CN102627917A - 玻璃以及含硅化合物抛光加速剂及其生产方法、应用 - Google Patents

玻璃以及含硅化合物抛光加速剂及其生产方法、应用 Download PDF

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Abstract

玻璃以及含硅化合物抛光加速剂及其生产方法，其特征在于：包含有分子量在100-20000的占加速剂总重量的0.001％～50％的硅酸盐聚合物，分子量在500-20000的含有多于一个极性官能团的聚合物或含有不同极性官能团单体的共聚物占加速剂总重量的0.001％～20％，将上述各组分依次放入水中形成混悬液，并调pH为5～12；将混合悬浮液升温至20～90℃，保温0.1～6小时后降温至10～25℃。该加速剂生产反法简单，产品分散稳定性好、抛光效率高、降低对稀有的稀土抛光粉的用量，同时降低了环境污染。

Description

玻璃以及含硅化合物抛光加速剂及其生产方法、应用
技术领域
本发明涉及一种用于对玻璃以及含硅化合物进行抛光的抛光加速剂及生产方法以及在玻璃以及含硅化合物抛光过程的应用。
背景技术
当前玻璃以及含硅化合物抛光主要以大颗粒稀土氧化物粉做抛光摩擦剂，总体抛光速率低，分散稳定性差，容易导致严重的表面划伤，还存在平化抛光效率低等缺陷。长时间抛光往往大大降低抛光效率，造成抛光机的迅速磨损，生产效率低，以及大量的耗材消费。同时，现在抛光工艺所用抛光粉固含量高，难于清洗，固体废料量大，对环境污染与处理造成很大负担。
发明内容
本发明的第一个目的是提供一种玻璃以及含硅化合物抛光加速剂，该加速剂分散稳定性好、抛光效率高、降低对稀有的稀土抛光粉的用量，同时降低了环境污染。
采用的技术方案是：
玻璃以及含硅化合物抛光加速剂，包含有分子量在100-20000的硅酸盐聚合物，分子量在500-20000至少含有多于一个羧基的聚合物或含有除羧基以外的其他极性官能团单体的共聚物，pH值为5～12。
硅酸盐聚合物占是加速剂总重量的0.001％～50％，分子量在500-20000的含有多于一个极性官能团的聚合物或含有不同极性官能团单体的共聚物占加速剂总重量的0.001％～20％。
含有多于一个羧基的聚合物或含有除羧基以外的其他极性官能团单体的共聚物，为聚丙烯酸、聚丙烯酸盐，聚马来酸，聚马来酸共聚物，聚马来酸盐，聚合磺酸、聚合磺酸盐，聚合磷酸、聚合磷酸盐，聚合胺以及酰胺化合物，聚合氨基酸中的至少一种。
本发明抛光加速剂悬浮性强，不宜沉积，分散稳定性好，在玻璃以及含硅化合物抛光时，抛光效果稳定，切削率高，抛光粉用量少，表面缺陷低，抛光无划痕，可有效提高平化抛光效率，且不易造成对抛光机的损伤。
本发明的第二个目的是提供上述抛光加速剂的制备方法。
采用的技术方案为：
1)将含有多于一个羧基的聚合物或含有除羧基以外的其他极性官能团单体的共聚物，加入水中，彻底溶解，搅拌均匀；
2)将硅酸盐聚合物分散在步骤1)中得到的水溶液中，制成硅酸盐聚合物悬浮液；
3)用酸或碱调整混合悬浮液的pH为5～12；
4)将混合悬浮液升温至20～90℃，保温0.1～6小时后降温至10～25℃。
其中步骤1)中含有多于一个极性官能团的聚合物或含有不同极性官能团单体的共聚物与水的质量比为1∶0.1～20。
步骤2)硅酸盐聚合物中与水的质量比为1∶3～50。
整个制备工艺简单、易于操作，方便生产，生产效率高，产品质量稳定。
通过上述工艺制备的玻璃以及含硅化合物抛光加速剂与抛光粉按1∶5～1∶20比例在适当的溶剂中混合，可以广泛应用于玻璃以及含硅化合物的研磨抛光。
其中抛光粉为含铈稀土氧化物，含铈稀土氢氧化物，含铈混合稀土氢氧化物，氧化铝，氢氧化铝，氧化锆，氢氧化锆，钻石粉中的至少一种。
适当的溶剂是水。
本发明的有益效果：本发明中的加速剂分散均匀、稳定，整个制备工艺简单、易于操作，方便生产，生产效率高，产品质量稳定。同时本发明加速剂中不含有稀土氧化剂，使用时则通过加入小粒径的非稀土氧化物如氧化铝等或少量稀土氧化物抛光粉形成抛光液从而对玻璃或含硅化合物进行抛光，这样大大减少了被抛光物品的表面划伤，降低抛光机的磨损，延长了抛光机的使用寿命。且配制抛光液时抛光粉用量少，易清洁，还减少了对环境的污染。
具体实施方式
以下结合具体实施例对本发明做进一步详细说明。
实施例一：
制备方法：
称取100克聚丙烯酸(分子量10000)，400克聚丙烷醇醚，加入5000克水中，搅拌均匀。再加入2000克摩尔比2.1的水玻璃Na2O.nSiO2，搅匀。再加入300克癸烷聚环氧乙烷磷酸酯，采用磷酸调节pH值至12。
将以上混合悬浮液温度升至40℃，保温6小时后降温至25℃，再采用磷酸将pH调到8。
应用实例：
1)、在4500克水中加入250克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入250克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光液，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.01微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
