CN102645692B - 遮光膜及其制造方法、以及固体摄像元件 - Google Patents

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Abstract

本发明提供一种遮光膜及其制造方法、固体摄像元件以及相机模块。该遮光膜是固体摄像元件用遮光膜，所述固体摄像元件具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部，且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁，所述固体摄像元件用遮光膜是将感放射线性组成物喷雾涂布于该硅基板的具备受光元件的面、及形成于该具备受光元件的面上的壁上而形成，所述感放射线性组成物含有：(A)颜料分散物，含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径；(B)聚合性化合物；以及(C)聚合引发剂。

Description

遮光膜及其制造方法、以及固体摄像元件
技术领域
本发明涉及一种包含钛黑等黑色颜料的遮光膜及其制造方法、以及固体摄像元件。 
背景技术
在电荷耦合（Charge Coupled Device，CCD）图像传感器或互补金属氧化物半导体（Complementary Metal-Oxide Semiconductor，CMOS）图像传感器等的固体摄像元件上，为了防止噪声产生、提高画质等目的而设置遮光膜。 
用来形成固体摄像元件用遮光膜的组成物已知有含有碳黑或钛黑等黑色色材的感放射线性组成物。 
具体而言，为了提高光学浓度等目的，正对包含具有特定X射线绕射峰值强度比的钛黑的感放射线性组成物（例如，参照专利文献1～专利文献2）、或包含具有特定氮浓度或特定微晶直径的钛黑的感放射线性组成物（例如，参照专利文献3～专利文献5）进行研究。 
另外，为了以薄膜来获得高遮光性的目的，公开了一种含有钛黑及树脂成分的遮光膜形成用组成物（例如，参照专利文献6）。 
近年来，随着固体摄像元件的小型化或薄型化、高感度化，对于在一面上具有摄像元件部的硅基板，防止可见光透射至摄像元件部形成区域以外的区域、或由反射引起的光的噪声的要求增强。 
其原因在于，作为固体摄像元件的基体的硅基板对可见光表现出高透射率，并且为了使固体摄像元件所具备的摄像元件对可见光表现出高感度，对达成高解析度而言重要的是抑制不仅来自入射面而且来自侧面的反射光。 
另外要求：固体摄像元件的形状复杂化，不仅在先前的平面即相对于重力方向而水平的面上，而且在基板的侧面等对水平面具有角度的面上也形成遮光膜，不仅遮蔽可见光，而且也抑制反射，从而进一步减少噪声。 
先前，为了在形成有晶圆级透镜或摄像元件部的平面或其背面形成遮光膜而应用旋转涂布法等，但例如在单元中形成有摄像元件部的结构的情况下，为了不仅在平面，而且在侧面也效率良好地形成遮光膜，而谋求应用新的涂布法。 
[现有技术文献] 
[专利文献] 
[专利文献1]日本专利第3724269号公报 
[专利文献2]国际公开第2005/037926号小册子 
[专利文献3]日本专利特开2006-182627号公报 
[专利文献4]日本专利特开2006-206891号公报 
[专利文献5]日本专利特开2006-209102号公报 
[专利文献6]日本专利特开2007-115921号公报 
然而，先前的遮光膜形成用感放射线组成物由于设定旋转涂布法，且对于表面的凹凸也设定小的组成物，因此期望不仅在平面，而且可在单元的侧面等对水平面具有角度的面上也能够效率良好地涂布的遮光膜。 
发明内容
本发明是鉴于所述情况，课题为达成以下目的。 
即，本发明的目的在于提供一种不仅在平面上，而且在具有角度的侧壁面等上也容易形成，且能够遮蔽可见光以及抑制可见光的反射的遮光膜。 
另外，本发明的目的在于提供一种遮蔽可见光以及防止可见光反射的能力优异的遮光膜的制造方法、以及具备所得遮光膜的减少由可见光的透射或反射引起的噪声的固体摄像元件。 
用来解决所述课题的手段如下所述。 
<1>一种固体摄像元件用遮光膜，所述固体摄像元件具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部，且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁，并且 
所述固体摄像元件用遮光膜是将感放射线性组成物喷雾涂布于该硅基板的具备受光元件的面、及形成于该具备受光元件的面上的壁上而形成，所述感放射线性组成物含有：(A)颜料分散物，含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的 粒径；(B)聚合性化合物；以及(C)聚合引发剂。 
<2>根据<1>所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述感放射线性组成物是相对于所述硅基板的所述至少一面的法线而以20°以上160°以下的角度从喷出口中喷洒。 
<3>根据<1>所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述感放射线性组成物的25℃下的粘度为2mPa··s以上50mPa··s以下。 
<4>根据<1>所述的固体摄像元件用遮光膜，其中表面粗糙度(Ra)为 以上 以下。 
<5>根据<1>所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述被分散体含有钛黑。 
<6>根据<1>所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述被分散体包含钛黑及Si原子，且该被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)为0.20以上0.50以下。 
<7>一种固体摄像元件用遮光膜的制造方法，包括：将感放射线性组成物喷雾涂布在固体摄像元件的硅基板的具备受光元件的面与形成于该具备受光元件的面上的壁，而形成感放射线性层的步骤，所述感放射线性组成物含有：(A)颜料分散物，含有包含黑色颜料的被分散体，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径；(B)聚合性化合物；以及(C)聚合引发剂，所述固体摄像元件具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部，且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁；以及 
将所述感放射线性层进行曝光。 
<8>根据<7>所述的固体摄像元件用遮光膜的制造方法，其中所述将感放射线性层进行曝光的步骤是将所述感放射线性层曝光成图案状的步骤。 
<9>根据<7>所述的固体摄像元件用遮光膜的制造方法，其中更包括在曝光后将所述感放射线性层进行显影的步骤。 
<10>一种固体摄像元件，具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁，并且在该硅基板的具备摄像元件部的面、及形成于具备该摄像元件部的面上的壁上具有根据<1>至<6>中任一项所述的固体摄像元件用遮光膜。 
<11>根据<10>所述的固体摄像元件，其中设置于所述固体摄像元件的 硅基板的设置有所述摄像元件部的至少一面上的遮光膜是以所述摄像元件部的至少一部分露出的方式被图案化。 
<12>一种相机模块，包括：固体摄像元件；透镜；透镜支架；以及在该透镜支架上由感放射线性组成物所形成的遮光膜，所述感放射线性组成物含有：(A)颜料分散物，含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径，(B)聚合性化合物，以及(C)聚合引发剂。 
[发明的效果] 
依据本发明，可提供一种不仅在平面，而且具有角度的面上也容易形成，且能够遮蔽可见光以及抑制可见光的反射的遮光膜。 
另外，依据本发明，可提供一种可见光遮光能力及抗可见光反射能力优异的遮光膜的制造方法、以及具备所得遮光膜的减少由可见光引起的噪声的固体摄像元件。 
附图说明
图1是表示形成有本发明遮光膜的基板的一态样的概略截面图。 
图2是表示具备本发明的一例即固体摄像元件的相机模块的构成的概略截面图。 
图3是本发明的一例即固体摄像元件的概略截面图。 
[符号的说明] 
10：硅基板 
12：摄像元件 
13：层间绝缘膜 
14：基础层 
15B：蓝色的滤光片 
15G：绿色的滤光片 
15R：红色的滤光片 
16：覆盖涂层 
17：微透镜 
18：遮光膜 
20、41、45：粘着剂 
22：绝缘膜 
23：金属电极 
24：阻焊层 
26：内部电极 
27：元件面电极 
30：玻璃基板 
40：摄像透镜 
42：红外线截止滤光片 
44：遮光兼电磁屏蔽 
50：透镜支架 
60：焊球 
70：电路基板 
100：固体摄像元件基板 
110：基板 
112：底部 
114：立起壁 
200：相机模块 
hv：入射光 
S：间隙 
具体实施方式
《固体摄像元件用遮光膜》 
本发明的固体摄像元件用遮光膜是具有在至少一面具备受光元件的摄像元件部，且具有在具备该摄像元件部的面上立起的立起壁的固体摄像元件用的遮光膜，并且该遮光膜的特征在于：将感放射线性组成物喷雾涂布于该基板的具备受光元件的面、及在该具备受光元件的面上立起的立起壁的表面而形成，所述感放射线性组成物含有：(A)颜料分散物，含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径；(B)聚合性化合物；以及(C)聚合引发剂。 
形成有本发明遮光膜的基板是具有在设置有未图示的摄像元件部的平面状底部112上立起的立起壁14的基板。图1是表示本发明的基板110的一态样的概略截面图。本实施形态中，立起壁114表示设置于平面状底部112的端部且与平面状底部112的角度(图1中以α表示的角度)为90°的壁。立起壁114的角度并不限定于此，角度α可以是相对于平面状的底部而超过0°且小于180°的任一角度，尤其当用于以接近于垂直的角度立起的立起壁，以角度α为45°以上135°以下、特别是90°附近的角度立起的立起壁时，可以说可利用一个步骤来形成均匀的涂布、遮光膜的本发明效果显著。设置于平面状基板的底部112上的立起壁114例如构成具有摄像透镜的透镜支架侧面，或设置有多个的受光元件部的隔离壁、与受光元件面相对的上部壁等。 
用于形成本发明遮光膜的感放射线性组成物由于包含黑色颜料的被分散体的粒径微细且分散性优异，因此适合用于喷雾涂布。就喷雾涂布适应性提高的观点而言，感放射线性组成物的25℃下的粘度优选为2mPa··s以上50mPa··s以下的范围。此处，25℃的粘度是采用使用E型粘度计来测定的值。25℃下的粘度更优选为5mPa··s以上40mPa··s以下的范围。 
此外，喷雾涂布中，就喷雾涂布时不会产生喷嘴堵塞的观点而言，喷雾涂布时的粘度优选为15mPa··s以下，另外，在通过喷雾而应用于水平面以外的面、例如垂直面等的情况下，就可形成无滴液且均匀的涂膜的观点而言，粘度优选为4mPa··s以上。 
粘度是通过例如调整感放射线性组成物中所含的粘合剂聚合物的种类或量、有机溶剂的种类或量、固体成分的比例等，或者添加增粘剂来控制。 
喷雾涂布适应性优异的感放射线性组成物的条件可列举：作为包含黑色颜料的被分散体的粒径，被分散体的90％以上的粒径为15nm～30nm；这些被分散物的分散性良好等。 
本发明的喷雾涂布只要应用公知的喷雾涂布方法以及喷射装置即可。 
本发明中，所谓“红外”，是指700nm～1200nm的波长区域，所谓“可见光”，是指400nm～800nm的波长区域。 
另外，所谓“遮蔽红外光或可见光”，是指遍及所述波长区域全域，透射率为10％以下的状态。另外，所谓“防止可见区域的反射”，是指在450nm附近的波长区域，表面的反射率为1％以下的状态。反射率是利用以下所示的方 法来测定。 
另外，本说明书中所谓摄像元件部，是指(例如矩阵状地)排列有多个摄像元件(CCD、CMOS等)的区域。 
本说明书中，有时将设置有摄像元件部的硅基板称为“固体摄像元件”或“固体摄像元件基板”。所述固体摄像元件上也可以进一步形成其他要素(滤光片、微透镜等)。 
以下，对用于形成本发明遮光膜的感放射线性组成物中所含有的各成分依次进行说明。 
<(A)含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径的颜料分散物> 
本发明的颜料分散物含有包含钛黑粒子等黑色颜料的被分散体。 
(a-1)黑色颜料 
黑色颜料只要是在广泛的波长区域具有吸收，对遮光膜的形成有用的公知黑色颜料，则可无特别限制地使用。本发明中适合使用的黑色颜料优选为列举表现出以下吸光度的颜料。 
即，将使评价对象颜料分散于有机溶剂中来制备的颜料分散物，以成为2.5μm的膜厚的方式涂布于玻璃基板上而形成涂膜，然后，以90℃、120秒进行预烘烤，使有机溶剂挥发，来形成含颜料的涂膜(干燥膜)。测定所形成的膜在波长740nm下的吸收，获得吸光度ABS。 
