CN102305367A - 一种陶瓷台灯 - Google Patents
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Abstract
一种陶瓷台灯，它涉及生活用品领域。它是由灯座(1)、支撑座(2)、灯罩(3)、圆孔(4)、电源线(5)、调节开关(6)组成；灯座(1)上设置有支撑座(2)，灯罩(3)设置在支撑座(2)上，灯座(1)的一侧设有圆孔(4)，电源线(5)设置在圆孔(4)内，电源线(5)上设置有调节开关(6)。它能调节灯光，样式美观大方，结构新颖，功能多样。
Description
技术领域：
本发明涉及生活用品领域，尤其涉及一种陶瓷台灯。
背景技术：
目前，市场上的陶瓷台灯结构的种类非常多，大部分的台灯结构是由陶瓷的灯座及灯罩、灯具组成；样式比较普遍，功能单一，不能满足现代人的需求。
发明内容：
本发明的目的是提供一种陶瓷台灯，它能调节灯光，样式美观大方，结构新颖，功能多样。
为了解决背景技术所存在的问题，本发明是采用以下技术方案：它是由灯座1、支撑座2、灯罩3、圆孔4、电源线5、调节开关6组成；灯座1上设置有支撑座2，灯罩3设置在支撑座2上，灯座1的一侧设有圆孔4，电源线5设置在圆孔4内，电源线5上设置有调节开关6。
所述的灯座1为天鹅状的工艺品设计，采用白色陶瓷材料制成。
所述的灯罩3为透光瓷制成。
所述的调节开关6通过中间的转钮可以调节灯光的亮度。
本发明灯座1的制作工艺：a将陶瓷泥料制成灯座1的模型；b进行烧制，在50-100分钟内自上而下加热，同时温度加热到100-200℃时停止加热，等温度降低到20-50℃，保持10-20分钟后再加热至500-1000℃烧制5-8小时后，制成半成品；c将半成品进行打磨刨光并风干；d对灯座1进行施釉，在500-1000℃温度下进行4-8个小时的烧制，即可制成成品。
本发明能调节灯光，样式美观大方，结构新颖，功能多样。
附图说明：
图1是本发明的结构示意图；
图2是本发明的侧视图。
具体实施方式：
参照图1，图2，本具体实施方式采用以下技术方案：它是由灯座1、支撑座2、灯罩3、圆孔4、电源线5、调节开关6组成；灯座1上设置有支撑座2，灯罩3设置在支撑座2上，灯座1的一侧设有圆孔4，电源线5设置在圆孔4内，电源线5上设置有调节开关6。
所述的灯座1为天鹅状的工艺品设计，采用白色陶瓷材料制成。
所述的灯罩3为透光瓷制成。
所述的调节开关6通过中间的转钮可以调节灯光的亮度。
本具体实施方式灯座1的制作工艺：a将陶瓷泥料制成灯座1的模型；b进行烧制，在50-100分钟内自上而下加热，同时温度加热到100-200℃时停止加热，等温度降低到20-50℃，保持10-20分钟后再加热至500-1000℃烧制5-8小时后，制成半成品；c将半成品进行打磨刨光并风干；d对灯座1进行施釉，在500-1000℃温度下进行4-8个小时的烧制，即可制成成品。
本具体实施方式能调节灯光，样式美观大方，结构新颖，功能多样。
Claims (4)
1.一种陶瓷台灯，其特征在于它是由灯座(1)、支撑座(2)、灯罩(3)、圆孔(4)、电源线(5)、调节开关(6)组成；灯座(1)上设置有支撑座(2)，灯罩(3)设置在支撑座(2)上，灯座(1)的一侧设有圆孔(4)，电源线(5)设置在圆孔(4)内，电源线(5)上设置有调节开关(6)。
2.根据权利要求1所述的一种陶瓷台灯，其特征在于所述的灯座(1)的制作工艺：(a)将陶瓷泥料制成灯座(1)的模型；(b)进行烧制，在50-100分钟内自上而下加热，同时温度加热到100-200℃时停止加热，等温度降低到20-50℃，保持10-20分钟后再加热至500-1000℃烧制5-8小时后，制成半成品；(c)将半成品进行打磨刨光并风干；(d)对灯座(1)进行施釉，在500-1000℃温度下进行4-8个小时的烧制，即可制成成品。
3.根据权利要求1所述的一种陶瓷台灯，其特征在于所述的灯座(1)为天鹅状的工艺品设计，采用白色陶瓷材料制成。
4.根据权利要求1所述的一种陶瓷台灯，其特征在于所述的灯罩(3)为透光瓷制成。
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| CN2881317Y (zh) * | 2006-01-05 | 2007-03-21 | 吴伟坚 | 新型台灯 |
| CN101245902A (zh) * | 2008-03-31 | 2008-08-20 | 陆奕歆 | 陶瓷台灯及其制造工艺 |
| CN201615395U (zh) * | 2010-01-31 | 2010-10-27 | 蔡奕洲 | 陶瓷台灯 |
| CN201739892U (zh) * | 2010-06-29 | 2011-02-09 | 郭福康 | 一种陶瓷台灯结构 |
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2011
- 2011-09-15 CN CN201110272407A patent/CN102305367A/zh active Pending
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| C02 | Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001) | ||
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