CN102588599A - 一种反应釜密封装置 - Google Patents

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刘光华
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SUZHOU FUMAI PRECISION MACHINERY CO Ltd
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SUZHOU FUMAI PRECISION MACHINERY CO Ltd
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Abstract

本发明公开了一种反应釜密封装置,包括搅拌轴、轴套、密封圈和压紧套,所述搅拌轴上设有轴套,所述搅拌轴和轴套间设有密封圈,所述轴套外设有夹紧套,所述夹紧套的端面半径向夹紧套的中部半径逐渐变大;所述夹紧套上设有开口;所述夹紧套外设有两圆盘;所述两圆盘通过紧固件相连接;所述紧固件环形阵列的设置有四个;本发明的反应釜密封装置,旋紧紧固件,两圆盘的间的距离就会减少,夹紧套就会被压紧,夹紧套的开口就会变小,达到夹紧轴套的目的,进而达到紧固密封圈的作用,大大增加了密封效果,防止了泄漏现象的发生,保护了环境,节能、降耗,降低了安全隐患发生的概率。

Description

一种反应釜密封装置
技术领域
本发明涉及一种反应釜,尤其涉及的是一种反应釜密封装置。
背景技术
我国把石油、化工业放到支柱产业的重要战略位置,这样在给我国化工设备制造业带来极大发展机遇的同时,更期待着化工设备也能够提供适应安全、环保。节能和新的工艺技术要求的设备。反应釜是化工设备中使用最为广泛的一种,其中反应釜密封装置是解决工业化生产中跑、冒、滴、漏现象的重要措施之一,也是从源头上解决安全、环保、节能、降耗,确保员工健康的重要环节。现有的反应釜密封装置,包括搅拌轴1、轴套2、密封圈3和压紧套4,所述搅拌轴1上设有轴套2,所述搅拌轴1和轴套2间设有密封圈3,所述密封圈3外设有压紧套4,所述压紧套4通过固定螺钉5固定在搅拌轴1上。这样的反应釜密封装置对密封圈3的夹紧效果差,导致密封效果差,搅拌轴1和轴套2间极易发生泄漏,污染了环境,增加了能耗,造成了安全隐患。
发明内容
针对上述存在的技术问题,本发明的目的是:提出了一种密封效果好,不易发生泄漏的反应釜密封装置。 
本发明的技术解决方案是这样实现的:一种反应釜密封装置,包括搅拌轴、轴套、密封圈和压紧套,所述搅拌轴上设有轴套,所述搅拌轴和轴套间设有密封圈,所述轴套外设有夹紧套,所述夹紧套的端面半径向夹紧套的中部半径逐渐变大;所述夹紧套上设有开口;所述夹紧套外设有两圆盘;所述两圆盘通过紧固件相连接。
优选的,所述紧固件环形阵列的设置有四个。
优选的,所述紧固件为压紧螺钉。 
由于上述技术方案的运用,本发明与现有技术相比具有下列优点:
本发明的反应釜密封装置,由于夹紧套的端面半径向夹紧套的中部半径逐渐变大夹紧套上设有开口,夹紧套外设有两圆盘,两圆盘通过紧固件相连接,旋紧紧固件,两圆盘的间的距离就会减少,夹紧套就会被压紧,夹紧套的开口就会变小,达到夹紧轴套的目的,进而达到紧固密封圈的作用,大大增加了密封效果,防止了泄漏现象的发生,保护了环境,节能、降耗,降低了安全隐患发生的概率。
附图说明
下面结合附图对本发明技术方案作进一步说明:
附图1为现有技术的反应釜密封装置的结构示意图;
附图2为本发明的反应釜密封装置的结构示意图;
附图3为附图2的A-A剖视图;
其中:1、搅拌轴;2、轴套;3、密封圈;4、压紧套;5、固定螺钉;6、开口;7、圆盘;8、紧固件。  
具体实施方式
下面结合附图来说明本发明。
如附图2、3所示的本发明所述的一种反应釜密封装置,包括搅拌轴1、轴套2、密封圈3和压紧套4,所述搅拌轴1上设有轴套2,所述搅拌轴1和轴套2间设有密封圈3,所述轴套2外设有夹紧套4,所述夹紧套4的端面半径向夹紧套的中部半径逐渐变大;所述夹紧套4上设有开口6;所述夹紧套4外设有两圆盘7;所述两圆盘7通过环形阵列设置的四个紧固件8相连接;所述紧固件8为压紧螺钉。
安装时,旋紧紧固件8,两圆盘7的间的距离就会减少,夹紧套4就会被压紧,夹紧套4的开口6就会变小,达到夹紧轴套2的目的,进而达到紧固密封圈3的作用,大大增加了密封效果,防止了泄漏现象的发生,保护了环境,节能、降耗,降低了安全隐患发生的概率。
上述实施例只为说明本发明的技术构思及特点,其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本发明的内容并加以实施,并不能以此限制本发明的保护范围,凡根据本发明精神实质所作的等效变化或修饰,都应涵盖在本发明的保护范围内。

Claims (3)

1.一种反应釜密封装置,包括搅拌轴、轴套、密封圈和压紧套,所述搅拌轴上设有轴套,所述搅拌轴和轴套间设有密封圈,所述轴套外设有夹紧套,其特征在于:所述夹紧套的端面半径向夹紧套的中部半径逐渐变大;所述夹紧套上设有开口;所述夹紧套外设有两圆盘;所述两圆盘通过紧固件相连接。
2.根据权利要求1所述的反应釜密封装置,其特征在于:所述紧固件环形阵列的设置有四个。
3.根据权利要求1或2所述的反应釜密封装置,其特征在于:所述紧固件为压紧螺钉。
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PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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