根据所得膜的ABS的值，且根据颜料与分散剂的重量比率以及各自的比重来计算颜料与分散剂的体积比率，由此算出仅涂布2.5μm颜料时的计算上的吸光度ABS(r)，将颜料的吸光度ABS(r)的值达到1.0以上的认为是可见区域的遮光性达到对形成本发明的遮光膜而言有用的水平的颜料，作为本发明的优选黑色颜料。 
这种黑色颜料例如可列举：钛黑(ABS(r)＝11.0)、碳黑(ABS(r)＝10.4)、氧化钨铯(ABS(r)＝1.1)等，优选为包含钛黑粒子。 
本发明的颜料分散物含有黑色颜料。该黑色颜料在分散组成物中作为被分散体而含有，要求被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径。 
本发明的黑色颜料的优选态样可列举钛黑粒子，特别优选为被分散体包含钛黑粒子及Si原子，且该被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比为0.20 以上0.5以下的范围。 
此处，本发明的“包含黑色颜料的被分散体”包括黑色颜料为一次粒子的状态的被分散体、黑色颜料为凝集体(二次粒子)的状态的被分散体两种。 
本发明的所谓被分散体的粒径，是指被分散体的粒子直径，所谓粒子直径，是指具有与粒子的外表面的投影面积相等面积的圆的直径。粒子的投影面积是通过测定电子显微镜照片中的拍摄所得的面积，修正拍摄倍率而获得。 
本发明的遮光膜是指关于将感放射线性组成物硬化而得的硬化膜(遮光膜)中所含有的包含黑色颜料的被分散体，该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径的膜。 
本发明中，通过包含黑色颜料的被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径，喷雾涂布感放射线性组成物时喷嘴堵塞得到抑制，所形成的遮光膜具有均匀的膜厚。另外，通过设为该粒径，图案形成时的未曝光部的残渣物减少。认为其原因在于，通过设为特定粒径，用于使遮光膜硬化的放射线的吸收或散射减少，且粒径小的被分散体有助于使形成遮光膜时未硬化的感放射线性组成物(特别是钛黑粒子)的去除性提高。此外，残渣物包含来自钛黑等黑色颜料、树脂成分等感放射线性组成物的成分。 
本发明的黑色颜料优选为钛黑粒子。其原因在于，钛黑粒子对于遍及从紫外到红外的宽广范围的波长区域的光的遮光性优异，特别是不仅对可见光，而且对红外光的遮光性(红外遮光性)优异。 
关于(A)颜料分散物或者感放射线性组成物中所含有的被分散体，为了判断其90％是否具有15nm以上30nm以下的粒径，使用下述所示的方法(1)。 
另外，关于本发明的将感放射线性组成物硬化而得的硬化膜(遮光膜)中所含有的被分散体，为了判断其90％是否具有15nm以上30nm以下的粒径，使用下述所示的方法(2)。 
<方法(1)> 
将钛黑分散物或者感放射线性组成物利用丙二醇单甲醚乙酸酯(以下，也简称为PGMEA)稀释至500倍，滴下至碳薄膜上，使其干燥，然后使用穿透型电子显微镜来拍摄形态观察照片。根据所得的照片，对400个粒子求出外表面的投影面积，算出相当于该面积的圆的直径，来评价度数分布。 
<方法(2)> 
对所制膜的基板的截面，利用扫描型电子显微镜((股)日立高新技术公司(Hitachi High-Technologies)制造，S-3400N(商品名))以及能量分散型X射线分析装置(阿美特克(AMETEK)公司制造的Genesis(商品名))来拍摄形态观察照片以及Ti与Si的元素图谱。根据所得的照片，对400个检测出Ti元素的粒子求出外表面的投影面积，算出相当于该面积的圆的直径，来评价度数分布。 
以下，对钛黑粒子进行更详细的说明。 
本发明中所谓钛黑粒子，是指具有钛原子的黑色粒子，优选为低价氧化钛或氮氧化钛等黑色粒子。 
钛黑粒子可以为了提高分散性、抑制凝集性等目的，而视需要对粒子表面进行修饰。作为粒子表面的修饰，例如可利用氧化硅、氧化钛、氧化锗、氧化铝、氧化镁、氧化锆等进行包覆处理，另外，也可以利用如日本专利特开2007-302836号公报中所公开的拨水性物质进行处理。 
钛黑粒子的市售品的例子可列举：钛黑10S、钛黑12S、钛黑13R、钛黑13M、钛黑13M-C、钛黑13R、钛黑13R-N、钛黑13M-T(商品名：以上由三菱材料电子化成(三菱材料电子化学(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals))(股)制造)、Tilack D(商品名：赤穗化成(股)制造)等。 
钛黑粒子的制造方法有以下方法：将二氧化钛与金属钛的混合体在还原气体环境中进行加热还原的方法(日本专利特开昭49-5432号公报中记载的方法)；将通过四氯化钛的高温水解而获得的超微细二氧化钛在包含氢气的还原气体环境中进行还原的方法(日本专利特开昭57-205322号公报中记载的方法)；将二氧化钛或者氢氧化钛在氨气存在下进行高温还原的方法(日本专利特开昭60-65069号公报、日本专利特开昭61-201610号公报中记载的方法)；使二氧化钛或者氢氧化钛上附着钒化合物，在氨气存在下进行高温还原的方法(日本专利特开昭61-201610号公报中记载的方法)等；但并不限定于这些方法。 
本发明中应用的钛黑粒子优选为一次粒径小的粒子。 
本发明中使用的颜料分散物可以仅含有钛黑粒子作为被分散体，也可以含有其他黑色颜料或用于调整吸收的其他色调的颜料而含有2种以上的颜 料。 
另外，只要不损及本发明的效果，则为了调整分散性、着色性等的目的，可以将包含Cu、Fe、Mn、V、Ni等的复合氧化物，氧化钴、氧化铁、碳黑、苯胺黑等的黑色颜料1种或者组合2种以上，而与钛黑粒子一起并用作为被分散体。此时，包含钛黑粒子的被分散体占被分散体的50质量％以上。 
另外优选为，被分散体包含钛黑粒子及Si原子，且该被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比为0.20以上0.50以下的范围。 
为了将被分散体的Si/Ti设为0.20以上0.50以下的范围，可使用如下所述的方法。 
例如，可通过将氧化钛与二氧化硅粒子，例如以相对于氧化钛100g，二氧化硅粒子为12.5g的比进行混合，然后使用分散机进行分散而获得分散组成物，将该分散组成物在高温(例如850℃～1000℃)下进行还原处理，由此获得以钛黑粒子为主成分且含有Si及Ti的被分散体。此时若仅在还原处理完毕的钛黑中混合二氧化硅粒子，则无法获得发挥本发明效果的含有Si及Ti的被分散体。 
另外，例如，可以利用与日本专利特开2008-266045公报的段落编号[0005](6)以及日本专利特开2008-266045公报的段落编号[0016]～[0021]中记载的方法类似的方法来制作。 
本发明的感放射线性组成物含有来自颜料分散物的包含黑色颜料的被分散体。关于该感放射线性组成物以及将其硬化而得的硬化膜(遮光膜)中所含有的包含钛黑粒子的被分散体，也是被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)为0.20以上0.50以下的范围，其优选范围也与所述相同。 
本发明中，被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)如上所述优选为0.20以上0.50以下，更优选为0.35以上0.45以下的范围。若为该范围，则容易制造颜料分散物，分散稳定性提高，例如喷雾涂布适应性优异，由粒子的沉降或凝集引起的喷雾涂布时的喷雾性下降得到抑制，因此随时间经过后也能够利用喷雾涂布法来形成均匀的涂膜，而且具有高遮光能力的均匀遮光膜不仅在水平面、在垂直面或局部面、或者即便在被涂布面上存在凹凸的情况下，也容易被形成均匀的遮光膜。 
另外，由于如上所述的被分散体的粒径为30nm以下，因此喷雾涂布适 应性进一步提高。另外推测，通过该被分散体的含有Si原子的成分增加，也具有以下优点：被分散体与分散剂的相互作用变大，经图案成形的上表面的耐显影液性提高，由此图案上表面的表面粗糙减少。 
另外，如后所述，为了调整遮光性等的目的，只要不损及本发明的效果，则可视需要将其他着色剂(有机颜料或染料等)与钛黑粒子等黑色颜料并用。 
(A)颜料分散物中的(a-1)钛黑粒子所代表的黑色颜料的含量相对于分散物的总质量，优选为5质量％～60质量％，尤其优选为10质量％～50质量％。 
另外，感放射线性组成物中的(a-1)黑色颜料的含量相对于分散物的总质量，优选为2.5质量％～30质量％，尤其优选为5质量％～20质量％。 
(a-2)分散剂 
(A)颜料分散物以及感放射线性组成物含有(a-2)分散剂。 
本发明的分散剂可列举：高分子分散剂[例如，聚酰胺胺及其盐、聚羧酸及其盐、高分子量不饱和酸酯、改性聚氨基甲酸酯、改性聚酯、改性聚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸类共聚物、萘磺酸福尔马林缩合物]、以及聚氧亚乙基烷基磷酸酯、聚氧亚乙基烷基胺、烷醇胺、颜料衍生物等。 
本发明的分散剂可以根据其结构而进一步分类为直链状高分子、末端改性型高分子、接枝型高分子、以及嵌段型高分子。 
本发明的分散剂是以吸附于钛黑粒子以及视需要并用的颜料等被分散体的表面来防止再凝集的方式发挥作用。因此，可列举具有对颜料表面的固着部位的末端改性型高分子、接枝型高分子、嵌段型高分子作为优选的结构。 
另一方面，本发明的分散剂通过对被分散体的表面进行改质而具有促进分散树脂的吸附的效果。 
本发明中可使用的分散剂的具体例可列举：毕克化学(BYK Chemie)公司制造的“Disperbyk-101(商品名，聚酰胺胺磷酸盐)、Disperbyk-107(商品名，羧酸酯)、Disperbyk-110(商品名，包含酸基的共聚物)、Disperbyk-130(商品名，聚酰胺)、Disperbyk-161、Disperbyk-162、Disperbyk-163、Disperbyk-164、Disperbyk-165、Disperbyk-166、Disperbyk-170、Disperbyk-180(商品名，高分子共聚物)”，“BYK-P104、BYK-P105(商品名，高分子量不饱和聚羧酸)”；EFKA公司制造的“EFKA4047、EFKA4050、EFKA4010、 EFKA4165(商品名，聚氨基甲酸酯类)，EFKA4330、EFKA4340(商品名，嵌段共聚物)，EFKA4400、EFKA4402(商品名，改性聚丙烯酸酯)，EFKA5010(商品名，聚酯酰胺)，EFKA5765(商品名，高分子量聚羧酸盐)，EFKA6220(商品名，脂肪酸聚酯)，EFKA6745(商品名，酞菁衍生物)，EFKA6750(商品名，偶氮颜料衍生物)”；味之素精细化学(Ajinomoto Fine-Techno)(股)制造的“Ajisper PB821、Ajisper PB822(商品名)”；共荣社化学(股)制造的“Flowlen TG-710(商品名，氨基甲酸酯低聚物)”、“Polyflow No.50E、Polyflow No.300(商品名，丙烯酸类共聚物)”；楠本化成(股)制造的“Disparlon KS-860、Disparlon 873SN、Disparlon 874、Disparlon#2150(商品名，脂肪族多元羧酸)，Disparlon#7004(商品名，聚醚酯)，Disparlon DA-703-50、Disparlon DA-705、Disparlon DA-725(商品名)”；花王(股)制造的“Demol RN、Demol N(商品名，萘磺酸福尔马林聚缩合物)，Demol MS、Demol C、Demol SN-B(商品名，芳香族磺酸福尔马林聚缩合物)”，“Homogenol L-18(商品名，高分子聚羧酸)”，“Emulgen 920、Emulgen 930、Emulgen 935、Emulgen 985(商品名，聚氧亚乙基壬基苯醚)”，“Acetamin 86(商品名，硬脂胺乙酸酯)”；Lubrizol公司制造的“Solsperse 5000(商品名，酞菁衍生物)，Solsperse 22000(商品名，偶氮颜料衍生物)，Solsperse 13240(商品名，聚酯胺)，Solsperse 3000、Solsperse 17000、Solsperse 27000(商品名，在末端部具有功能部的高分子)，Solsperse 24000、Solsperse 28000、Solsperse 32000、Solsperse 38500(商品名，接枝型高分子)”；日光化学公司制造的“Nikkol T106(商品名，聚氧亚乙基山梨糖醇单油酸酯)，Nikkol MYS-IEX(商品名，聚氧亚乙基单硬脂酸酯)”等。另外，还可以列举川研精细化学(Kawaken Fine Chemicals)(股)制造的Hinoact T-8000E(商品名)等两性分散剂。 
这些分散剂可以单独使用，也可以将2种以上组合使用。 
分散剂的酸值优选为5.0mgKOH/g以上200mgKOH/g以下的范围，更优选为10mgKOH/g以上150mgKOH/g以下的范围，尤其优选为60mgKOH/g以上150mgKOH/g以下的范围。 
若分散剂的酸值为200mgKOH/g以下，则更有效果地抑制形成遮光膜时的显影时的图案剥离。另外，若分散剂的酸值为5.0mgKOH/g以上，则碱性显影性变得更良好。另外，若分散剂的酸值为60mgKOH/g以上，则可进一 步抑制钛黑粒子的沉降，可进一步减少粗大粒子数，且可进一步提高颜料分散物或者感放射线性组成物的随时间稳定性。 
