。该情况下，为了维持作为中间层33的效果，且成为不具有磁性的范围，优选Ni的含有量为33原子%～96原子%的范围。
中间层33的厚度，在为多层的情况下，合计的厚度优选为5～40nm，更优选为8～30nm。中间层33的厚度在上述范围内时，垂直磁性层的垂直取向性变得特别高，且能够减小记录时磁头和软磁性层的距离，所以不使再生信号的分辨率降低而能够提高记录再生特性。
磁性层37可以为面内磁记录介质用的水平磁性层，也可以为垂直磁记录介质用的垂直磁性层，但为了实现更高的记录密度，优选为垂直磁性层。另外，磁性层37，优选由主要以Co为主成分的合金形成，例如，可以使用CoCrPt系、CoCrPtB系、CoCrPtTa系的磁性层、在它们中添加了SiO2、Cr2O3等氧化物的粒状结构的磁性层。
在垂直磁记录介质的情况下，可以利用例如将由软磁性的FeCo合金（FeCoB、FeCoSiB、FeCoZr、FeCoZrB、FeCoZrBCu等）、FeTa合金（FeTaN、FeTaC等）、Co合金（CoTaZr、CoZrNB、CoB等）等构成的软磁性层32、由Ru等构成的中间层33、由60Co-15Cr-15Pt合金、70Co-5Cr-15Pt-10SiO2合金构成的记录磁性层34层叠而成的结构。另外，也可以在软磁性层32和中间层33之间层叠由Pt、Pd、NiCr、NiFeCr等构成的取向控制膜。
另一方面，在面内磁记录介质的情况下，作为磁性层37，可以利用将非磁性的CrMo基底层和铁磁性的CoCrPtTa磁性层层叠而成的结构。
记录磁性层34的厚度为3nm以上20nm以下，优选为5nm以上15nm以下，只要配合使用的磁性合金的种类和层叠结构来形成以使得可得到充分的头输入输出即可。另外，磁性层37，为了在再生时得到一定以上的输出而需要某种程度以上的膜厚，另一方面，通常表示记录再生特性的各参数随着输出的上升而劣化，所以需要设定为最合适的膜厚。磁性层37通常采用溅射法以薄膜的形式形成。
作为粒状结构的记录磁性层34，优选是：至少作为磁性粒子含有Co和Cr，在磁性粒子的晶界部至少含有从Si氧化物、Cr氧化物、Ti氧化物、W氧化物、Co氧化物、Ta氧化物、Ru氧化物中选出的至少一种或两种以上的磁性层。具体来说，可以列举例如CoCrPt-Si氧化物、CoCrPt-Cr氧化物、CoCrPt-W氧化物、CoCrPt-Co氧化物、CoCrPt-Cr氧化物-W氧化物、CoCrPt-Cr氧化物-Ru氧化物、CoRuPt-Cr氧化物-Si氧化物、CoCrPtRu-Cr氧化物-Si氧化物等。
具有粒状结构的磁性结晶粒子的平均粒径，优选为1nm以上、12nm以下。另外，在磁性层中存在的氧化物的总量优选为3～15摩尔%。另外，作为不为粒状结构的磁性层，可以例示使用了含有Co和Cr、优选含有Pt的磁性合金的层。
另外，该磁记录介质30，是形成于记录磁性层34的磁记录图案34a被磁特性已改性了的区域（例如，非磁性区域、或者相对于记录磁性层34矫顽力降低了80%左右的区域）38磁分离而成的所谓的分离型的磁记录介质。
分离型的磁记录介质30，为了提高其记录密度，优选在记录磁性层34中，磁记录图案34a的宽度L1为200nm以下，改性区域38的宽度L2为100nm以下。另外，该磁记录介质30的磁道间距P（＝L1＋L2）优选为300nm以下，为了提高记录密度而优选尽量窄。
在保护层35中，使用在磁记录介质中通常所使用的材料即可，作为这样的材料，可以列举例如碳（C）、碳氢化合物（HXC）、氮化碳（CN）、无定形碳、碳化硅（SiC）等的碳材料、SiO2、Zr2O3、TiN等。另外，保护层35可以为层叠了2层以上的结构。保护层35的厚度若超过10nm，则磁头和磁性层37的距离增大，不能够得到充分的输入输出特性，所以优选为低于10nm。
润滑剂膜36，可通过将润滑剂涂布在保护层35上而形成，所述润滑剂为例如全氟聚醚、氟醇、氟代羧酸等的氟系润滑剂、烃系润滑剂、由这些混合物等构成的润滑剂。另外，润滑剂膜36的膜厚通常为1～4nm左右。
作为生成润滑剂的未精制润滑剂，可以优选使用化学稳定、低摩擦且具有低吸附性的润滑剂。具体来说，优选使用包含具有全氟聚醚结构的化合物的全氟聚醚系润滑剂等的氟树脂系润滑剂。
作为全氟聚醚系润滑剂，可以使用一种全氟聚醚系润滑剂，也可以使用组合了环状三膦腈系润滑剂和全氟聚醚系润滑剂的润滑剂、组合了在末端基具有磷腈环的全氟聚醚化合物和在末端基具有羟基的全氟聚醚化合物的润滑剂。
