CN102548186A - 一种对称压合结构hdi板及制作方法 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种对称压合结构HDI板及制作方法,包括:A、在芯板上侧压合第二铜箔层,下侧压合第五铜箔层;B、在第二铜箔层上激光钻孔,形成第二激光盲孔;在第五铜箔层上激光钻孔,形成第四激光盲孔;C、在第二铜箔层上压合第一铜箔层,在第五铜箔层上压合第六铜箔层;D、在第一铜箔层上激光钻孔,形成第一激光盲孔和第三激光盲孔,且第三激光盲孔与第二激光盲孔为叠孔;在第六铜箔层上激光钻孔,形成第五激光盲孔、第六激光盲孔,且第五激光盲孔与第四激光盲孔为叠孔。与现有技术相比,本发明改变了压合的叠层结构,由不对称压合转变为对称压合,第一次压合后由两张芯板换成一张芯板,在制作过程中板的涨缩容易控制,且对层偏也有很大的改善,并大幅度的降低了制作难度,缩短了生产周期。
Description
技术领域:
本发明属于线路板制作技术领域,具体涉及的是一种对称压合结构HDI板及制作方法。
背景技术:
HDI线路板也称高密度互联板,是使用微盲埋孔技术的一种线路分布密度比较高的电路板,其具有可降低多层PCB板的生产成本、增加线路密度、可靠度高、电性能好等优点。
目前HDI线路板的制作流程如图1所示,以六层激光钻孔HDI板为例,芯板107上下两侧设置有铜箔层101和102,芯板111上下两侧设置有铜箔层105和106,在铜箔层102和105上制作内层线路图形,进行内层蚀刻、AOI、棕化处理;接着在铜箔层102上贴半固化片116,在半固化片116上贴铜箔层103,进行压合,在铜箔层105上贴半固化片114,在半固化片114上贴铜箔层104,进行压合;之后在铜箔层101、芯板107及铜箔层103所压合形成的板上进行机械钻孔,形成机械盲孔110;在铜箔层106、芯板111及铜箔层104所压合形成的板上进行机械钻孔,形成机械盲孔112;然后对铜箔层103、104进行内层沉铜、板电,制作内层镀孔图形,在铜箔层103和铜箔层104上制作线路图形,并对其进行内层蚀刻、AOI、棕化处理。
之后在铜箔层103和铜箔层104之间贴半固化片115进行压合,然后钻激光定位孔,制作盲孔开窗图形,对盲孔进行开窗蚀刻和激光钻孔,形成激光盲孔108和激光盲孔113,然后进行外层沉铜、板电、镀孔图形、填孔电镀、砂带磨板处理及钻通孔109。
上述制作过程可知,采用这种制作方式需要压合两次,而且以半固化片115为分界的两侧压合结构不对称,在压合及砂带磨板时,由于板比较薄,容易出现磨坏板、折断板的现象,而且在制作时,板的涨缩难以控制,容易导致二次压合出现层偏。
发明内容:
为此,本发明的目的在于提供一种对称压合结构HDI板及制作方法,以解决现有HDI板制作时,因压合结构不对称,容易出现磨坏板、折断板以及板的涨缩难以控制,容易导致二次压合出现层偏的问题。
为实现上述目的,本发明主要采用以下技术方案:
一种对称压合结构HDI板,包括芯板(207),所述芯板(207)上、下两侧设置有第三铜箔层(203)和第四铜箔层(204),所述第三铜箔层(203)上贴合有第三半固化片(217),第三半固化片(217)上压合有第二铜箔层(202),第二铜箔层(202)上贴合有第四半固化片(218),第四半固化片(218)上压合有第一铜箔层(201),所述第一铜箔层(201)与第四半固化片(218)上设置有第一激光盲孔(208)和第三激光盲孔(211),所述第二铜箔层(202)与第三半固化片(217)上设置有第二激光盲孔(210),所述第二激光盲孔(210)与第三激光盲孔(211)处于同一位置,且形成叠孔;所述第四铜箔层(204)上贴合有第二半固化片(216),第二半固化片(216)上压合有第五铜箔层(205),第五铜箔层(205)上贴合有第一半固化片(215),所述第一半固化片(215)上压合有第六铜箔层(206),所述第六铜箔层(206)及第一半固化片(215)上设置有第五激光盲孔(213)、第六激光盲孔(214),第五铜箔层(205)与第二半固化片(216)上设置有第四激光盲孔(212),所述第四激光盲孔(212)与第五激光盲孔(213)处于同一位置,且形成叠孔。
