CN102463174A - 立式齿辊磨 - Google Patents

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Abstract

本发明属于水泥行业的粉磨技术领域,尤其涉及一种用于粉磨水泥熟料的立式齿辊磨。立式齿辊磨主要由进料管1、壳体2、磨辊装置3、固定磨环4、旋转磨环5、磨盘6及传动装置7组成。立式齿辊磨在其磨盘上方增加旋转磨环和固定磨环组成的研磨腔,利用旋转磨环和固定磨环组成的研磨腔将经过碾压后的物料,再进行粉磨,使水泥的需水量达到合格要求。同时,立式齿辊磨粉磨水泥的主机电耗18-20kWh/t,比传统的球磨机节能30-40%,比辊压机和球磨机组成的粉磨系统节能10-15%。

Description

立式齿辊磨
技术领域
本发明属于水泥行业的粉磨技术领域,尤其涉及一种用于粉磨水泥熟料的立式齿辊磨。
背景技术
目前,水泥粉磨设备主要有以下几种:
一、直接利用球磨机粉磨水泥,其主机电耗35kWh/t,电耗高,钢球磨耗大,噪音大。
二、单独的辊压机粉磨水泥,其生产出的水泥颗粒分布太宽,颗粒的形貌太窄。辊压机和球磨机组成的粉磨工艺的主机电耗在28-31kWh/t。
三、用立式辊磨粉磨水泥。其粉磨电耗在25kWh/t左右。立式辊磨粉磨水泥较为节能,但水泥颗粒分布宽,需水量大。水泥使用客户对立式辊磨磨制的水泥还不能完全接受,立式辊磨粉磨水泥,虽然能耗低,但推广运用难度大。
用发展观点看,立式辊磨粉磨水泥,系统电耗低,节能显著,应该大量推广运用。但立式辊磨粉磨水泥,水泥颗粒分布宽,颗粒的形貌窄,需水量大是目前急待解决的一大难题。
发明内容
本发明就是针对上述用立式辊磨粉磨水泥急待解决的难题,提出一种立式齿辊磨。固定磨环和旋转磨环组成的研磨腔设置在立磨磨盘的上方,利用旋转磨环和固定磨环的研磨腔将经过碾压后的物料,再进入研磨腔粉磨,从而得到更细的水泥颗粒,更宽的颗粒形貌,使水泥的需水量达到合格要求。
本发明的技术方案是:
立式齿辊磨主要由进料管1、壳体2、磨辊装置3、固定磨环4、旋转磨环5、磨盘6及传动装置7组成。在立式齿辊磨磨盘上方增加旋转磨环和固定磨环的研磨腔。旋转磨环固定在磨盘的平面上,旋转磨环上平面设置了两组研磨齿,两组齿之间间距为10-15mm,齿高5-15mm,倾斜布置。固定磨环通过支架固定在立式齿辊磨壳体上,固定磨环的下平面上设置了研磨齿,齿高5-15mm,放射线布置。立式齿辊磨粉磨水泥时,物料从进料管喂入,在旋转磨盘离心力的作用下,物料向磨盘周边移动,经过磨辊的碾压粉磨后,物料进入旋转磨环和固定磨环的研磨腔,在旋转磨环和固定磨环的研磨作用下,物料被进一步粉磨,使水泥的需水量达到合格要求。
本发明的有益效果是:由于立式齿辊磨磨盘的上方增加旋转磨环和固定磨环的研磨腔,将经过碾压后的物料,再进行研磨,使水泥达到合格要求,满足了混凝土客户对水泥性能的要求。同时,立式齿辊磨粉磨水泥的主机电耗18-20kWh/t,比传统的球磨机节能30-40%,比辊压机和球磨机组成的粉磨系统节能10-15%。因此,立式齿辊磨粉磨将为无球化粉磨水泥做出积极的贡献。
附图说明
图1为立式齿辊磨的结构示意图
图2为旋转磨环的正视图
图3为旋转磨环的侧视图
图4为旋转磨环的俯视图
图5为固定磨环的正视图
图6为固定磨环的侧视图
图7为固定磨环的C向视图
图中的标号分别为:1是进料管,2是壳体,3是磨辊装置,4是固定磨环,5是旋转磨环,6是磨盘,7是传动装置。
具体实施方式
为能进一步了解本发明的发明内容、特点及功效,下面通过实施事例进行详细说明:
图1是本发明立式齿辊磨的结构示意图。立式齿辊磨主要由进料管1、壳体2、磨辊装置3、固定磨环4、旋转磨环5、磨盘6及传动装置7组成。固定磨环4通过支架固定在壳体2上,固定磨环4的下平面设置了研磨齿,齿高5-15mm,放射线布置。旋转磨环5固定在磨盘6的平面上,旋转磨环5的上平面上设置了两组研磨齿,两组齿之间间距为10-15mm,齿高5-15mm,倾斜布置。
本发明立式齿辊磨的工作原理是:物料由进料管1进入,进入到磨盘6的中心,物料在离心力的作用下,渐渐地进入到磨辊的碾压区,经过磨辊碾压粉磨后,物料进入磨盘周边旋转磨环和固定磨环组成的研磨腔,在旋转磨环和固定磨环研磨作用下物料被进一步粉磨,水泥颗粒变细,粒径范围变窄,颗粒形貌变宽,使水泥达到需水量合格的要求。

Claims (3)

1.立式齿辊磨主要由进料管1、壳体2、磨辊装置3、固定磨环4、旋转磨环5、磨盘6及传动装置7组成,其特征在于固定磨环4和旋转磨环5组成的研磨腔设置在立式辊磨磨盘的上方。
2.根据权利要求1所述的固定磨环4,其特征是固定磨环4的下平面设置了研磨齿,齿高5-15mm,放射线布置。
3.根据权利要求1所述的旋转磨环5,其特征是旋转磨环5的上平面设置了两组研磨齿,两组研磨齿之间间距为10-15mm,齿高5-15mm,倾斜布置。
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C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
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