作为包含具有全氟聚醚结构的化合物的润滑剂，可以列举例如SolvaySolexis公司制造的Fomblin Z-DOL（商品名）、Fomblin Z-TETRAOL（商品名）等。另外，作为环状三膦腈系润滑剂，可例举DowChemical公司制造的X-1p（商品名）等。作为在末端基具有磷腈环的全氟聚醚化合物，可以列举松村石油研究所（MORESCO）公司制造的MORESCOPHOSPHAROLA20H-2000（商品名）等。
接下来，将这样得到的润滑剂溶解在溶剂中，形成为具有适合于涂布方法的浓度的涂布溶液（液体润滑剂）。作为这里使用的溶剂，与稀释上述的润滑剂的溶剂相同，可以使用氟系溶剂等。
然后，将这样得到的涂布溶液涂布在保护层上。在涂布工序中使用浸渍法（浸涂法）。浸涂法是将涂布溶液装入浸涂装置的浸渍槽中，将形成有直到保护层的各层的非磁性基板浸渍在该浸渍槽中后，从浸渍槽中将非磁性基板以规定的速度提起，在非磁性基板的保护层上的表面形成均匀的膜厚的润滑剂膜的方法。
（磁记录再生装置）
接着，说明应用了本发明的磁记录再生装置（HDD）。
应用了本发明的磁记录再生装置，如例如图12所示，具有：上述磁记录介质30；旋转驱动上述磁记录介质30的旋转驱动部51；进行相对于上述磁记录介质30的记录动作和再生动作的磁头52；使磁头52沿上述磁记录介质30的径向移动的磁头驱动部53；和用于进行向磁头52的信号输入和从磁头52输出的信号的再生的记录再生信号处理系统54。
在该磁记录再生装置中，通过使用上述分离磁道型的磁记录介质30，不会出现对该磁记录介质30进行磁记录时的洇写，能够得到高的面记录密度。即，通过使用上述磁记录介质30，能够构成记录密度高的磁记录再生装置。另外，通过磁性不连续地加工上述磁记录介质30的记录磁道，对于以往为了排除磁道边缘部的磁化迁移区域的影响而使再生磁头宽度比记录磁头宽度窄地对应的情况，可以使两者形成为大致相同的宽度来进行动作。由此，能够得到充分的再生输出和高的SNR。
而且，通过由GMR磁头或TMR磁头构成磁头52的再生部，即使在高记录密度下也能够得到充分的信号强度，能够实现具有高记录密度的磁记录再生装置。另外，当将该磁头52的浮起量设为0.005μm～0.020μm的范围内，以比以往低的高度浮起时，输出提高且能够得到高的装置SNR，能够提供大容量且高可靠性的磁记录再生装置。
而且，若组合基于最大似然译码法的信号处理电路，则可进一步提高记录密度，例如，在以磁道密度100k道/英寸以上、线记录密度1000k比特/英寸以上、每平方英寸100G比特以上的记录密度进行记录-再生的情况下也能够得到充分的SNR。
再者，本发明能够广泛地适用于具有磁分离了的磁记录图案MP的磁记录介质，作为具有磁记录图案的磁记录介质，可以列举磁记录图案按每1比特以一定的规则性配置的所谓的图案介质、磁记录图案配置成磁道状的介质、其他的包含伺服信号图案等的磁记录介质。本发明从其制造的简便性考虑，在其中优选适用于磁分离了的磁记录图案为磁记录磁道以及伺服信号图案的所谓的分离型的磁记录介质。
实施例
以下，通过实施例进一步明确本发明的效果。此外，本发明不限于以下的实施例，可以在不变更其主旨的范围内适当变更来实施。
（磁记录介质的制造）
本实施例中，首先，将安置了HD用玻璃基板的真空室预先真空排气到1.0×10-5Pa以下。这里使用的玻璃基板，将以Li2Si2O5、Al2O3-K2O、Al2O3-K2O、MgO-P2O5、Sb2O3-ZnO为构成成分的结晶化玻璃作为材质，外径为65mm，内径为20mm，厚度0.8mm，平均表面粗糙度（Ra）为2埃。
然后，在该玻璃基板上利用DC溅射法依次层叠作为软磁性层的层厚60nm的FeCoB膜、作为中间层的层厚10nm的Ru膜、作为记录磁性层的层厚15nm的70Co-5Cr-15Pt-10SiO2合金膜、层厚14nm的70Co-5Cr-15Pt合金膜、和作为保护膜的5nm的CVD碳膜。
（实施例1）
在实施例1中，对如以上那样制作的磁记录介质涂布润滑剂。具体来说，利用浸渍装置采用浸渍法涂布将润滑剂溶解在溶剂中而成的涂布溶液，在磁记录介质的保护层的表面形成了1.5nm的润滑剂膜。