其中该HDI板上还设置有一通孔(209),该通孔(209)穿过第一铜箔层(201)贯穿第四半固化片(218)、第二铜箔层(202)、第三半固化片(217)、第三铜箔层(203)、芯板(207)、第四铜箔层(204)、第二半固化片(216)、第五铜箔层(205)、第一半固化片(215)和第六铜箔层(206)。
另外本发明还提供了一种对称压合结构HDI板制作方法,其中包括步骤:
A、在芯板上侧压合第二铜箔层,下侧压合第五铜箔层;
B、在第二铜箔层上激光钻孔,形成第二激光盲孔;在第五铜箔层上激光钻孔,形成第四激光盲孔;
C、在第二铜箔层上压合第一铜箔层,在第五铜箔层上压合第六铜箔层;
D、在第一铜箔层上激光钻孔,形成第一激光盲孔和第三激光盲孔,且第三激光盲孔与第二激光盲孔为叠孔;在第六铜箔层上激光钻孔,形成第五激光盲孔、第六激光盲孔,且第五激光盲孔与第四激光盲孔为叠孔。
其中步骤A具体包括:
A1、对芯板的上下两侧的第三铜箔层和第四铜箔层进行内层图形制作;
A2、对上述第三铜箔层和第四铜箔层进行内层蚀刻和内层检测;
A3、对上述第三铜箔层和第四铜箔层进行棕化处理,形成棕化膜;
A4、在第三铜箔层上贴第三半固化片,在第四铜箔层上贴第二半固化片;
A5、在第三半固化片上覆盖第二铜箔层,在第二半固化片上覆盖第五铜箔层,并进行压合。
其中步骤A与步骤B之间还包括:
对第二铜箔层和第五铜箔层进行棕化处理,形成棕化膜,通过该棕化膜增加激光钻孔时的吸光率,便于后续激光钻孔。
其中步骤B与步骤C之间还包括:
激光钻孔后对第二铜箔层和第五铜箔层进行内层沉铜、板电处理,制作第二铜箔层、第三铜箔层、第四铜箔层及第五铜箔层内层镀孔图形,并对形成的激光盲孔进行填孔电镀,然后通过磨板机对第二铜箔层、第五铜箔层进行砂带磨板;之后制作第二铜箔层、第五铜箔层的内层线路图形,进行内层蚀刻和内层检测。
其中步骤C具体包括:
C1、在第二铜箔层上贴合第四半固化片,在第四半固化片上覆盖第一铜箔层,进行层压;
C2、在第五铜箔层贴合第一半固化片,在第一半固化片覆盖第六铜箔层,进行层压;
C3、对第一铜箔层、第六铜箔层进行棕化,形成棕化膜,通过该棕化膜增加激光钻孔时的吸光率,便于后续激光钻孔。
其中步骤D之后还包括:
步骤E、对第一铜箔层、第六铜箔层进行沉铜、板电处理,制作第一激光盲孔、第三激光盲孔、第五激光盲孔和第六激光盲孔的盲孔镀孔图形,然后进行填孔电镀,之后通过磨板机进行砂带磨板,最后进行外层钻通孔。
本发明通过在一块芯板的两侧采用双向增层的压合方式,实现了压合的结构对称,避免了现有HDI板制作时,因压合结构不对称,容易出现磨坏板、折断板以及板的涨缩难以控制,容易导致二次压合出现层偏的问题。与现有技术相比,本发明改变了压合的叠层结构,由不对称压合转变为对称压合,第一次压合后由两张芯板换成一张芯板,在制作过程中板的涨缩容易控制,且对层偏也有很大的改善,并大幅度的降低了制作难度,缩短了生产周期。
附图说明:
图1为现有六层激光钻孔及机械钻孔的HDI板机构示意图。
图2为本发明六层激光钻孔的HDI板机构示意图。
图中标识说明:第一铜箔层201、第二铜箔层202、第三铜箔层203、第四铜箔层204、第五铜箔层205、第六铜箔层206、芯板207、第一激光盲孔208、通孔209、第二激光盲孔210、第三激光盲孔211、第四激光盲孔212、第五激光盲孔213、第六激光盲孔214、第一半固化片215、第二半固化片216、第三半固化片217、第四半固化片218。
具体实施方式:
为阐述本发明的思想及目的,下面将结合附图和具体实施例对本发明做进一步的说明。
请参见图2所示,图2为本发明六层激光钻孔的HDI板机构示意图。本发明提供的是一种对称压合结构HDI板,该HDI板具体包括芯板207,所述芯板207的上下两侧设置有第三铜箔层203和第四铜箔层204,第三铜箔层203和第四铜箔层204上制作有线路图形。