本发明中，分散剂的酸值例如能够根据分散剂中的酸基的平均含量来算出。另外，通过改变分散剂的构成成分即含有酸基的单体单元的含量，能够获得具有所需酸值的树脂。 
就形成遮光膜时，抑制显影时的图案剥离及显影性的观点而言，本发明的分散剂的重量平均分子量优选为10,000以上300,000以下，更优选为15,000以上200,000以下，尤其优选为20,000以上100,000以下，特别优选为25,000以上50,000以下。此外，分散剂的重量平均分子量可利用例如凝胶渗透色谱法(Gel Permeation Chromatography，GPC)来测定。 
(接枝共聚物) 
本发明中，还优选使用接枝共聚物(以下，也称为“特定树脂”)作为分散剂。通过使用接枝共聚物作为分散剂，可进一步提高分散性以及保存稳定性。 
接枝共聚物优选为具有除氢原子以外的原子数为40～10000范围的接枝链的共聚物。此时的所谓接枝链，表示从共聚物的主链的根部直至从主链分枝的基团的末端为止的部分。 
该特定树脂是可对钛黑粒子赋予分散性的分散树脂，由于具有优异的分散性、及由接枝链引起的与溶剂的亲和性，因此钛黑粒子的分散性、以及随时间经过后的分散稳定性优异。另外，当制成感放射线性组成物时，由于接枝链的存在而具有与聚合性化合物或者其他可并用的树脂等的亲和性，因此碱性显影时难以产生残渣。 
另外，通过向该特定树脂中进一步导入羧酸基等碱可溶性的部分结构，也能够赋予作为为了通过碱性显影来形成图案而赋予显影性的树脂的功能。 
因此，通过向所述接枝共聚物中导入碱可溶性的部分结构，(A)颜料分散物中钛黑粒子的分散所不可欠缺的分散树脂自身变得具有碱可溶性。含有这种钛黑分散物的感放射线性组成物成为曝光部的遮光性优异的组成物，且未曝光部的碱性显影性提高。 
若接枝链变长，则立体排斥(Steric repulsion)效果变高，分散性提高，但若其中一接枝链过长，则对钛黑的吸附力下降，导致分散性下降。因此， 本发明所使用的接枝共聚物优选为每一条接枝链的除氢原子以外的原子数为40～10000，更优选为每一条接枝链的除氢原子以外的原子数为50～2000，尤其优选为每一条接枝链的除氢原子以外的原子数为60～500。 
接枝链的聚合物结构的例子可列举：聚(甲基)丙烯酸、聚酯、聚氨基甲酸酯、聚脲、聚酰胺、聚醚等。作为接枝链，为了提高接枝部位与溶剂的相互作用性，由此提高分散性，优选为具有聚(甲基)丙烯酸、聚酯、或者聚醚的接枝链，更优选为具有聚酯或者聚醚的接枝链。 
具有这种聚合物结构作为接枝链的大分子单体的结构只要具有能够与聚合物主链部反应的取代基且满足本发明的必要条件，则无特别限定，优选为可适合应用具有反应性双键性基的大分子单体。 
适合用于合成特定树脂的市售大分子单体可使用：AA-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AA-10(商品名，东亚合成(股)制造)、AB-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AS-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AN-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AW-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AA-714(商品名，东亚合成(股)制造)、AY-707(商品名，东亚合成(股)制造)、AY-714(商品名，东亚合成(股)制造)、AK-5(商品名，东亚合成(股)制造)、AK-30(商品名，东亚合成(股)制造)、AK-32(商品名，东亚合成(股)制造)、Blemmer PP-100(商品名，日油(股)制造)、Blemmer PP-500(商品名，日油(股)制造)、Blemmer PP-800(商品名，日油(股)制造)、Blemmer PP-1000(商品名，日油(股)制造)、Blemmer 55-PET-800(商品名，日油(股)制造)、Blemmer PME-4000(商品名，日油(股)制造)、Blemmer PSE-400(商品名，日油(股)制造)、Blemmer PSE-1300(商品名，日油(股)制造)、Blemmer 43PAPE-600B(商品名，日油(股)制造)等。其中，优选为使用AA-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AA-10(商品名，东亚合成(股)制造)、AB-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AS-6(商品名，东亚合成(股)制造)、AN-6(商品名，东亚合成(股)制造)、Blemmer PME-4000(商品名，日油(股)制造)等。 
所述接枝共聚物优选为至少包含下述式(1)～式(4)中任一个所表示的结构单元，更优选为至少包含下述式(1A)、下述式(2A)、下述式(3A)、下述式(3B)以及下述式(4)中任一个所表示的结构单元。 
[化1] 
式(1)～式(4)中，W1、W2、W3及W4分别独立地表示氧原子或NH。W1、W2、W3及W4优选为氧原子。 
式(1)～式(4)中，X1、X2、X3、X4及X5分别独立地表示氢原子或者一价有机基。就合成上的制约的观点而言，X1、X2、X3、X4及X5优选为分别独立地为氢原子或者碳数1～12的烷基，更优选为分别独立地为氢原子或者甲基，特别优选为甲基。 
式(1)～式(4)中，Y1、Y2、Y3及Y4分别独立地表示二价连结基，该连结基在结构上并无特别制约。Y1、Y2、Y3或Y4所表示的二价连结基具体而言，可列举下述(Y-1)～(Y-21)的连结基等作为例子。下述所示的结构中，A、B分别是指与式(1)～式(4)中的左末端基以及右末端基的结合部位。下述所示的结构中，就合成的简便性而言，更优选为(Y-2)或者(Y-13)。 
[化2] 
式(1)～式(4)中，Z1、Z2、Z3及Z4分别独立地表示一价有机基。该有机基的结构并无特别限定，具体而言可列举：烷基、羟基、烷氧基、芳氧基、杂芳氧基、烷基硫醚基、芳基硫醚基、杂芳基硫醚基、以及氨基等。这些有机基中，尤其就分散性提高的观点而言，Z1、Z2、Z3及Z4所表示的有机基优选为具有立体排斥效果的基团，Z1～Z3所表示的有机基优选为分别独立地为碳数5至24的烷基或者碳数5至24的烷氧基，其中，特别优选为分别独立地为具有碳数5至24的分枝烷基的烷氧基或者具有碳数5至24的环状烷基的烷氧基。另外，Z4所表示的有机基优选为分别独立地为碳数5至24 的烷基，其中，特别优选为分别独立地为碳数5至24的分枝烷基或碳数5至24的环状烷基。 
式(1)～式(4)中，n、m、p及q分别为1至500的整数。 
式(3)中，当p为2～500时，接枝共聚物中存在多个的R3可以相互相同，也可以不同。式(4)中，当q为2～500时，接枝共聚物中存在多个的X5及R4可以相互相同，也可以不同。 
另外，式(1)及式(2)中，j及k分别独立地表示2～8的整数。就分散稳定性、显影性的观点而言，式(1)及式(2)中的j及k优选为4～6的整数，最优选为5。 
式(3)中，R3表示分枝或直链的亚烷基，优选为碳数1～10的亚烷基，更优选为碳数2或3的亚烷基。 
式(4)中，R4表示氢原子或者一价有机基，该一价有机基在结构上并无特别限定。R4优选为可列举氢原子、烷基、芳基及杂芳基，尤其优选为氢原子或烷基。在该R4为烷基的情况下，该烷基优选为碳数1～20的直链状烷基、碳数3～20的分枝状烷基、或者碳数5～20的环状烷基，更优选为碳数1～20的直链状烷基，特别优选为碳数1～6的直链状烷基。 
式(4)中，R5表示氢原子或者一价有机基，该一价有机基在结构上并无特别限定。R5优选为可列举氢原子、烷基、芳基及杂芳基，尤其优选为氢原子或烷基。在该R5为烷基的情况下，该烷基优选为碳数1～20的直链状烷基、碳数3～20的分枝状烷基、或者碳数5～20的环状烷基，更优选为碳数1～20的直链状烷基，特别优选为碳数1～6的直链状烷基。 
特定树脂中，式(1)～式(4)所表示的结构单元以质量换算，相对于特定树脂的总质量，优选为以10％～90％的范围包含，更优选为以30％～70％的范围包含。式(1)～式(4)所表示的结构单元若在该范围内包含，则钛黑粒子的分散性高，形成遮光膜时的显影性良好。 
另外，特定树脂中可含有2种以上结构不同的接枝部位。 
就分散稳定性、显影性的观点而言，所述式(1)所表示的结构单元更优选为下述式(1A)所表示的结构单元。 
另外，就分散稳定性、显影性的观点而言，所述式(2)所表示的结构单元更优选为下述式(2A)所表示的结构单元。 
[化3] 
式(1A)中，X1、Y1、Z1及n与所述式(1)中的X1、Y1、Z1及n含义相同，优选的范围也相同。 
式(2A)中，X2、Y2、Z2及m与所述式(2)中的X2、Y2、Z2及m含义相同，优选的范围也相同。 
另外，就分散稳定性、显影性的观点而言，所述式(3)所表示的结构单元更优选为下述式(3A)或者式(3B)所表示的结构单元。 
[化4] 
式(3A)或者式(3B)中，X3、Y3、Z3及p与所述式(3)中的X3、Y3、 Z3及p含义相同，优选的范围也相同。 
特定树脂更优选为具有所述式(1A)所表示的结构单元的树脂。 
特定树脂中，除了接枝部位以外，可导入能够与钛黑粒子等黑色颜料形成相互作用的官能基。此外，以下，列举具有作为黑色颜料而优选的钛黑粒子的情况为例进行说明，但并不限定于此。 
能够与该钛黑粒子形成相互作用的官能基例如可列举：酸基、碱性基、配位性基、具有反应性的官能基等，特定树脂中，可使用具有酸基的结构单元、具有碱性基的结构单元、具有配位性基的结构单元、具有反应性的结构单元来导入。 
作为能够与钛黑粒子形成相互作用的官能基的酸基例如有羧酸基、磺酸基、磷酸基、酚性羟基等，特别优选的酸基是对钛黑粒子的吸附力良好且其分散性高的羧酸基。特定树脂中可具有1种或2种以上的这些酸基。 
另外，通过导入这种酸基，也具有提高特定树脂的碱性显影性的优点。 
可作为共聚合成分而导入至特定树脂中的具有酸基的结构单元的优选含量为0.1摩尔％以上50摩尔％以下，就抑制由碱性显影引起的图像强度的损害的观点而言，特别优选为1摩尔％以上30摩尔％以下。 
作为能够与钛黑粒子形成相互作用的官能基的碱性基例如有一级氨基、二级氨基、三级氨基、含有N原子的杂环、酰胺基等，特别优选的碱性基是对颜料的吸附力良好且其分散性高的三级氨基。特定树脂中可导入1种或1种以上的这些碱性基。 
在作为共聚合成分而导入至特定树脂中的情况下，相对于特定树脂中的总结构单元，具有碱性基的结构单元的优选含量为0.01摩尔％以上50摩尔％以下，就抑制显影性阻碍的观点而言，特别优选为0.01摩尔％以上30摩尔％以下。 
作为能够与钛黑粒子等黑色颜料形成相互作用的官能基的配位性基、以及具有反应性的基团例如可列举：乙酰基乙酰氧基、三烷氧基硅烷基、异氰酸酯基、酸酐、酰氯等。特别优选的基团是对颜料的吸附力良好且分散性高的乙酰基乙酰氧基。特定树脂中可具有1种或1种以上的这些基团。 
相对于特定树脂中的总结构单元，可作为特定树脂共聚合成分而导入的具有碱性基的结构单元或者具有反应性的结构单元的优选含量为0.5摩尔％ 以上50摩尔％以下，就抑制显影性阻碍的观点而言，特别优选为1摩尔％以上30摩尔％以下。 
在本发明的特定树脂于接枝部位以外具有能够与钛黑粒子形成相互作用的官能基的情况下，只要含有如上所述的各种能够与钛黑粒子形成相互作用的官能基即可，这些官能基如何导入并无特别限定，优选为使用由下述通式(i)～通式(iii)中任一个所表示的单体而获得的结构单元的至少1种来导入。 
[化5] 
式(i)～式(ii)中，R1、R2及R3分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如，氟、氯、溴等)、或者碳原子数为1～6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)。 
R1、R2及R3更优选为分别独立地为氢原子、或者碳原子数为1～3的烷基，最优选为分别独立地为氢原子或者甲基。R2及R3特别优选分别为氢原子。 
X表示氧原子(-O-)或者亚氨基(-NH-)，优选为氧原子。 
式(i)～式(ii)中的L表示单键或者二价连结基。该二价连结基的例子可列举：二价脂肪族基(例如，亚烷基、经取代的亚烷基、亚烯基、经取代的亚烯基、亚炔基、以及经取代的亚炔基)、二价芳香族基(例如，亚芳基、 以及经取代的亚芳基)、二价杂环基以及这些基团与氧原子(-O-)、硫原子(-S-)、亚氨基(-NH-)、经取代的亚氨基(-NR31-，此处R31为脂肪族基、芳香族基或者杂环基)或者羰基(-CO-)中的一个以上的组合等。 
所述二价脂肪族基可具有环状结构或者分枝结构。所述脂肪族基的碳原子数优选为1～20，更优选为1～15，尤其优选为1～10。脂肪族基是饱和脂肪族基优于不饱和脂肪族基。另外，脂肪族基可具有取代基。取代基的例子可列举卤素原子、羟基、芳香族基以及杂环基。 
所述二价芳香族基的碳原子数优选为6～20，尤其优选为6～15，最优选为6～10。另外，所述芳香族基可具有取代基。取代基的例子可列举卤素原子、羟基、脂肪族基、芳香族基以及杂环基。 