2)、在4250克水中加入375克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入375克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光液，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.23微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
3)、在4125克水中加入375克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入500克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光液，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.20微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
比较实验：500克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉加入4500克水中，搅匀。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.00微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
实施例二：
制备方法：
称取200克聚乙胺(分子量10000)，500克烷基醚醇，加入5000克水中，搅拌均匀。再加入3000克摩尔比2.1的K2O.nSiO2，搅匀。再加入300克癸烷聚环氧乙烷磷酸酯，采用磷酸调节pH值至9。
将以上混合悬浮液温度升至60℃，保温2小时后降温至25℃，再采用磷酸将pH调到12。
应用实例：
1)、在4500克水中加入250克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入250克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光液，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.05微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
2)、在4250克水中加入375克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入375克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光液，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.19微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
3)、在4125克水中加入375克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入500克市场上购买的天骄清美混合稀土抛光粉，搅匀，形成抛光液，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为1.26微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
实施例三：
制备方法：
称取200克聚马来酸(分子量20000)，加入5000克水中，搅拌均匀。再加入3000克摩尔比2.1的水玻璃Na2O.nSiO2，搅匀。再加入300克癸烷聚环氧乙烷磷酸酯，采用磷酸调节pH值至10。
将以上混合悬浮液温度升至90℃，保温1小时后降温至25℃，再采用磷酸将pH调到8。
应用实例：
1)、在4500克水中加入500克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入500克市场上购买的氧化锆(粒径1.5微米)，搅匀，形成抛光液，pH调到9.3，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为0.73微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
2)、在4500克水中加入500克按上面配方与合成工艺制备的抛光加速剂，搅匀。再加入500克自制的α-氧化铝(粒径0.8微米)，搅匀，形成抛光液，pH值用氢氧化钠调到12，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为0.53微米/分钟，玻璃表面无划痕，抛光机无损伤。
下面是没有加本发明中加速剂的抛光液的抛光效果：
1)在4500克水中加入500克市场上购买的氧化锆，形成抛光液，其粒径为1.5微米，搅匀，pH值用氢氧化钠调到9.3，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为0.40微米/分钟，玻璃表面有划痕，抛光机无损伤。
2)、在4500克水中加入500克市场上购买的氧化铝(粒径0.8微米)，搅匀，形成抛光液，pH值用氢氧化钠调到12，既可使用。
将所制样品在Logitech CDP单面抛光机上抛光。下压：1psi，下盘以及载盘转速50RPM，抛光液流速：100ml/分钟。该系列抛光液抛光速率分别为0.10微米/分钟，玻璃表面有划痕，抛光机无损伤。

Claims (9)