第三铜箔层203上贴合有第三半固化片217,第三半固化片217上压合有第二铜箔层202,第二铜箔层202上贴合有第四半固化片218,第四半固化片218上压合有第一铜箔层201,所述第一铜箔层201与第四半固化片218上设置有第一激光盲孔208和第三激光盲孔211,所述第二铜箔层202与第三半固化片217上设置有第二激光盲孔210,所述第二激光盲孔210与第三激光盲孔211处于同一位置,且形成叠孔;所述第四铜箔层204上贴合有第二半固化片216,第二半固化片216上压合有第五铜箔层205,第五铜箔层205上贴合有第一半固化片215,所述第一半固化片215上压合有第六铜箔层206,所述第六铜箔层206及第一半固化片215上设置有第五激光盲孔213、第六激光盲孔214,第五铜箔层205与第二半固化片216上设置有第四激光盲孔212,所述第四激光盲孔212与第五激光盲孔213处于同一位置,且形成叠孔。
其中该HDI板上还设置有一个通孔209,该通孔209穿过整个HDI板。
另外,本发明还提供了一种对称压合结构HDI板制作方法,其中包括步骤:
A、在芯板上侧压合第二铜箔层,下侧压合第五铜箔层;
其中步骤A具体包括:
A1、对芯板的上下两侧的第三铜箔层和第四铜箔层进行内层图形制作;
A2、对上述第三铜箔层和第四铜箔层进行内层蚀刻和内层检测;
A3、对上述第三铜箔层和第四铜箔层进行棕化处理,形成棕化膜;
A4、在第三铜箔层上贴第三半固化片,在第四铜箔层上贴第二半固化片;
A5、在第三半固化片上覆盖第二铜箔层,在第二半固化片上覆盖第五铜箔层,并进行压合。
B、在第二铜箔层上激光钻孔,形成第二激光盲孔;在第五铜箔层上激光钻孔,形成第四激光盲孔;
其中步骤A与步骤B之间还包括:
对第二铜箔层和第五铜箔层进行棕化处理,形成棕化膜,通过该棕化膜增加激光钻孔时的吸光率,便于后续激光钻孔。
C、在第二铜箔层上压合第一铜箔层,在第五铜箔层上压合第六铜箔层;
其中步骤C具体包括:
C1、在第二铜箔层上贴合第四半固化片,在第四半固化片上覆盖第一铜箔层,进行层压;
C2、在第五铜箔层贴合第一半固化片,在第一半固化片覆盖第六铜箔层,进行层压;
C3、对第一铜箔层、第六铜箔层进行棕化,形成棕化膜,通过该棕化膜增加激光钻孔时的吸光率,便于后续激光钻孔。
其中步骤B与步骤C之间还包括:
激光钻孔后对第二铜箔层和第五铜箔层进行内层沉铜、板电处理,制作第二铜箔层、第三铜箔层、第四铜箔层及第五铜箔层内层镀孔图形,并对形成的激光盲孔进行填孔电镀,然后通过磨板机对第二铜箔层、第五铜箔层进行砂带磨板;之后制作第二铜箔层、第五铜箔层的内层线路图形,进行内层蚀刻和内层检测。
D、在第一铜箔层上激光钻孔,形成第一激光盲孔和第三激光盲孔,且第三激光盲孔与第二激光盲孔为叠孔;在第六铜箔层上激光钻孔,形成第五激光盲孔、第六激光盲孔,且第五激光盲孔与第四激光盲孔为叠孔。
其中步骤D之后还包括:
步骤E、对第一铜箔层、第六铜箔层进行沉铜、板电处理,制作第一激光盲孔、第三激光盲孔、第五激光盲孔和第六激光盲孔的盲孔镀孔图形,然后进行填孔电镀,之后通过磨板机进行砂带磨板,最后进行外层钻通孔。
本发明中是以六层激光钻孔HDI板为例进行的说明,采用本发明中所述的在芯板两侧通过双向增层的压合制作HDI板的方式也可以应用于多层HDI板的制作,上述技术方案仅为本发明的其中一个优选实施例。
以上是对本发明所提供的一种对称压合结构HDI板及制作方法进行了详细的介绍,本文中应用了具体个例对本发明的结构原理及实施方式进行了阐述,以上实施例只是用于帮助理解本发明的方法及其核心思想;同时,对于本领域的一般技术人员,依据本发明的思想,在具体实施方式及应用范围上均会有改变之处,综上所述,本说明书内容不应理解为对本发明的限制。
Claims (8)