作为浸渍装置，使用了与上述图1～图4所示的浸渍装置同样的装置。具体来说，以5mm间隔平行地设置厚度0.2mm的一对支持板，在这一对支持板的V字状的槽部中将磁记录介质以6.35mm间隔排列地配置，在该磁记录介质的内周部和支持板的抵接位置设置了宽度0.3mm、深度0.5mm的狭缝。并且，将从支持板的下端部沿磁记录介质的内周部折曲的断液板，以磁记录介质的内周部与断液板之间的间隙为0.5mm等间隔设置，该断液板的长度设为10mm。
作为润滑剂，使用具有全氟聚醚结构的化合物即Solvay Solexis公司制的FomblinZ-TETRAOL（商品名）。另外，作为用于溶解润滑剂的溶剂，使用三井デユポンフロロケミカル公司制的バ一トレルXF（商品名）。涂布溶液中的润滑剂的浓度都为0.3质量%，磁记录介质的提起速度为3mm/秒，涂布膜厚为15埃。
（比较例1）
在比较例1中，除了在上述浸渍装置中不设置断液板以外，与实施例1同样地在磁记录介质上涂布了润滑剂。
（磁记录介质的评价）
对如以上那样制作的实施例1和比较例1的磁记录介质的润滑剂膜的膜厚分布进行测定。在进行膜厚分布的测定时，使用了光学式表面检查装置即KLA-Tencor公司（美国）制的Candela6100（商品名）。
其结果，比较例1的磁记录介质，观察到因润滑剂膜的涂布不均而产生的从支持板的抵接位置呈直线状的纹路。与此相对，实施例1的磁记录介质，完全没有观察到因润滑剂膜的涂布不均而产生的纹路。再者，在比较例1中观察到的纹路所导致的润滑剂膜的膜厚变动为±2埃。
附图标记说明
1…浸渍槽  2…吊架机构  3…升降机构  4a、4b…支持板  5…槽部6…狭缝  7a、7b…断液板  8…支持柱  9…螺母部  10…导螺杆  11…驱动电动机  30…磁记录介质  31…非磁性基板  32…软磁性层  33…中间层  34…记录磁性层  34a…磁记录图案  35…保护层  36…润滑膜  37…磁性层  38…改性区域  51…旋转驱动部  52…磁头  53…磁头驱动部54…记录再生信号处理系统

Claims (6)

1.一种磁记录介质的制造装置，通过将具有中心孔的圆盘状的磁记录介质浸渍到装有液体润滑剂的浸渍槽中后，从该浸渍槽中提起磁记录介质，从而在磁记录介质的表面形成润滑剂膜，该制造装置的特征在于，具备：
插入通过所述磁记录介质的中心孔并以悬吊状态支持该磁记录介质的吊架机构；和
将所述吊架机构和所述浸渍槽的任一方相对于另一方进行升降操作的升降机构，
所述吊架机构具有：
上端部与所述磁记录介质的内周部抵接的支持板；和
从所述支持板的下端部延长地设置且与所述磁记录介质的内周部之间形成沿该内周部的间隙的断液板，
所述吊架机构具有：
上端部与所述磁记录介质的内周部抵接的一对支持板；和
从所述一对支持板的下端部相互反向地延长地设置且与所述磁记录介质的内周部之间形成沿该内周部的间隙的一对断液板，
所述断液板从其中途部到下端部折曲，并且所述断液板的折曲方向，是相对于所述磁记录介质的内周部，从该内周部离开，向其圆心部接近的方向。
2.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，所述断液板的下端部，与积存在与所述磁记录介质的内周部之间的间隙中的积液被断液的位置相比位于下方。
3.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，在所述支持板的上端部设有卡合所述磁记录介质的内周部的槽部。
4.根据权利要求3所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，在所述槽部的底部设有将所述支持板铅直向下地切口的狭缝。
5.根据权利要求1所述的磁记录介质的制造装置，其特征在于，所述吊架机构将所述磁记录介质以排列多个的状态支持。
6.一种磁记录介质的制造方法，通过一边将吊架机构插入通过具有中心孔的圆盘状的磁记录介质的中心孔并以悬吊状态支持该磁记录介质，一边将磁记录介质浸渍到装有液体润滑剂的浸渍槽中后，从该浸渍槽中提起磁记录介质，从而在磁记录介质的表面形成润滑剂膜，该制造方法的特征在于，将所述吊架机构形成为下述结构，该结构具有：其上端部与所述磁记录介质的内周部抵接的支持板；从所述支持板的下端部延长地设置且与所述磁记录介质的内周部之间形成沿该内周部的间隙的断液板。
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