所述二价杂环基优选为具有5员环或者6员环作为杂环。杂环上可缩合其他的杂环、脂肪族环或者芳香族环中的1种以上。另外，杂环基可具有取代基。取代基的例子可列举：卤素原子、羟基、氧代基(＝O)、硫代基(＝S)、亚氨基(＝NH)、经取代的亚氨基(＝N-R32，此处R32为脂肪族基、芳香族基或者杂环基)、脂肪族基、芳香族基以及杂环基。 
L优选为单键、亚烷基或者包含氧亚烷基结构的二价连结基。氧亚烷基结构更优选为氧亚乙基结构或者氧亚丙基结构。另外，L可包含重复含有2个以上氧亚烷基结构的聚氧亚烷基结构。聚氧亚烷基结构优选为聚氧亚乙基结构或者聚氧亚丙基结构。聚氧亚乙基结构是由-(OCH2CH2)n-所表示，n优选为2以上的整数，更优选为2～10的整数。 
式(i)～式(iii)中，Z表示除接枝部位以外能够与钛黑形成相互作用的官能基，优选为羧酸、三级氨基，更优选为羧酸。另外，Y表示次甲基或者氮原子。 
式(iii)中，R4、R5及R6分别独立地表示氢原子、卤素原子(例如，氟、氯、溴等)、或者碳原子数为1～6的烷基(例如，甲基、乙基、丙基等)、-Z、或者-L-Z。此处，L及Z与所述的L及Z含义相同，优选的例子也相同。 
R4、R5及R6分别独立地表示氢原子、或者碳数为1～3的烷基，更优选为氢原子。 
本发明中，通式(i)所表示的单体优选为R1、R2及R3分别独立地为氢原子或者甲基，L为亚烷基或者包含氧亚烷基结构的二价连结基，X为氧原 子或者亚氨基，且Z为羧酸的化合物。 
另外，通式(ii)所表示的单体优选为R1为氢原子或者甲基，L为亚烷基，Z为羧酸，且Y为次甲基的化合物。另外，通式(iii)所表示的单体优选为R4、R5及R6分别独立地为氢原子或者甲基，L为单键或者亚烷基，且Z为羧酸的化合物。 
以下，列出式(i)～式(iii)所表示的单体(化合物)的代表例。 
该单体的例子可列举：甲基丙烯酸、丁烯酸、异丁烯酸、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物(例如，甲基丙烯酸2-羟基乙酯)与丁二酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物与邻苯二甲酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物与四羟基邻苯二甲酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物与偏苯三甲酸酐的反应物、分子内具有加成聚合性双键及羟基的化合物与均苯四甲酸酐的反应物、丙烯酸、丙烯酸二聚物、丙烯酸低聚物、顺丁烯二酸、亚甲基丁二酸、反丁烯二酸、4-乙烯基苯甲酸、乙烯基苯酚、4-羟基苯基甲基丙烯酰胺等。 
就与钛黑的相互作用、分散稳定性、以及对显影液的渗透性的观点而言，特定树脂中具有酸性基的单体等的能够与钛黑形成相互作用的官能基的含量相对于特定树脂，优选为0.05质量％～90质量％，更优选为1.0质量％～80质量％，尤其优选为10质量％～70质量％。 
进而，本发明的钛黑的分散组成物中所含的特定树脂中，为了提高图像强度等诸多性能的目的，只要不损及本发明的效果，除了具有所述接枝部位的结构单元以及能够与钛黑形成相互作用的官能基以外，还可更包含具有各种功能的其他结构单元来作为共聚合成分，例如具有与分散物中使用的分散介质具有亲和性的官能基等的结构单元。 
能够与特定树脂共聚合的共聚合成分的例子例如可列举选自丙烯酸酯类、甲基丙烯酸酯类、苯乙烯类、丙烯腈类、甲基丙烯腈类等中的自由基聚合性化合物。 
可使用1种或2种以上的所述化合物，特定树脂中，这些共聚合成分适宜使用的含量为0摩尔％以上90摩尔％以下，特别优选为0摩尔％以上60摩尔％以下。当含量为所述范围时，可得到充分的图案形成。 
合成特定树脂时所使用的溶剂例如可列举：二氯乙烷、环己酮、甲基乙 酮、丙酮、甲醇、乙醇、丙醇、丁醇、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙酸2-甲氧基乙酯、1-甲氧基-2-丙醇、乙酸1-甲氧基-2-丙酯、N，N-二甲基甲酰胺、N，N-二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、甲苯、乙酸乙酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等。这些溶剂可以单独使用，也可以将2种以上混合使用。 
这种特定树脂的具体例可列举以下的例示化合物1～例示化合物55。此外，各构成单元(主链部分)的附注数字为质量％。 
[化6] 
[化7] 
[化8] 
[化9] 
[化10] 
[化11] 
[化12] 
[化13] 
[化14] 
[化15] 
[化16] 
[化17] 
[化18] 
[化19] 
[化20] 
本发明的(A)颜料分散物中的分散剂的含量相对于被分散体(含有包含钛黑粒子的被分散体以及其他着色剂)的总固体成分质量，优选为1质量％～90质量％，更优选为3质量％～70质量％。 
另外，感放射线性组成物中的分散剂的含量相对于被分散体(含有包含钛黑粒子的被分散体以及其他着色剂)的总固体成分质量，优选为1质量％～90质量％，更优选为3质量％～70质量％。 
(a-3)有机溶剂 
本发明中使用的(A)颜料分散物含有(a-3)有机溶剂。 
有机溶剂的例子例如可列举：丙酮、甲基乙酮、环己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氢呋喃、甲苯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、乙酰基丙酮、环己酮、二丙酮醇、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇单异丙醚、乙二醇单丁醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇二甲醚、二乙二醇二乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基丙酯、N，N-二甲基甲酰胺、二甲基亚砜、γ-丁内酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乳酸甲酯、乳酸乙酯等，但并不限定于这些有机溶剂。 
有机溶剂可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用。 
在将2种以上有机溶剂组合使用的情况下，特别优选为由选自所述的3-乙氧基丙酸甲酯、3-乙氧基丙酸乙酯、乙基溶纤剂乙酸酯、乳酸乙酯、二乙二醇二甲醚、乙酸丁酯、3-甲氧基丙酸甲酯、2-庚酮、环己酮、乙基卡必醇乙 酸酯、丁基卡必醇乙酸酯、丙二醇甲醚、以及丙二醇甲醚乙酸酯中的2种以上所构成的混合溶液。 
钛黑分散物中所含的有机溶剂的量相对于该分散物的总量，优选为10质量％～80质量％，更优选为20质量％～70质量％，尤其优选为30质量％～65质量％。 
另外，感放射线性组成物中所含的有机溶剂的量相对于该组成物的总量，优选为10质量％～90质量％，更优选为20质量％～80质量％，尤其优选为25质量％～75质量％。 
(B)聚合性化合物 
用于形成本发明遮光膜的感放射线性组成物含有聚合性化合物。 
聚合性化合物优选为具有至少1个可加成聚合的乙烯性不饱和基且沸点在常压下为100℃以上的化合物。 
具有至少1个可加成聚合的乙烯性不饱和基且沸点在常压下为100℃以上的化合物的例子例如可列举：聚乙二醇单(甲基)丙烯酸酯、聚丙二醇单(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸苯氧基乙酯等单官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯；聚乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、己二醇(甲基)丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、异氰尿酸三(丙烯酰氧基乙基)酯、甘油或三羟甲基乙烷等使环氧乙烷或环氧丙烷加成于多官能醇上之后进行(甲基)丙烯酸酯化而得的化合物、季戊四醇或者二季戊四醇的进行聚(甲基)丙烯酸酯化而得的化合物，日本专利特公昭48-41708号、日本专利特公昭50-6034号、日本专利特开昭51-37193号的各公报中记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类，日本专利特开昭48-64183号、日本专利特公昭49-43191号、日本专利特公昭52-30490号的各公报中记载的聚酯丙烯酸酯类，作为环氧树脂与(甲基)丙烯酸的反应生成物的环氧丙烯酸酯类等多官能丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯。 
进而，也可以使用日本粘着协会会刊Vol.20、No.7、第300～308页中所介绍的作为光硬化性单体以及低聚物的化合物。 
另外，还可以使用日本专利特开平10-62986号公报中作为通式(1)及通式(2)而与其具体例一起记载的化合物，即使环氧乙烷或环氧丙烷加成于 所述多官能醇上之后进行(甲基)丙烯酸酯化而得的化合物。 
其中，优选为二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、以及它们的丙烯酰基经由乙二醇、丙二醇残基而与二季戊四醇连结的结构。它们的低聚物类型也可以使用。 
另外，还优选为：如日本专利特公昭48-41708号、日本专利特开昭51-37193号、日本专利特公平2-32293号、以及日本专利特公平2-16765号的各公报所记载的氨基甲酸酯丙烯酸酯类，或日本专利特公昭58-49860号、日本专利特公昭56-17654号、日本专利特公昭62-39417号、以及日本专利特公昭62-39418号的各公报所记载的具有环氧乙烷类骨架的氨基甲酸酯化合物类。进而，通过使用日本专利特开昭63-277653号、日本专利特开昭63-260909号、以及日本专利特开平1-105238号的各公报所记载的分子内具有氨基结构或硫化物结构的加成聚合性化合物类，能够获得感光速度非常优异的光聚合性组成物。市售品可列举：氨基甲酸酯低聚物UAS-10、氨基甲酸酯低聚物UAB-140(商品名，日本制纸化学(股)制造)、UA-7200(商品名，新中村化学工业(股)制造)、DPHA-40H(商品名，日本化药(股)制造)、UA-306H、UA-306T、UA-306I、AH-600、T-600、AI-600(商品名，共荣社化学(股)制造)等。 
另外，具有酸基的乙烯性不饱和化合物类也优选，市售品例如可列举东亚合成股份有限公司制造的含羧基的3官能丙烯酸酯TO-756、以及含羧基的5官能丙烯酸酯TO-1382等。 
本发明中使用的聚合性化合物更优选为4官能以上的丙烯酸酯化合物。 
聚合性化合物可以单独使用1种，也可以将2种以上组合使用。 
在将2种以上的光聚合性化合物组合使用的情况下，其组合态样可以根据感光性组成物所要求的物性等来适当设定。光聚合性化合物的优选组合态样之一例如可列举将选自所述已公开的多官能丙烯酸酯化合物中的2种以上聚合性化合物加以组合的态样，作为其一例，可列举二季戊四醇六丙烯酸酯以及季戊四醇三丙烯酸酯的组合。 
聚合性化合物在感光性树脂成物中的含量以质量换算，相对于总固体成分100份，优选为3份～55份，更优选为10份～50份。 
(C)聚合引发剂 
本发明的感光性树脂性组成物含有聚合引发剂。 
光聚合引发剂是利用光或热而分解，来引发、促进所述聚合性化合物的聚合的化合物，优选为对波长300nm～500nm的区域的光具有吸收的化合物。 
作为聚合引发剂的具体例，例如可列举：有机卤化化合物、恶二唑化合物、羰基化合物、缩酮化合物、安息香化合物、有机过氧化化合物、偶氮化合物、香豆素化合物、叠氮化合物、二茂金属化合物、有机硼酸化合物、二磺酸化合物、肟酯化合物、鎓盐化合物、酰基膦(氧化物)化合物。 
作为更具体的例子，例如可列举日本专利特开2006-78749号公报的段落编号[0081]～[0100]、[0101]～[0139]等中记载的聚合引发剂。 
所述聚合引发剂特别优选为肟酯化合物。 
本发明的感放射线性组成物中的聚合引发剂的含量在感放射线性组成物的总固体成分中，优选为0.1质量％～30质量％，更优选为1质量％～25质量％，尤其优选为2质量％～20质量％。 
(F)其他添加剂 
本发明的感放射线性组成物中，除了(A)颜料分散物、(B)聚合性化合物、以及(C)聚合引发剂以外，可根据目的包含各种添加剂。 
(F-1)粘合剂聚合物 
感放射线性组成物中，为了提高皮膜特性等的目的，可视需要进一步使用粘合剂聚合物。 
粘合剂聚合物优选为使用线状有机聚合物。这种“线状有机聚合物”可任意使用公知的聚合物。优选为，为了能够进行水显影或弱碱性水显影，而选择对水或弱碱性水具有可溶性或者膨润性的线状有机聚合物。线状有机聚合物是根据不仅作为皮膜形成剂，而且作为水、弱碱性水或有机溶剂显影剂的用途来选择使用。 
