CN101948945A - 退火炉旋片式平焰烧嘴 - Google Patents

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张利民
孙威健
闫现臣
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Xinxing Ductile Iron Pipes Co Ltd
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Abstract

本发明涉及一种离心铸铁管退火炉旋片式平焰烧嘴,有一空腔的烧嘴头内底端上固定助燃风套,助燃风套的侧壁上有风孔,烧嘴头的侧壁上密封固定助燃风管,烧嘴头的上端通过法兰固定主风管,主风管的下端伸入助燃风套内,主风管的出口有旋片,旋片通过拉杆与拉环固定,拉环通过法兰与主风管的上端固定,主风管与弯管密封固定,弯管通过法兰与连接管密封固定,连接管通过煤气阀与高炉煤气管道密封固定。它清理方便,火焰大小可调,燃烧稳定。

Description

退火炉旋片式平焰烧嘴
技术领域
本发明涉及一种离心铸铁管退火炉旋片式平焰烧嘴。
背景技术
目前采用水冷金属型离心铸造的离心铸铁管的热处理主要是采用连续式高温退火炉对管子进行热处理,通过加热、保温、快冷、缓冷四个阶段,对管子在浇铸过程中产生的金相组织进行热处理,促使金相组织发生转变,达到工艺要求的金相组织和性能。在整个热处理过程中,管子处于匀速滚动状态,要求管子的各个部位受热程度均匀,金相组织转变稳定。
但是在实际生产中,退火炉存在以下两方面的缺陷:1、烧嘴的燃烧状态不稳定,管子受热的均匀性不稳定,包括以下几方面的因素:①火焰的形状不易控制,特别是在退火炉炉膛高度相对较低的情况下,平焰烧嘴的的火焰不易控制,调整不当,很容易形成直烧,火焰直接烧到管子的某一点上,造成管子局部过热,金相转变不稳定;②管子在受热不均匀的情况下还有可能产生局部氧化皮现象,不但影响管子外观,而且对管子的使用造成隐患;③在生产组织过程中,不同管型的搭配,对退火炉的加热能力有不同的要求,具体到对烧嘴的加热能力和调整能力以及加热效果有不同的要求,往往在烧嘴的调整和效果上有一定的难度。2、使用含较多杂质的焦炉煤气时,烧嘴往往容易造成堵塞,影响加热效果。3、烧嘴在生产过程中不能够拆卸,烧嘴头部堵塞严重时无法清理,只能停炉后集中清理,影响生产连续性。
发明内容
为了克服现有技术的缺点,本发明提供一种退火炉旋片式平焰烧嘴,它清理方便,火焰大小可调,燃烧稳定。
本发明解决其技术问题所采取的技术方案是:有一空腔的烧嘴头内底端上固定助燃风套,助燃风套的侧壁上有风孔,烧嘴头的侧壁上密封固定助燃风管,烧嘴头的上端通过法兰固定主风管,主风管的下端伸入助燃风套内,主风管的出口有旋片,旋片通过拉杆与拉环固定,拉环通过法兰与主风管的上端固定,主风管与弯管密封固定,弯管通过法兰与连接管密封固定,连接管通过煤气阀与高炉煤气管道密封固定。
本发明具有下列优点:可保证离心铸铁管高温连续式退火炉平焰烧嘴加热的均匀性和稳定性,并且解决了较脏的焦炉煤气在生产过程中对烧嘴的堵塞影响,提高了离心铸铁管退火质量的稳定性和外观质量,保证了生产过程的连续性。
附图说明
下面结合附图和实施例对本发明进一步说明。
附图为本发明结构示意图。
具体实施方式
如附图所示,有一空腔的烧嘴头13内底端上固定助燃风套11,助燃风套11的侧壁上有风孔,烧嘴头13的侧壁上密封固定助燃风管4,烧嘴头13的上端通过法兰10固定主风管9,主风管9的下端伸入助燃风套11内,主风管9的出口有旋片12,旋片12通过拉杆3与拉环1固定,拉环1通过法兰2与主风管9的上端固定,主风管9与弯管8密封固定,弯管8通过法兰7与连接管6密封固定,连接管6通过煤气阀5与高炉煤气管道密封固定。所述的法兰7内装有节流板(图中未画出)。
清理节流板:首先将煤气阀门5关闭,再将连接管6卸下,对节流板处的堵塞物进行清理。清理完毕后,安装连接管6。
清理旋片12:首先将煤气阀5关闭,再将密封法兰2卸下,拔出旋片12,对其进行彻底清理。清理完毕后,将旋片12装回原位,紧固法兰2。
本发明除了用于离心铸铁管退火炉外,还可以用于其他场合。

Claims (2)

1.一种退火炉旋片式平焰烧嘴,其特征在于:有一空腔的烧嘴头(13)内底端上固定助燃风套(11),助燃风套(11)的侧壁上有风孔,烧嘴头(13)的侧壁上密封固定助燃风管(4),烧嘴头(13)的上端通过法兰(10)固定主风管(9),主风管(9)的下端伸入助燃风套(11)内,主风管(9)的出口有旋片(12),旋片(12)通过拉杆(3)与拉环(1)固定,拉环(1)通过法兰(2)与主风管(9)的上端固定,主风管(9)与弯管(8)密封固定,弯管(8)通过法兰(7)与连接管(6)密封固定,连接管(6)通过煤气阀(5)与高炉煤气管道密封固定。
2.根据权利要求1所述的退火炉旋片式平焰烧嘴,其特征在于:所述的法兰(7)内装有节流板。
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PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Application publication date: 20110119