1.一种对称压合结构HDI板,其特征在于包括芯板(207),所述芯板(207)上、下两侧设置有第三铜箔层(203)和第四铜箔层(204),所述第三铜箔层(203)上贴合有第三半固化片(217),第三半固化片(217)上压合有第二铜箔层(202),第二铜箔层(202)上贴合有第四半固化片(218),第四半固化片(218)上压合有第一铜箔层(201),所述第一铜箔层(201)与第四半固化片(218)上设置有第一激光盲孔(208)和第三激光盲孔(211),所述第二铜箔层(202)与第三半固化片(217)上设置有第二激光盲孔(210),所述第二激光盲孔(210)与第三激光盲孔(211)处于同一位置,且形成叠孔;所述第四铜箔层(204)上贴合有第二半固化片(216),第二半固化片(216)上压合有第五铜箔层(205),第五铜箔层(205)上贴合有第一半固化片(215),所述第一半固化片(215)上压合有第六铜箔层(206),所述第六铜箔层(206)及第一半固化片(215)上设置有第五激光盲孔(213)、第六激光盲孔(214),第五铜箔层(205)与第二半固化片(216)上设置有第四激光盲孔(212),所述第四激光盲孔(212)与第五激光盲孔(213)处于同一位置,且形成叠孔。
2.根据权利要求1所述的对称压合结构HDI板,其特征在于该HDI板上还设置有一通孔(209),该通孔(209)穿过第一铜箔层(201)贯穿第四半固化片(218)、第二铜箔层(202)、第三半固化片(217)、第三铜箔层(203)、芯板(207)、第四铜箔层(204)、第二半固化片(216)、第五铜箔层(205)、第一半固化片(215)和第六铜箔层(206)。
3.一种对称压合结构HDI板制作方法,其特征在于包括步骤:
A、在芯板上侧压合第二铜箔层,下侧压合第五铜箔层;
B、在第二铜箔层上激光钻孔,形成第二激光盲孔;在第五铜箔层上激光钻孔,形成第四激光盲孔;
C、在第二铜箔层上压合第一铜箔层,在第五铜箔层上压合第六铜箔层;
D、在第一铜箔层上激光钻孔,形成第一激光盲孔和第三激光盲孔,且第三激光盲孔与第二激光盲孔为叠孔;在第六铜箔层上激光钻孔,形成第五激光盲孔、第六激光盲孔,且第五激光盲孔与第四激光盲孔为叠孔。
4.根据权利要求3所述的对称压合结构HDI板制作方法,其特征在于步骤A具体包括:
A1、对芯板的上下两侧的第三铜箔层和第四铜箔层进行内层图形制作;
A2、对上述第三铜箔层和第四铜箔层进行内层蚀刻和内层检测;
A3、对上述第三铜箔层和第四铜箔层进行棕化处理,形成棕化膜;
A4、在第三铜箔层上贴第三半固化片,在第四铜箔层上贴第二半固化片;
A5、在第三半固化片上覆盖第二铜箔层,在第二半固化片上覆盖第五铜箔层,并进行压合。
5.根据权利要求3所述的对称压合结构HDI板制作方法,其特征在于步骤A与步骤B之间还包括:
对第二铜箔层和第五铜箔层进行棕化处理,形成棕化膜,通过该棕化膜增加激光钻孔时的吸光率,便于后续激光钻孔。
6.根据权利要求3所述的对称压合结构HDI板制作方法,其特征在于步骤B与步骤C之间还包括:
激光钻孔后对第二铜箔层和第五铜箔层进行内层沉铜、板电处理,制作第二铜箔层、第三铜箔层、第四铜箔层及第五铜箔层内层镀孔图形,并对形成的激光盲孔进行填孔电镀,然后通过磨板机对第二铜箔层、第五铜箔层进行砂带磨板;之后制作第二铜箔层、第五铜箔层的内层线路图形,进行内层蚀刻和内层检测。
7.根据权利要求3所述的对称压合结构HDI板制作方法,其特征在于步骤C具体包括:
C1、在第二铜箔层上贴合第四半固化片,在第四半固化片上覆盖第一铜箔层,进行层压;
C2、在第五铜箔层贴合第一半固化片,在第一半固化片覆盖第六铜箔层,进行层压;
C3、对第一铜箔层、第六铜箔层进行棕化,形成棕化膜,通过该棕化膜增加激光钻孔时的吸光率,便于后续激光钻孔。
8.根据权利要求3所述的对称压合结构HDI板制作方法,其特征在于步骤D之后还包括:
步骤E、对第一铜箔层、第六铜箔层进行沉铜、板电处理,制作第一激光盲孔、第三激光盲孔、第五激光盲孔和第六激光盲孔的盲孔镀孔图形,然后进行填孔电镀,之后通过磨板机进行砂带磨板,最后进行外层钻通孔。
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