CN102266985A - 一种铰刀 - Google Patents

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李振丰
孔小波
周东阳
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D & M (suzhou) Precision Cutting Tools Co Ltd
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D & M (suzhou) Precision Cutting Tools Co Ltd
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Abstract

本发明的目的是提出一种铰刀,可以提高内冷铰刀的冷却性能和排屑性能,从而提高加工质量。本发明的铰刀包括柄部和刃部,所述刃部设有多条侧刃,相邻侧刃之间设置有排屑槽,关键在于所述柄部和刃部的内部设置有连通的内冷孔,所述内冷孔的一端与柄部端部所设有的进水孔连接,内冷孔的另一端与排屑槽内所设有的排水孔连接。在加工过程中,通过柄部端部所设有的进水孔向铰刀内注注入冷却水,冷却水流经内冷孔,对铰刀进行冷却后,最终经排屑槽内所设有的排水孔排出,同时将排屑槽内所积聚的铁屑冲出,大大改善了排屑性能,从而提高了加工质量,延长了刀具的使用寿命,降低了刀具的使用成本。

Description

一种铰刀
技术领域
本发明属于刀具制造技术领域,特别涉及到一种铰刀。
背景技术
铰刀用于铰削工件上已钻削(或扩孔)加工后的孔,主要是为了提高孔的加工精度,降低其表面的粗糙度,是用于孔的精加工和半精加工的刀具,其加工余量一般很小。随着机械行业的发展,用户对产品的加工质量、加工可靠性、加工效率、刀具的交货期等都提出了更高要求。传统铰刀的冷却完全靠其中心内冷孔冷却,具有下述缺点:1、对刃口的冷却不足,导致表面光洁度较差;2、排屑不理想,影响工件质量,减少刀具寿命,导致机械加工效率低。
发明内容
本发明的目的是提出一种铰刀,可以提高内冷铰刀的冷却性能和排屑性能,从而提高加工质量。
本发明的铰刀包括柄部和刃部,所述刃部设有多条侧刃,相邻侧刃之间设置有排屑槽,关键在于所述柄部和刃部的内部设置有连通的内冷孔,所述内冷孔的一端与柄部端部所设有的进水孔连接,内冷孔的另一端与排屑槽内所设有的排水孔连接。
在加工过程中,通过柄部端部所设有的进水孔向铰刀内注注入冷却水,冷却水流经内冷孔,对铰刀进行冷却后,最终经排屑槽内所设有的排水孔排出,同时将排屑槽内所积聚的铁屑冲出,大大改善了排屑性能。
进一步地,所述内冷孔与排水孔之间的管道朝向刃部的端部,以减少对冷却水的流动阻碍,保证冷却水的流速不会大幅降低,从而保证了排屑性能。
进一步地,所述排屑槽内沿刃部轴向依次设有多个排水孔,以加强排屑和冷却效果。
进一步地,该铰刀的表面设有TIALN-XC涂层。TiAlN-XC涂层不但有较高的硬度,还有较好的耐磨损性,即使在极高的切削速度下也是如此。这样既可得到较长的刀具寿命,又可得到较高的生产率。
本发明的铰刀通过设置独特的冷却结构及排屑结构,可以提高铰刀的冷却性能和排屑性能,从而提高加工质量、延长刀具的使用寿命、降低刀具的使用成本。
附图说明
图1是本发明的铰刀的结构示意图。
图2是图1的A-A剖视图。
图中:1、柄部;2、刃部;3、侧刃;4、排屑槽;5、内冷孔;6、进水孔;7、排水孔。
具体实施方式
下面对照附图,通过对实施例的描述,对本发明的具体实施方式如所涉及的各构件的形状、构造、各部分之间的相互位置及连接关系、各部分的作用及工作原理等作进一步的详细说明。
实施例1:
如图1、2所示,本实施例的铰刀利用数控五轴联动磨床,自主编写刀具程序加工而成,其基体材料采用硬质合金,表面设有TIALN-XC涂层。具体来说,铰刀包括柄部1和刃部2,刃部2设有多条侧刃3,相邻侧刃3之间设置有排屑槽4,柄部1和刃部2的内部设置有连通的内冷孔5,内冷孔5的一端与柄部1端部所设有的进水孔6连接,内冷孔5的另一端与排屑槽4内所设有的排水孔7连接,内冷孔5与排水孔7之间的管道朝向刃部2的端部。
在加工过程中,通过柄部1端部所设有的进水孔6向铰刀内注注入冷却水,冷却水流经内冷孔5,对铰刀进行冷却后,最终经排屑槽4内所设有的排水孔7排出,同时将排屑槽4内所积聚的铁屑冲出,大大改善了排屑性能。

Claims (4)

1.一种铰刀,包括柄部和刃部,所述刃部设有多条侧刃,相邻侧刃之间设置有排屑槽,其特征在于所述柄部和刃部的内部设置有连通的内冷孔,所述内冷孔的一端与柄部端部所设有的进水孔连接,内冷孔的另一端与排屑槽内所设有的排水孔连接。
2.根据权利要求1所述的铰刀,其特征在于所述内冷孔与排水孔之间的管道朝向刃部的端部。
3.根据权利要求1或2所述的铰刀,其特征在于所述排屑槽内沿刃部轴向依次设有多个排水孔。
4.根据权利要求1或2所述的铰刀,其特征在于该铰刀的表面设有TIALN-XC涂层。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

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