1.玻璃以及含硅化合物抛光加速剂，其特征在于：包含有分子量在100-20000的硅酸盐聚合物，分子量在500-20000的含有多于一个羧基的聚合物或含有除羧基以外的其他极性官能团单体的共聚物，pH值为5～12。
2.根据权利要求1所述玻璃以及含硅化合物抛光加速剂，其特征在于：硅酸盐聚合物占加速剂总重量的0.001％～50％，分子量在500-20000的含有多于一个极性官能团的聚合物或含有不同极性官能团单体的共聚物占加速剂总重量的0.001％～20％。
3.根据权利要求1所述的玻璃以及含硅化合物抛光加速剂，其特征在于：分子量在500-20000的含有多于一个极性官能团的聚合物或含有不同极性官能团单体的共聚物包括：聚丙烯酸、聚丙烯酸盐，聚马来酸、聚马来酸共聚物、聚马来酸盐，聚合磺酸、聚合磺酸盐，聚合磷酸、聚合磷酸盐，聚合胺以及酰胺化合物，聚合氨基酸中的至少一种。
4.一种如权利要求1至3中任一所述玻璃以及含硅化合物抛光加速剂的生产方法，其特征在于：包括以下步骤：
1)将多官能团聚合物，加入水中，彻底溶解，搅拌均匀；
2)将硅酸盐聚合物分散在步骤1)中得到的水溶液中，制成硅酸盐聚合物悬浮液；
3)用酸或碱调整混合悬浮液的pH为5～12；
4)将混合悬浮液升温至20～90℃，保温0.1～6小时后降温至10～25℃。
5.根据权利要求4所述玻璃以及含硅化合物抛光加速剂的生产方法，其特征在于：步骤1)中分子量在500-20000的含有多于一个极性官能团的聚合物或含有不同极性官能团单体的共聚物与水的质量比为1∶0.1～20。
6.根据权利要求4所述玻璃以及含硅化合物抛光加速剂的生产方法，其特征在于：步骤2)中硅酸盐聚合物与水的质量比为1∶3～50。
7.权利要求1至3中任一所述的抛光加速剂与抛光粉按1∶5～1∶20的质量比在适当的溶剂中混合后在玻璃以及含硅化合物研磨抛光中的应用。
8.根据权利要求7中所述的加速剂的应用，其特征在于：抛光粉为含铈稀土氧化物，含铈稀土氢氧化物，含铈混合稀土氢氧化物，氧化铝，氢氧化铝，氧化锆，氢氧化锆，钻石粉中的至少一种。
9.根据权利要求7中所述加速剂的应用，其特征在于：适当的溶剂是水。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106883768A (zh) * 2017-04-20 2017-06-23 宁波日晟新材料有限公司 微酸性条件下的碱性玻璃抛光液以及应用

Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06225187A (ja) * 1993-01-25 1994-08-12 Sony Corp 撮像装置
US5366542A (en) * 1990-08-29 1994-11-22 Fujimi Incorporated Polishing composition
EP1150341A1 (en) * 1998-12-28 2001-10-31 Hitachi Chemical Company, Ltd. Materials for polishing liquid for metal, polishing liquid for metal, method for preparation thereof and polishing method using the same
WO2004101695A1 (en) * 2003-05-15 2004-11-25 Showa Denko K.K. Polishing composition and polishing method
CN1919950A (zh) * 2006-08-23 2007-02-28 孙韬 高精度抛光液及其生产方法、用途
US20080160881A1 (en) * 2001-06-21 2008-07-03 Shigeo Fujii Polishing composition
CN101544871A (zh) * 2009-04-22 2009-09-30 孙韬 高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法
CN102358825A (zh) * 2011-08-05 2012-02-22 清华大学 一种用于蓝宝石晶片的抛光组合物

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5366542A (en) * 1990-08-29 1994-11-22 Fujimi Incorporated Polishing composition
JPH06225187A (ja) * 1993-01-25 1994-08-12 Sony Corp 撮像装置
EP1150341A1 (en) * 1998-12-28 2001-10-31 Hitachi Chemical Company, Ltd. Materials for polishing liquid for metal, polishing liquid for metal, method for preparation thereof and polishing method using the same
US20080160881A1 (en) * 2001-06-21 2008-07-03 Shigeo Fujii Polishing composition
WO2004101695A1 (en) * 2003-05-15 2004-11-25 Showa Denko K.K. Polishing composition and polishing method
CN1919950A (zh) * 2006-08-23 2007-02-28 孙韬 高精度抛光液及其生产方法、用途
CN101544871A (zh) * 2009-04-22 2009-09-30 孙韬 高效无划伤玻璃抛光液及其生产方法
CN102358825A (zh) * 2011-08-05 2012-02-22 清华大学 一种用于蓝宝石晶片的抛光组合物

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106883768A (zh) * 2017-04-20 2017-06-23 宁波日晟新材料有限公司 微酸性条件下的碱性玻璃抛光液以及应用

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