例如，若使用水可溶性有机聚合物，则可进行水显影。这种线状有机聚合物的例子可列举：侧链上具有羧酸基的自由基聚合物，例如日本专利特开昭59-44615号、日本专利特公昭54-34327号、日本专利特公昭58-12577号、日本专利特公昭54-25957号、日本专利特开昭54-92723号、日本专利特开昭59-53836号、日本专利特开昭59-71048号中记载的聚合物，即，使具有羧基 的单体进行均聚合或共聚合而得的树脂、使具有酸酐的单体进行均聚合或共聚合且使酸酐单元进行水解或者半酯化或半酰胺化而得的树脂、使环氧树脂以不饱和单羧酸及酸酐进行改性而得的环氧丙烯酸酯等。具有羧基的单体的例子可列举丙烯酸、甲基丙烯酸、亚甲基丁二酸、丁烯酸、顺丁烯二酸、反丁烯二酸、4-羧基苯乙烯等，具有酸酐的单体的例子可列举顺丁烯二酸酐等。 
另外，也可以列举同样在侧链上具有羧酸基的酸性纤维素衍生物作为例子。除此以外，有用的是使环状酸酐加成于具有羟基的聚合物而得的聚合物等。 
另外，日本专利特公平7-120040号、日本专利特公平7-120041号、日本专利特公平7-120042号、日本专利特公平8-12424号、日本专利特开昭63-287944号、日本专利特开昭63-287947号、日本专利特开平1-271741号、日本专利特愿平10-116232号等中记载的含有酸基的氨基甲酸酯类粘合剂聚合物由于强度非常优异，因此在低曝光适应性的方面有利。 
另外，欧洲专利第993966号、欧洲专利第1204000号、日本专利特开2001-318463号等各公报中记载的具有酸基的缩醛改性聚乙烯醇类粘合剂聚合物的膜强度、显影性的平衡性优异，因此优选。进而，除此以外，作为水溶性线状有机聚合物可以使用聚乙烯基吡咯烷酮或聚环氧乙烷等。另外，为了提高硬化皮膜的强度，也可以使用醇可溶性尼龙或2，2-双-(4-羟基苯基)-丙烷与表氯醇的聚醚等。 
尤其，所述聚合物中，[(甲基)丙烯酸苄酯/(甲基)丙烯酸/视需要的其他加成聚合性乙烯基单体]共聚物、以及[(甲基)丙烯酸烯丙酯/(甲基)丙烯酸/视需要的其他加成聚合性乙烯基单体]共聚物的膜强度、感度、显影性的平衡性优异，因此优选。 
就抑制显影时的图案剥离及显影性的观点而言，本发明的感放射线性组成物中所使用的粘合剂聚合物的重量平均分子量优选为1,000～300,000，更优选为1,500～250,000，尤其优选为2,000～200,000，特别优选为2,500～100,000。关于粘合剂聚合物的数量平均分子量，优选为1000以上，尤其优选为1500～25万的范围。粘合剂聚合物的多分散度(重量平均分子量/数量平均分子量)优选为1以上，尤其优选为1.1～10的范围。 
这些粘合剂聚合物可以是无规聚合物、嵌段聚合物、接枝聚合物等的任 一种。 
本发明中可使用的粘合剂聚合物可利用先前公知的方法来合成。合成时使用的溶剂的例子例如可列举四氢呋喃、二氯乙烷、环己酮等。这些溶剂可以单独使用或者将2种以上混合使用。 
另外，合成粘合剂聚合物时使用的自由基聚合引发剂的例子可列举偶氮类引发剂、过氧化物引发剂等公知的化合物。 
各种粘合剂聚合物中，通过含有侧链上具有双键的碱可溶性树脂，尤其能够提高曝光部的硬化性与未曝光部的碱性显影性两者。 
侧链上具有双键的碱可溶性粘合剂聚合物通过在其结构中具有使树脂变得可溶于碱的酸基、及至少一个不饱和双键，而提高非图像部去除性等诸多性能。具有这种部分结构的粘合剂树脂详细记载于日本专利特开2003-262958号公报中，也可以将其中记载的化合物用于本发明。 
此外，粘合剂聚合物的重量平均分子量例如可利用GPC来测定。 
本发明的感放射线性组成物中的粘合剂聚合物的含量相对于组成物的总固体成分，优选为0.1质量％～7.0质量％，就遮光膜的剥离抑制与显影残渣抑制的并存的观点而言，更优选为0.3质量％～6.0质量％，尤其优选为1.0质量％～5.0质量％。 
(F-2)着色剂 
本发明中，为了表现出所需的遮光性，可以并用公知的有机颜料或染料等无机颜料以外的着色剂。 
作为可以并用的着色剂，有机颜料中，例如可列举日本专利特开2008-224982号公报段落编号[0030]～[0044]中记载的颜料，或将C.I.颜料绿58、C.I.颜料蓝79的Cl取代基变更为OH而成的着色剂等，这些着色剂中，可优选使用的颜料可列举以下的颜料。但，本发明中可应用的着色剂并不限定于这些颜料。 
C.I.颜料黄11、24、108、109、110、138、139、150、151、154、167、180、185， 
C.I.颜料橙36、38、62、64， 
C.I.颜料红122、150、171、175、177、209、224、242、254、255， 
C.I.颜料紫19、23、29、32， 
C.I.颜料蓝15:1、15:3、15:6、16、22、60、66， 
C.I.颜料绿7、36、37、58， 
C.I.颜料黑1。 
可以用作着色剂的染料的例子并无特别限制，可以适当选择公知的染料来使用。例如可列举以下公报中记载的色素：日本专利特开昭64-90403号公报、日本专利特开昭64-91102号公报、日本专利特开平1-94301号公报、日本专利特开平6-11614号公报、日本专利特登2592207号、美国专利第4,808,501号说明书、美国专利第5,667,920号说明书、美国专利第5,059,500号说明书、日本专利特开平5-333207号公报、日本专利特开平6-35183号公报、日本专利特开平6-51115号公报、日本专利特开平6-194828号公报、日本专利特开平8-211599号公报、日本专利特开平4-249549号公报、日本专利特开平10-1233 16号公报、日本专利特开平11-302283号公报、日本专利特开平7-286107号公报、日本专利特开2001-4823号公报、日本专利特开平8-15522号公报、日本专利特开平8-29771号公报、日本专利特开平8-146215号公报、日本专利特开平11-343437号公报、日本专利特开平8-62416号公报、日本专利特开2002-14220号公报、日本专利特开2002-14221号公报、日本专利特开2002-14222号公报、日本专利特开2002-14223号公报、日本专利特开平8-302224号公报、日本专利特开平8-73758号公报、日本专利特开平8-179120号公报、日本专利特开平8-151531号公报等。 
作为染料所具有的化学结构，可列举具有以下化学结构的染料：吡唑偶氮(pyrazole azo)类、苯胺基偶氮(anilino azo)类、三苯基甲烷(triphenyl methane)类、蒽醌(anthraquinone)类、蒽吡啶酮(anthrapyridone)类、亚苄基(benzylidene)类、氧喏(oxonol)类、吡唑并三唑偶氮(pyrazolotriazole azo)类、吡啶酮偶氮(pyridone azo)类、花青(cyanine)类、吩噻嗪(phenothiazine)类、吡咯并吡唑偶氮次甲基(pyrrolopyrazole azomethine)类、氧杂蒽(xanthene)类、酞菁(phthalocyanine)类、苯并吡喃(benzopyran)类、靛蓝(indigo)类、吡咯亚甲基(pyrromethene)类等。 
作为本发明的感放射线性组成物中的着色剂，在与该组成物必须含有的钛黑粒子组合的情况下，就可以使硬化性与遮光性并存的观点而言，优选为选自由橙色颜料、红色颜料、以及紫色颜料所组成组群中的1种以上有机颜 料，最优选为与红色颜料的组合。 
与本发明的钛黑粒子组合使用的橙色颜料、红色颜料、以及紫色颜料例如只要自属于所述例示的“C.I.颜料橙”、“C.I.颜料红”、“C.I.颜料紫”的各种颜料中，根据作为目标的遮光性来适当选择即可。就遮光性提高的观点而言，优选为C.I.颜料紫29，C.I.颜料橙36、38、62、64，C.I.颜料红177、254、255等。 
(F-3)增感剂 
感放射线性组成物中，以提高聚合引发剂的自由基产生效率、且使感光波长成为长波长为目的，而可以含有增感剂。 
增感剂优选为以电子移动机制或者能量移动机制使所使用的聚合引发剂增感的增感剂。 
增感剂的优选例子可列举日本专利特开2008-214395号公报的段落编号[0085]～[0098]中记载的化合物。 
就感度及保存稳定性的观点而言，增感剂的含量相对于感放射线性组成物的总固体成分，优选为0.1质量％～30质量％的范围内，更优选为1质量％～20质量％的范围内，尤其优选为2质量％～1 5质量％的范围内。 
(F-4)聚合抑制剂 
本发明的感放射线性组成物中，为了在该组成物的制造中或保存中阻止聚合性化合物的不需要的热聚合，优选为含有少量的聚合抑制剂。聚合抑制剂可以使用公知的热聚合防止剂，具体而言可列举：对苯二酚(hydroquinone)、对甲氧基苯酚(p-methoxy phenol)、二-叔丁基-对甲酚(di-t-butyl-p-cresol)、邻苯三酚(pyrogallol)、叔丁基邻苯二酚(t-butylcatechol)、苯醌(benzoquinone)、4，4′-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2′-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯基羟基胺亚铈盐等。 
热聚合防止剂的含量相对于感放射线性组成物的总固体成分，优选为约0.01质量％～约5质量％。 
另外，根据需要，为了防止由氧引起的聚合阻碍，可以含有如山萮酸(behenic acid)或山萮酸酰胺之类的高级脂肪酸衍生物等，在涂布后的干燥过程中偏在于涂布膜的表面。高级脂肪酸衍生物的含量优选为总组成物的约0.5质量％～约10质量％。 
(F-5)密着提高剂 
本发明的感放射线性组成物中，为了提高与支持体等的硬质表面的密着性，可以含有密着提高剂。密着提高剂的例子可列举硅烷类偶联剂、钛偶联剂等。 
硅烷类偶联剂的例子优选为：γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、苯基三甲氧基硅烷，优选为可列举γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷。 
密着提高剂的含量在感放射线性组成物的总固体成分中，优选为0.5质量％～30质量％，更优选为0.7质量％～20质量％。 
(F-6)表面活性剂 
就进一步提高涂布性的观点而言，本发明的感放射线性组成物可以含有各种表面活性剂。表面活性剂可使用氟类表面活性剂、非离子类表面活性剂、阳离子类表面活性剂、阴离子类表面活性剂、硅酮类表面活性剂等各种表面活性剂。 
尤其，本发明的感放射线性组成物通过含有氟类表面活性剂，而进一步提高制备成涂布液时的液特性(特别是流动性)，因此可进一步改善涂布厚度的均匀性或省液性。 
即，在使用应用了含有氟类表面活性剂的感放射线性组成物的涂布液来形成膜的情况下，使被涂布面与涂布液的界面张力降低，由此改善对被涂布面的润湿性，且对被涂布面的涂布性提高。因此，即便是以少量的液量来形成数μm左右的薄膜的情况，也在更适宜形成厚度不均小的均匀厚度的膜的方面有效。 
氟类表面活性剂中的氟含有率优选为3质量％～40质量％，更优选为5质量％～30质量％，特别优选为7质量％～25质量％。氟含有率在该范围内的氟类表面活性剂在涂布膜的厚度的均匀性或省液性的方面有效果，在感放射线性组成物中的溶解性也良好。 
氟类表面活性剂例如可列举：Megafac F171、Megafac F172、Megafac F173、Megafac F176、Megafac F177、Megafac F141、Megafac F142、Megafac F143、Megafac F144、Megafac R30、Megafac F437、Megafac F475、Megafac  F479、Megafac F482、Megafac F554、Megafac F780、Megafac F781(以上，DIC(股)制造)，Fluorad FC430、Fluorad FC431、Fluorad FC171(以上，住友3M(股)制造)，Surflon S-382、Surflon SC-101、Surflon SC-103、Surflon SC-104、Surflon SC-105、Surflon SC1068、Surflon SC-381、Surflon SC-383、Surflon S393、Surflon KH-40(以上，旭硝子(股)制造)等。 
非离子类表面活性剂具体而言可列举：甘油、三羟甲基丙烷、三羟甲基乙烷以及它们的乙氧基化物及丙氧基化物(例如，甘油丙氧基化物、甘油乙氧基化物等)，聚氧亚乙基月桂醚、聚氧亚乙基硬脂醚、聚氧亚乙基油醚、聚氧亚乙基辛基苯醚、聚氧亚乙基壬基苯醚、聚乙二醇二月桂酸酯、聚乙二醇二硬脂酸酯、山梨糖醇脂肪酸酯(BASF公司制造的Pluronic L10、PluronicL31、Pluronic L61、Pluronic L62、Pluronic 10R5、Pluronic 17R2、Pluronic 25R2、Tetronic 304、Tetronic 701、Tetronic 704、Tetronic 901、Tetronic 904、Tetronic150R1、Solsperse 20000(日本Lubrizol(股)制造)等。 
阳离子类表面活性剂具体而言可列举：酞菁衍生物(商品名：EFKA-745，森下产业(股)制造)、有机硅氧烷聚合物KP341(信越化学工业(股)制造)、(甲基)丙烯酸类(共)聚合物Polyflow No.75、Polyflow No.90、Polyflow No.95(共荣社化学(股))、W001(裕商(股)制造)等。 
阴离子类表面活性剂具体而言可列举：W004、W005、W01 7(裕商(股)公司制造)等。 
硅酮类表面活性剂例如可列举：道康宁(Toray Dow Corning)(股)制造的“Toray Silicone DC3PA”、“Toray Silicone SH7PA”、“Toray Silicone DC11 PA”、“Toray Silicone SH21PA”、“Toray Silicone SH28PA”、“Toray Silicone SH29PA”、“Toray Silicone SH30PA”、“Toray Silicone SH8400”；Momentive Performance Materials公司制造的“TSF-4440”、“TSF-4300”、“TSF-4445”、“TSF-4460”、“TSF-4452”；信越硅酮股份有限公司制造的“KP341”、“KF6001”、“KF6002”；BYK-Chemie公司制造的“BYK307”、“BYK323”、“BYK330”等。 
表面活性剂可以仅使用1种，也可以将2种以上组合。 
表面活性剂的含量相对于本发明的感放射线性组成物的总质量，优选为0.001质量％～2.0质量％，更优选为0.005质量％～1.0质量％。 
(F-7)其他添加剂 
进而，感放射线性组成物可以为了进一步提高增感色素或引发剂对活性放射线的感度、或者抑制由氧引起的光聚合性化合物的聚合阻碍等目的而含有共增感剂。另外，为了改良硬化皮膜的物性，可以视需要添加稀释剂、塑化剂、感脂化剂等公知的添加剂。 
-钛黑分散物的制备- 
(A)颜料分散物的制备态样并无特别限制，例如可通过使用搅拌机、均质机、高压乳化装置、湿式粉碎机、湿式分散机等，将钛黑粒子、分散剂以及有机溶剂进行分散处理来制备，但其方法并不限定于这些。 
分散处理可通过2次以上的分散处理(多阶段分散)来进行。 
-感放射线性组成物的制备- 
对于本发明的感放射线性组成物的制备态样也没有特别限制，例如可以将所述(A)颜料分散物、(B)聚合引发剂、(C)聚合性化合物以及视需要并用的各种添加剂进行混合来制备。 
此外，制备本发明的感放射线性组成物时，为了去除异物或减少缺陷等目的，优选为将各成分混合后，利用过滤器进行过滤。过滤器可无特别限定地使用先前用于过滤用途等的过滤器。具体而言，例如可列举：聚四氟乙烯(polytetrafluoroethylene，PTFE)等氟树脂，尼龙-6、尼龙-6，6等聚酰胺类树脂，聚乙烯、聚丙烯(polypropylene，PP)等聚烯烃树脂(包含高密度、超高分子量)等的过滤器。这些过滤器材料中，优选为尼龙-6、尼龙-6，6等聚酰胺类树脂，聚丙烯(包含高密度聚丙烯)。 
过滤器的孔径适宜为0.01μm～7.0μm左右，优选为0.01μm～2.5μm左右，尤其优选为0.01μm～2.0μm左右。通过设为该范围，可以确实地去除在后续步骤中阻碍均匀感放射线性组成物的制备的微细异物，从而形成均匀且平滑的感放射线性组成物层。 
使用过滤器时，可以将不同的过滤器加以组合。此时，使用第1过滤器的过滤可以只进行1次，也可以进行2次以上。另外，可以将所述范围内不同孔径的过滤器加以组合，将第1过滤器制成包含多个过滤器者，来作为第1次过滤。此处所谓的孔径可以参照过滤器厂商的公称值。市售的过滤器例如可以从Nihon Pall股份有限公司、Advantec Toyo股份有限公司、日本Entegris股份有限公司(以前的日本Mykrolis股份有限公司)或者Kitz Micro  Filter股份有限公司等提供的各种过滤器中选择。 
第2过滤器可以使用以与所述第1过滤器相同的材料等来形成的过滤器。 
另外，例如，利用第1过滤器的过滤仅对颜料分散物进行，可以在该颜料分散物中混合其他成分而制成感放射线性组成物后，进行第2过滤。 
以上所说明的(A)颜料分散物以及感放射线性组成物可无特别限制地用于形成遮光膜的用途，该遮光膜设置于在表面具有摄像元件部的硅基板或间隔壁(立起壁)的侧面等，且该遮光膜遮蔽可见光。 
《遮光膜》 
本发明的遮光膜是通过喷雾涂布所述本发明的感放射线性组成物而形成。喷雾涂布及干燥后的遮光膜优选为依据JIS B 0601-1994来测定的表面粗糙度(Ra)为 以上 以下，更优选为 以上 以下。 
本发明中，表面粗糙度(Ra)是采用使用ULVAC制造的Dektak 6M(接触式表面形状测定器)进行测定的值。 
通过具有这种表面粗糙度，本发明的遮光膜不仅可见光遮光能优异，而且抗可见光反射能力也优异。 
另外，在将本发明的遮光膜形成图案状的情况下，在其周边(硅基板上的未形成该遮光膜的区域)，残渣物减少。 
遮光膜的膜厚并无特别限定，就更有效果地获得本发明的效果的观点而言，优选为0.1μm～10μm，更优选为0.3μm～5.0μm，特别优选为0.5μm～3.0μm。另外，遮光膜的图案尺寸并无特别限定，就更有效果地获得本发明的效果的观点而言，优选为1000μm以下，更优选为500μm以下，特别优选为300μm以下。下限优选为1μm。 
另外，本发明的遮光膜的分光特性并无特别限定，就进一步提高可见光遮光能力的观点、可见区域与红外区域的遮光能力的平衡的观点等而言，优选为波长1200nm下的光学浓度(OD1200)与波长365nm下的光学浓度(OD365)的比[OD1200/OD365]为0.5以上3以下。 
光学浓度(OD)是使用(股)岛津制作所制造的UV-3600，对所得的膜进行透射率测定，利用下式将所得的透射率(％T)进行转变而获得OD值。 
OD值＝-Log(％T/100)    ...式B 
(遮光能力) 
本发明中，将波长λnm下的光学浓度以“ODλ”表示。 
就可见区域与红外区域的遮光能力的平衡的观点、以及更有效果地获得本发明的效果的观点而言，遮光膜的光学浓度优选为以下的条件。即， 
所述[OD1200/OD365]更优选为1.0以上2.5以下，特别优选为1.3以上2.0以下。 
所述遮光膜的波长1200nm下的光学浓度(OD1200)优选为1.5～10，更优选为2～10。 
所述遮光膜的波长365nm下的光学浓度(OD365)优选为1～7，更优选为2～6。 
所述遮光膜在900nm～1300nm的波长区域的光学浓度优选为2以上10以下，更优选为2以上9以下，特别优选为2以上8以下。 
所述遮光膜的比[OD900/OD365]优选为1.0以上2.5以下，更优选为1.1以上2.5以下。 
所述遮光膜的比[OD1100/OD365]优选为0.6以上2.5以下，更优选为0.7以上2.5以下。 
所述遮光膜的比[OD1300/OD365]优选为0.4以上2.3以下，更优选为0.5以上2.0以下。 
(抗反射能力) 
遮光膜的抗反射能力是根据反射率来评价。 
本发明中，利用台湾日立先端科技(股)公司(Hitachi High-Technologies)制造的分光光度计U-4100，在波长450nm的可见区域以入射角度5度来测定表面反射率(反射率是以％表示)。反射率越低，则判断抗反射能力越优异。 
如本发明所述在固体摄像元件用途的情况下，若为4％以下的表面反射率，则判断为实用上没有问题的水平。 
以上所说明的本发明遮光膜的具体形态可列举固体摄像元件用遮光膜。 
《遮光膜的制造方法》 
本发明的遮光膜的制造方法是包括以下步骤的固体摄像元件用遮光膜的 制造方法： 
将感放射线性组成物喷雾涂布在固体摄像元件的硅基板的具备受光元件的面与形成于该具备受光元件的面上的壁，而形成感放射线性层，所述固体摄像元件具有在硅基板的至少一面具备受光元件的摄像元件部，且具有形成于该硅基板的具备该摄像元件部的面上的壁；以及 
将所述感放射线性层进行曝光。 
此外，于在包含摄像元件部的整个面上，首先形成感放射线性层，仅残留遮光膜所必需的区域而在其他区域不形成遮光膜的情况下，在所述曝光步骤中进行图案状的曝光，然后，也可以进行将曝光后的所述感放射线性层显影而形成图案的步骤(以下，也称为“显影步骤”)。例如，于在立起壁上全面形成遮光膜，且在底面中除摄像元件部以外的区域形成遮光膜的情况，也可以通过与其对应的曝光而在如底面及侧面等角度不同的面上，利用一个步骤来形成感放射线性层。 
依据本发明的遮光膜的制造方法，可将可见光的遮光能力及防止可见光反射的能力优异的遮光膜，在相互间角度不同的2个表面上利用一个步骤来简易地形成涂膜(感放射线性层)，进而当将该遮光膜形成图案状时，也具有可减少该遮光膜的形成区域外的残渣物(以下，也称为“显影残渣”)的效果。 
以下，对本发明的遮光膜的制造方法中的各步骤进行说明。 
-感放射线性层形成步骤- 
感放射线性层形成步骤中，在硅基板上喷雾涂布本发明的感放射线性组成物而形成感放射线性层。 
在基板上涂布本发明的遮光膜形成用感放射线性组成物的方法是应用喷雾涂布法。喷雾涂布时的喷洒角度优选为20度至160度的范围，更优选为40度至120度。此外，喷洒角度是指从喷雾的喷出口中喷出的方向、与对于作为喷洒对象的基板的法线所成的角度。所述范围中，喷洒时可以利用一个步骤，不仅在平面上，而且在平面上的从基板端部立起的立起壁表面上也形成均匀的涂膜。 
就解析度及显影性的观点而言，感放射线性组成物的涂布膜厚(干燥膜厚)优选为0.35μm～3.0μm，更优选为0.50μm～2.5μm。 
涂布于硅基板上的感放射线性组成物通常在70℃～130℃、2分钟～4分 钟左右的条件下进行干燥，形成感放射线性层。 
-曝光步骤- 
曝光步骤中，将在所述感放射线性层形成步骤中所形成的感放射线性层，视需要例如经由遮罩，曝光成图案状而使其硬化(在经由遮罩进行曝光的情况下，仅使经光照射的涂布膜部分进行硬化)。另外，于在侧壁等上全面形成遮光膜的情况下，可以对感放射线性层的整个面进行曝光。 
曝光优选为通过照射放射线来进行，曝光时可使用的放射线的例子尤其可列举g线、h线、i线等紫外线，更优选为高压水银灯。照射强度优选为5mJ～3000mJ，更优选为10mJ～2000mJ，最优选为10mJ～1000mJ。 
-显影步骤- 
继所述曝光步骤之后，将曝光后的感放射线性层通过例如碱性显影处理进行显影而形成图案。显影步骤中，通过使曝光步骤中的感放射线性层的非照射部分溶出至碱性水溶液等中，而仅残留光照射部分。在进行全面曝光的情况下，可以省略显影步骤。 
就不对基底的电路等造成损害的方面而言，显影液优选为有机碱性显影液。显影温度通常为20℃～30℃，显影时间通常为20秒～240秒。 
所述显影液的例子可列举将有机碱性化合物以成为0.001质量％～10质量％、优选为0.01质量％～1质量％的浓度的方式，利用纯水进行稀释而成的碱性水溶液。作为可使用的有机碱性化合物的例子，例如可列举：氨水、乙胺、二乙胺、二甲基乙醇胺、四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、胆碱(choline)、吡咯(pyrrole)、哌啶(piperidine)、1，8-二氮杂双环-[5，4，0]-7-十一烯(1，8-diazabicyclo-[5，4，0]-7-undecene)等。此外，在使用碱性水溶液作为显影液的情况下，通常在显影后利用纯水进行清洗(淋洗)。 
本发明的遮光膜的制造方法中，除了所述的感放射线性层形成步骤、曝光步骤、以及显影步骤以外，可视需要更包括通过加热及/或曝光将显影后的图案进行硬化的硬化步骤。 
《固体摄像元件》 
本发明的固体摄像元件是具有所述本发明的遮光膜而构成。 
摄像元件可以是CCD，也可以是CMOS。 
其中，如日本专利特开2009-99591号公报或日本专利特开2009-158863 号公报中记载的固体摄像元件的结构，即，在与形成有摄像元件部的面相反侧的面上具有与安装基板(以下，也称为“电路基板”)的连接用的金属电极的固体摄像元件的结构，适合作为本发明的固体摄像元件的结构。 
即，本发明的固体摄像元件的优选一结构(本说明书中也称为结构K)为如下固体摄像元件，该固体摄像元件包括：硅基板，在一面(以下，也称为“第1主面”)上具有摄像元件部；金属电极，设置于所述硅基板的另一面(以下，也称为“第2主面”)，且与所述摄像元件部电性连接；以及所述本发明的遮光膜，设置于所述硅基板的设置有所述金属电极的面上，且以所述金属电极的至少一部分露出的方式被图案化。 
首先，作为与所述结构K的对比，对采用引线接合方式的先前固体摄像元件进行说明。 
自先前以来，固体摄像元件是利用引线接合方式而连接于电路基板。 
详细而言，将固体摄像元件配置于电路基板上，利用引线将设置于所述硅基板的摄像元件部侧的面上的连接用电极、与电路基板上的连接用电极连接。采用该引线接合方式的结构是接合区域的面积增大、相机模块的小型化困难的结构。 
与此相对，所述结构K的固体摄像元件是并非经由引线，而是经由焊球等连接材料来连接于安装基板(以下，也称为电路基板)的元件。 
所述结构K的固体摄像元件与所述电路基板的连接是通过将所述固体摄像元件与所述电路基板，以所述金属电极与电路基板上的连接用电极对向的方式配置，利用连接材料将所述金属电极与所述连接用电极连接而进行(例如，参照后述的图2及图3)。 
通过使用如所述结构K的固体摄像元件那样，(不使用引线)利用背面侧的金属电极而与电路基板连接的固体摄像元件，可省略引线接合空间，因此可使相机模块大幅度地小型化(例如，参照“东芝股份有限公司新闻发布‘关于通过手机用CMOS相机模块内制化来强化CMOS图像传感器事业’”，[在线]，2007年10月1日，[2009年11月12日检索]，国际互联网<URL：http://www.toshiba.co.jp/about/press/2007_10/pr_j0102.htm>)。 
所述结构K中，可在所述遮光膜的下层侧(接近于硅基板的侧)且为所述金属电极的上层侧(远离硅基板的侧)更包括阻焊层等保护绝缘层。 
即，所述结构K可以是具有设置于形成有所述金属电极的第2主面上，且以所述金属电极的至少一部分露出的方式经图案化的保护绝缘层的形态。 
此外，所述结构K中所谓“电性连接”，并不限定于直接连接的形态，也包含经由周边电路等而间接连接的状态。 
以下，参照图2及图3，对所述结构K的具体例进行说明，但本发明并不限定于以下的具体例。 
此外，图2及图3中，对共通的部分标注共通的符号。 
另外，进行说明时，“上”、“上方”及“上侧”是指从硅基板10来看较远的那一侧，“下”、“下方”及“下侧”是指接近硅基板10的那一侧。 
图2是表示具备所述结构K的具体例的固体摄像元件的相机模块的构成的概略截面图。 
图2所示的相机模块200是经由作为连接构件的焊球60而连接于作为安装基板的电路基板70。 
详细而言，相机模块200是具备以下构件而构成：固体摄像元件基板100，在硅基板的第1主面具备摄像元件部；玻璃基板30(透光性基板)，配置于固体摄像元件基板100的第1主面侧上方；红外线截止滤光片42，配置于玻璃基板30的上方；透镜支架50，配置于玻璃基板30以及红外线截止滤光片42的上方且在内部空间具有摄像透镜40；以及遮光兼电磁屏蔽44，以包围固体摄像元件基板100以及玻璃基板30的周围的方式配置。各构件是利用粘着剂20、41、45来粘着。 
相机模块200中，来自外部的入射光hv依次透射过摄像透镜40、红外线截止滤光片42、玻璃基板30后，到达固体摄像元件基板100的摄像元件部。 
此处，若入射至该摄像透镜40的入射光hv在与摄像透镜40接触的透镜支架50表面反射，则有反射光成为噪声的顾虑，进而为了防止噪声的目的，必须也抑制底面、或接收入射光hv的透镜支架50的开口部周边的反射，因此在透镜支架50与摄像透镜40的界面即透镜支架50表面设置本发明的遮光膜18。 
遮光膜18如上所述，是在透镜支架50上设置摄像透镜40之前形成于透镜支架50的表面，但由于喷雾涂布适应性优异，所以可利用一个步骤来涂布于与下方的红外线截止滤光片42的界面、透镜支架50的侧面、以及上方的 摄像透镜40周缘部的3个面上。此外，当在与下方的红外线截止滤光片42的界面或与上方的摄像透镜40的界面等上，在不需要的区域形成感放射线层的情况下，只要通过图案曝光，仅使必须形成遮光膜18的区域硬化，而将其他区域显影去除即可。 
相机模块200是在固体摄像元件基板100的第2主面侧，经由焊球60(连接材料)而连接于电路基板70。 
图3是将图2中的固体摄像元件基板100放大的截面图。 
固体摄像元件基板100是包括以下构件而构成：作为基体的硅基板10、摄像元件12、层间绝缘膜13、基础层14、滤光片15R、滤光片15G、滤光片15B、覆盖涂层16、微透镜17、绝缘膜22、金属电极23、阻焊层24、内部电极26、以及元件面电极27。 
其中，阻焊层24可以省略。 
首先，以固体摄像元件基板100的第1主面侧的构成为中心进行说明。 
如图2所示，在固体摄像元件基板100的基体即硅基板10的第1主面侧，设置有摄像元件部，该摄像元件部是由多个CCD或CMOS等摄像元件12二维地排列而成。 
在摄像元件部中的摄像元件12上形成有层间绝缘膜13，在层间绝缘膜13上形成有基础层14。进而在基础层14上，以与摄像元件12对应的方式分别配置有红色的滤光片15R、绿色的滤光片15G、蓝色的滤光片15B(以下，有时将它们统称为“滤光片15”)。 
在红色的滤光片15R、绿色的滤光片15G、蓝色的滤光片15B的边界部、以及摄像元件部的周边可以设置未图示的遮光膜。该遮光膜例如可以使用公知的黑色抗蚀剂来制作。 
在滤光片15上形成覆盖涂层16，在覆盖涂层16上以与摄像元件12(滤光片15)对应的方式形成有微透镜17。 
另外，第1主面侧的摄像元件部的周边设置有周边电路(未图示)以及内部电极26，内部电极26经由周边电路而与摄像元件12电性连接。 
进而，在内部电极26上，经由层间绝缘膜13而形成有元件面电极27。在内部电极26与元件面电极27间的层间绝缘膜13内，形成有将这些电极间电性连接的接触插塞(未图示)。元件面电极27是经由接触插塞、内部电极 26而用于施加电压以及读出信号等。 
在元件面电极27上形成有基础层14。在基础层14上形成有覆盖涂层16。形成于元件面电极27上的基础层14以及覆盖涂层16被开口，形成衬垫开口部，使得元件面电极27的一部分露出。 
以上为固体摄像元件基板100的第1主面侧的构成。 
在固体摄像元件基板100的第1主面侧，在摄像元件部的周边设置有粘着剂20，经由该粘着剂20，固体摄像元件基板100与玻璃基板30粘着。 
另外，硅基板10具有贯通该硅基板10的贯通孔，在贯通孔内具备作为金属电极23的一部分的贯通电极。通过该贯通电极，摄像元件部与电路基板70电性连接。 
然后，以固体摄像元件基板100的第2主面侧的构成为中心进行说明。 
在该第2主面侧，从第2主面上起遍及贯通孔的内壁而形成有绝缘膜22。 
在绝缘膜22上，设置有金属电极23，该金属电极23是以从硅基板10的第2主面上的区域到达贯通孔的内部的方式经图案化。金属电极23是固体摄像元件基板100中的摄像元件部与电路基板70的连接用电极。 
所述贯通电极是该金属电极23中形成于贯通孔的内部的部分。贯通电极是贯通硅基板10以及层间绝缘膜的一部分而到达内部电极26的下侧，与该内部电极26电性连接。 
进而，在第2主面侧设置有阻焊层24(保护绝缘膜)，该阻焊层24覆盖形成有金属电极23的第2主面上，且具有露出该金属电极23上的一部分的开口部。 
在露出的金属电极23上设置有作为连接构件的焊球60，经由该焊球60，固体摄像元件基板100的金属电极23、与电路基板70的未图示的连接用电极电性连接。 
以上，已对固体摄像元件基板100的构成进行说明，固体摄像元件基板100中遮光膜18以外的各部分可利用日本专利特开2009-158863号公报中段落0033～0068中记载的方法、或日本专利特开2009-99591号公报中段落0036～0065中记载的方法等公知的方法来形成。 
遮光膜18可以利用所述本发明的遮光膜的制造方法来形成。 
层间绝缘膜13例如是通过溅射或化学气相沉积(Chemical vapor  deposition，CVD)等来形成SiO2膜或者SiN膜。 
滤光片15(15R、15G、15B)例如是使用公知的彩色抗蚀剂，利用光刻法来形成。 
覆盖涂层16以及基础层14例如是使用公知的有机层间膜形成用抗蚀剂，利用光刻法来形成。 
微透镜17例如是使用苯乙烯类树脂等，利用光刻法等来形成。 
阻焊层24例如是使用包含苯酚类树脂、或聚酰亚胺类树脂、胺类树脂的公知阻焊剂，利用光刻法来形成。 
焊球60例如是使用Sn-Ag、Sn-Cu、Sn-Ag-Cu等作为Sn-Pb(共晶)、95Pb-Sn(高铅高熔点焊料)、无Pb焊料来形成。焊球60形成为例如直径100μm～1000μm(优选为直径150μm～700μm)的球状。 
内部电极26以及元件面电极27例如是通过化学机械研磨(Chemical Mechanical Polishing，CMP)、或者光刻法以及蚀刻，来形成Cu等的金属电极。 
金属电极23例如是通过溅射、光刻法、蚀刻及电镀，来形成Cu、Au、Al、Ni、W、Pt、Mo、Cu化合物、W化合物、Mo化合物等的金属电极。金属电极23可以是单层构成，也可以是包含2层以上的积层构成。 
金属电极23的膜厚例如设为0.1μm～20μm(优选为0.1μm～10μm)。 
硅基板10并无特别限定，可以使用通过研削基板背面而变薄的硅基板。基板的厚度并无限定，例如，使用厚度20μm～200μm(优选为30μm～150μm)的硅晶圆。 
硅基板10的贯通孔例如是通过光刻法及反应离子蚀刻(Reactive Ion Etching，RIE)来形成。 
以上，已参照图2及图3，对作为所述结构K的具体例的固体摄像元件基板100进行说明，但所述结构K并不限定于图2及图3的形态，只要是在背面侧具有金属电极及遮光膜的构成，则对其构成没有特别限定。 
[实例] 
以下，利用实例对本发明进行更具体的说明，但只要不超出本发明的主旨，则本发明并不限定于以下的实例。此外，只要没有特别说明，则“份”为质量基准。另外，“室温”是指25℃。 
(钛黑的制作) 
秤量100g的粒径为15nm的氧化钛MT-1 50A(商品名：Tayca(股)制造)、25g的BET表面积为300m2/g的二氧化硅粒子AEROPERL(注册商标)300/30(Evonik制造)、以及100g的Disperbyk190(商品名：BYK-Chemie公司制造)，添加71g的离子电气交换水，使用KURABO制造的MAZERSTAR KK-400W，以公转转速1360rpm、自转转速1047rpm来处理20分钟，由此获得均匀的混合物水溶液。然后将该水溶液填充于石英容器中，使用小型旋转窑(本山(Motoyama)股份有限公司制造)，在氧气环境中加热至920℃后，以氮气来置换环境气体，在同温度下将氨气以100mL/min流通5小时，由此实施氮化还原处理。结束后将回收的粉末在研钵中粉碎，获得粉末状的包含Si原子的钛黑A(被分散体)。 
另外，通过将制作钛黑A时使用的二氧化硅粒子AEROPERL分别设为12.5g、10g、5g，而分别获得钛黑B、钛黑C、钛黑X。 
(分散剂1的合成) 
向500mL三口烧瓶中导入600.0g的ε-己内酯、22.8g的2-乙基-1-己醇，一边吹入氮气一边搅拌溶解。然后添加0.1g的单丁基氧化锡，加热至100℃。8小时后，利用气相色谱法来确认原料消失，然后冷却至80℃。添加0.1g的2，6-二-叔丁基-4-甲基苯酚后，添加27.2g的异氰酸2-甲基丙烯酰氧基乙酯。5小时后，利用1H-核磁共振(nuclear magnetic resonance，1H-NMR)来确认原料消失，然后冷却至室温，获得200g固体状的前驱物M1[下述结构]。通过1H-NMR、IR、质谱法来确认为M1。 
[化21] 
将30.0g的所述前驱物M1、70.0g的NK酯CB-1(2-甲基丙烯酰氧基乙基邻苯二甲酸，新中村化学制造)、2.3g的十二烷基硫醇、233.3g的丙二醇单甲醚乙酸酯导入至经氮气置换的三口烧瓶中，利用搅拌机(新东科学(股)：Three-One Motor)进行搅拌，一边使氮气在烧瓶内流通一边加热而升温至75℃。然后向其中添加0.2g的2，2-偶氮双(2-甲基丙酸)二甲酯(和光纯药(股)制造的“V-601”)，在75℃下加热搅拌2小时。2小时后，进而添加0.2g的V-601，加热搅拌3小时后，获得下述分散剂1的30％溶液。 
[化22] 
分散剂1的组成比、酸值、以及重量平均分子量(Mw)如以下所述。此外，重量平均分子量是利用凝胶渗透色谱法(GPC)进行测定，以聚苯乙烯换算而算出的值。GPC是使用HLC-8020GPC(东曹(Tosoh)(股)制造)，将管柱设为TSKgel SuperHZM-H、TSKgel SuperHZ4000、TSKgel SuperHZ200(东曹公司制造)进行测定。 
··组成比：x＝35(质量％)、y＝65(质量％) 
··酸值：80mgKOH/g 
··Mw：30,000 
[实例1～实例3、比较例1～比较例3] 
1.钛黑分散组成物的制备 
将下述组成1所示的成分，使用搅拌机(IKA公司制造的EUROSTAR)来混合15分钟，获得分散物a。 
(组成1) 
··(a-1)被分散体：以所述方式制作的钛黑A  25份 
··(a-2)分散剂：分散剂1的30％溶液        25份 
··(a-3)有机溶剂：丙二醇单甲醚乙酸酯     50份 
对所得的分散物a，使用寿工业(股)制造的Ultra Apex Mill UAM015，以下述条件进行分散处理，获得实例1的用于形成遮光膜的钛黑分散组成物A(颜料分散物)。 
(分散条件) 
··珠粒直径： 
··珠粒填充率：75体积％ 
··研磨周速：8m/sec 
··分散处理的混合液量：500g 
··循环流量(泵供给量)：13kg/hour 
··处理液温度：25℃～30℃ 
··冷却水：自来水 
··珠磨机环状通道内容积：0.15L 
··通过次数：90次 
除了将制备钛黑分散组成物A时使用的钛黑A改为钛黑B、钛黑C、钛黑X、三菱材料制造的钛黑“13M-T(商品名)”以外，以与钛黑分散组成物A相同的方式，获得实例2、实例3以及比较例1～比较例2的钛黑分散液B、钛黑分散液C、钛黑分散液X、钛黑分散液Y。 
1.黑色感放射线性组成物的制备 
(粘合剂溶液1的制备) 
向1,000mL三口烧瓶中加入159g的1-甲氧基-2-丙醇，在氮气流下加热 至85℃。然后向其中，花2小时滴下将63.4g的甲基丙烯酸苄酯、72.3g的甲基丙烯酸、4.15g的V-601(和光纯药制造)添加于159g的1-甲氧基-2-丙醇中而制备的溶液。滴下结束后，进而加热5小时而使其反应。 
接着，停止加热，获得包含甲基丙烯酸苄酯/甲基丙烯酸(30mol/70mol比)的共聚物的溶液。 
然后，将所得共聚物溶液中的120.0g转移至300mL三口烧瓶中，添加16.6g的甲基丙烯酸环氧丙酯、0.16g的对甲氧基苯酚，进行搅拌使其溶解。溶解后，添加3.0g的三苯基膦，加热至100℃，进行加成反应。利用气相色谱法来确认甲基丙烯酸环氧丙酯消失，停止加热。然后向反应液中添加184g的1-甲氧基-2-丙醇，来制备重量平均分子量为12,000(利用GPC法求出的聚苯乙烯换算值)、酸值为35mgKOH/g、固体成分为30质量％的粘合剂溶液1。 
(黑色感放射线性组成物A的制备) 
将下述组成2的成分利用搅拌机进行混合，利用过滤器进行过滤，来制备实例1的黑色感放射线性组成物A。 
(组成2) 
··(A)钛黑分散组成物A                        50份 
··(F-1)碱可溶性树脂：粘合剂溶液1            17.0份 
··(B)聚合性化合物：KAYARAD DPHA(日本化药(股)制造) 
                                              5.0份 
··(C)聚合引发剂：IRGACURE OXE02(BASF公司制造) 
                                              2.5份 
··(F-4)聚合抑制剂：对甲氧基苯酚             0.003份 
··(F-6)表面活性剂：Megafac F781(氟类表面活性剂， 
大日本油墨化学工业(股)制造)                   0.01份 
··有机溶剂：丙二醇单甲醚乙酸酯              10份 
··有机溶剂：环己酮                          10份 
(黑色感放射线性组成物B、黑色感放射线性组成物C、黑色感放射线性组成物X、黑色感放射线性组成物Y的制备) 
在黑色感放射线性组成物A的制备中，除了将组成2所示的成分中的钛黑分散物A分别变更为钛黑分散物B、钛黑分散物C、钛黑分散物X、钛黑 分散物Y以外，以与黑色感放射线性组成物A相同的方式，制备实例2、实例3以及比较例1～比较例3的黑色硬化性组成物B、黑色硬化性组成物C、黑色硬化性组成物X、黑色硬化性组成物Y。 
此外，黑色感放射线性组成物A、黑色感放射线性组成物B、黑色感放射线性组成物C、黑色感放射线性组成物X及黑色感放射线性组成物Y的粘度分别为6.1mPa··s(A)、6.5mPa··s(B)、6.3mPa··s(C)、7.0mPa··s(X)、6.6mPa··s(Y)。 
-黑色感放射线性组成物的评价- 
对所述获得的各黑色感放射线性组成物，评价被分散体的Si/Ti比、被分散体的粒径。 
<Si/Ti比> 
将从所得黑色感放射线性组成物A、黑色感放射线性组成物B、黑色感放射线性组成物C、黑色感放射线性组成物X、黑色感放射线性组成物Y中分取出的测定用试料，载置于市售的石英舟上，使用电炉在100mL/min的氧气流下，在500℃加热处理60分钟。对于通过加热处理而获得的粉体，使用S-4800(商品名，(股)日立科技(Hitachi Technologies)制造)、以及INCA Energy PentaFETx3(Oxford公司制造)来求出Si原子量、Ti原子量，算出Si/Ti比。 
其结果为，将各黑色感放射线性组成物中的被分散体中的Si/Ti比的结果示于以下的表1中。 
<被分散体的粒径> 
将黑色感放射线性组成物A、黑色感放射线性组成物B、黑色感放射线性组成物C、黑色感放射线性组成物X、黑色感放射线性组成物Y，使用丙二醇单甲醚乙酸酯作为溶剂来稀释至100倍，将其滴下至碳箔上，进行干燥，然后对其利用透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope，TEM)进行观察，由此来测定被分散体的平均粒径。 
其结果为，将各黑色感放射线性组成物中所含的被分散体的粒径、以及15nm以上30nm以下的粒子比例示于以下的表1中。 
[表1] 
  黑色组成物   被分散体的平均粒径   15nm以上30nm以下的粒子比例   Si/Ti比
  A   20nm   98％   0.27
  B   21nm   96％   0.41
  C   21nm   95％   0.20
  X   32nm   88％   0.18
  Y   75nm   70％   0
(遮光膜形成用涂布液1) 
将刚制备成溶液后的黑色组成物A加入至喷雾涂布装置的溶液杯中，制备遮光膜形成用涂布液，在以下的涂布及加热条件下对玻璃基板进行涂布，形成遮光膜1(实例1的遮光膜)。 
喷雾涂布装置：GSI CREOS制造的PS-268 
喷雾涂布空气压条件：3000cc/分钟 
涂布量：0.2cc/分钟 
喷嘴直径：0.4mm 
喷雾的喷出口与玻璃基板涂布面配置成垂直的方向。 
喷雾的喷出口与玻璃基板的距离：3cm 
喷雾的喷洒角度*：90度 
(*从喷出口喷出的喷雾方向与对于玻璃基板的法线之间的角度) 
实施喷雾涂布直至涂布部分的平均膜厚达到2.5μm为止，涂布后利用加热板在120℃加热2分钟。 
除了将制备遮光膜形成用涂布液1时使用的黑色组成物A分别变更为黑色组成物B、黑色组成物C、黑色组成物X、黑色组成物Y以外，以与所述相同的方式制作实例2、实例3、比较例1、比较例2的遮光膜。 
(比较例3的遮光膜的制作) 
将所述获得的黑色组成物B，在基板上以涂布膜厚达到2.5μm的方式进行旋转涂布，利用加热板以120℃加热2分钟，获得遮光膜(比较例3)。 
此外，利用旋转涂布法形成的比较例3的遮光膜的表面粗糙度为 
(喷雾涂布的孔堵塞评价) 
对于黑色组成物A、黑色组成物B、黑色组成物C、黑色组成物X及黑色组成物Y，在以下条件下进行喷雾涂布，来评价孔堵塞。 
喷雾涂布装置：GSI CREOS制造的PS-268 
在所述喷雾涂布装置的溶液杯中放入所评价的黑色组成物，在25℃下放置96小时后，利用所述喷雾涂布装置，在以下条件下进行涂布，来评价是否产生孔堵塞。 
喷雾涂布空气压条件：3000cc/分钟 
涂布量：0.2cc/分钟 
喷嘴直径：0.4mm 
(表面反射率的测定) 
将各样品，利用日立先端科技(Hitachi High-Technologies)制造的分光光度计U-4100，以波长450nm来测定表面反射率(入射角度为5度)，以％测定反射率。 
特别是在固体摄像元件用途的情况下，若为4％以下的表面反射率，则判断为具有实用性。 
将实例1、实例2、实例3、比较例1、比较例2及比较例3的遮光膜形成时的孔堵塞评价结果与所形成的遮光膜的表面反射率示于以下。 
(遮光性) 
对各样品，利用Hitachi High-Technologies制造的分光光度计U-4100，测定波长550nm下的透射率，作为遮光率的指标。 
[表2] 
根据表2的结果可知，本发明的遮光膜的喷雾涂布适应性良好，抗反射能力优异。另一方面可知，即便使用相同的黑色感放射线性组成物，利用旋 转涂布法形成的遮光膜的抗反射能力也没有达到实用上的水平。 
此外，利用旋转涂布法形成的比较例3的遮光膜如上所述，表面粗糙度为 ，在本发明的优选范围外。因此可知，与利用喷雾涂布法形成的实例的遮光膜相比较，抗反射能力差。 
[实例4～实例8] 
在所述实例2中，除了调整喷雾涂布装置的喷出口形状，将喷雾的喷洒角度分别变更为20°、35°、62°、118°、152°以外，以相同的方式制作涂布膜，分别作为实例4、实例5、实例6、实例7、实例8，测定表面反射率。将其结果与实例2一起示于下述表3中。此外，将喷雾的喷洒角度设为20度的实例4的涂膜的表面粗糙度为 
[表3] 
如表3所明示，可知，在相对于喷雾喷嘴的喷出口而为20度以上160度以下的范围内，均可进行均匀涂布，形成表面反射率优异的遮光膜。此外，喷雾角度为35°时，确认到若干的涂布不均。由此可知喷雾角度优选为40度～120度。 
[实例9～实例13] 
在实例2中，将喷雾涂布装置的喷出口与玻璃基板的距离分别变更为10cm、5cm、4cm、2cm、1cm，来制作表面粗糙度Ra不同的样品，且分别作为实例9、实例10、实例11、实例12、实例13。 
此处，表面粗糙度Ra是使用ULVAC制造的Dektak 6M(接触式表面形状测定器)进行测定而得。 
将表面粗糙度Ra的测定结果及表面反射率与实例2一起示于下述表4中。 
[表4] 
如表4所示，可知本发明的遮光膜的表面粗糙度为 以上 以下，是优选的表面反射率。 

Claims (16)

1.一种固体摄像元件用遮光膜，所述固体摄像元件在至少一面具有具备受光元件的摄像元件部，且具有在具备该摄像元件部的面上立起的立起壁；其中，
所述固体摄像元件用遮光膜是将感放射线性组成物喷雾涂布至基板的具备受光元件的面、及在该具备受光元件的面上立起的立起壁的表面而形成，所述遮光膜的表面粗糙度(Ra)为以上以下，所述感放射线性组成物含有：(A)颜料分散物，含有包含黑色颜料的被分散体、分散剂及有机溶剂，且该被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径；(B)聚合性化合物；以及(C)聚合引发剂。
2.根据权利要求1所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述遮光膜的膜厚为0.3μm～5.0μm。
3.根据权利要求1所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述感放射线性组成物的25℃下的粘度为2mPa·s以上50mPa·s以下。
4.根据权利要求1所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述遮光膜的表面粗糙度(Ra)为以上以下。
5.根据权利要求1所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述被分散体含有钛黑。
6.根据权利要求1所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述被分散体包含钛黑及Si原子，且该被分散体中的Si原子与Ti原子的含有比(Si/Ti)为0.20以上0.50以下。
7.根据权利要求1所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述(C)聚合引发剂为肟酯化合物。
8.根据权利要求1所述的固体摄像元件用遮光膜，其中所述(C)聚合引发剂为1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮1-(O-乙酰肟)。
9.一种固体摄像元件用遮光膜的制造方法，包括：
将感放射线性组成物喷雾涂布至固体摄像元件的硅基板与立起壁的表面，而形成感放射线性层的步骤，所述感放射线性组成物含有：(A)含有包含黑色颜料的被分散体的颜料分散物；(B)聚合性化合物；以及(C)聚合引发剂，所述被分散体的90％以上具有15nm以上30nm以下的粒径，且所述感放射线性组成物的25℃下的粘度为2mPa·s以上15mPa·s以下，所述固体摄像元件在至少一面具有具备受光元件的摄像元件部，且具有在具备该摄像元件部的面上立起的立起壁；以及
将所述感放射线性层进行曝光的步骤，
所述喷雾涂布的喷洒角度相对于喷雾喷嘴的喷出口而为20°以上160°以下。
10.根据权利要求9所述的固体摄像元件用遮光膜的制造方法，其中所述喷雾涂布的喷洒角度相对于喷雾喷嘴的喷出口而为40°以上120°以下。
11.根据权利要求9所述的固体摄像元件用遮光膜的制造方法，其中所述遮光膜的表面粗糙度(Ra)为以上以下。
12.根据权利要求9所述的固体摄像元件用遮光膜的制造方法，其中所述(C)聚合引发剂为肟酯化合物。
13.根据权利要求9所述的固体摄像元件用遮光膜的制造方法，其中所述(C)聚合引发剂为1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]乙酮1-(O-乙酰肟)。
14.根据权利要求9所述的固体摄像元件用遮光膜的制造方法，其中所述将所述感放射线性层进行曝光的步骤是将所述感放射线性层曝光成图案状的步骤，并且更包括在曝光后进行显影的步骤。
15.一种固体摄像元件，在至少一面具有具备受光元件的摄像元件部，且具有在具备该摄像元件部的面上立起的立起壁，其中在所述固体摄像元件的硅基板及立起壁的表面，具有根据权利要求1所述的固体摄像元件用遮光膜。
16.根据权利要求15所述的固体摄像元件，其包括：
硅基板，在至少一面具有具备受光元件的摄像元件部，且具有在具备该摄像元件部的面上立起的立起壁；
如权利要求1至8中任一项所述的遮光膜，设置在所述硅基板的设置有所述摄像元件部的面上，且是以所述摄像元件部的至少一部分露出的方式而被图案化；以及
如权利要求1至8中任一项所述的遮光膜，设置在具备该摄像元件部的面的立起来的立起壁表面。
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