CN101857377A - 电子装置用玻璃衬底以及电子装置的制造方法 - Google Patents

Abstract

提供一种电子装置用玻璃衬底以及电子装置的制造方法。该玻璃衬底的制造方法是从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底的方法，具有以下工序：在玻璃母材的表背面中的表面侧设置耐氢氟酸性的抗蚀剂层的抗蚀剂工序(ST2)；用激光或切割刀刃从玻璃母材的表面侧形成不贯通玻璃母材的划分线，把玻璃母材划分成多个使用区域的划分工序(ST3)；以及蚀刻经过了划分工序的玻璃母材，从背面侧使玻璃母材减薄，并且使上述划分线加深的蚀刻工序(ST4)。根据本发明，可以提供有效利用玻璃的长处的电子装置用玻璃衬底。

Description

电子装置用玻璃衬底以及电子装置的制造方法

技术领域

本发明涉及在显示装置等的电子装置的露出部中使用的玻璃衬底的制造方法以及这样的电子装置的制造方法。

背景技术

在显示装置等的露出部中需要设置防止破损、玷污的透明的覆盖部件。在此，作为覆盖部件，塑料是最简单的，但也提出了使用观察性、耐久性、耐酸性、耐热性等都比塑料好的玻璃。

另外，在触摸屏一体型的液晶显示器的触摸屏中也是，使用玻璃来取代PET(聚对苯二甲酸乙二酯)等的薄膜部件时，从制造工序上的制约少且可以利用上述玻璃的优点的角度来看，是优选的。

<专利文献1>日本特开2007-241179号公报

但是，在电子装置的露出部中使用玻璃时，需要有用来防止在电子装置的制造和使用时防止触摸屏、盖板玻璃破损的万全之策。另外，反射造成的对玻璃面的映射的对策也是很重要的。

本发明正是鉴于上述问题而提出的，其目的在于提供无须特别增加制造成本就可以在物理上改善玻璃的脆性、有效利用玻璃的长处的电子装置用的玻璃衬底以及电子装置。

发明内容

为了实现上述目的，根据方案1的玻璃衬底的制造方法，从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底，其具有以下工序：在玻璃母材的表背面中的表面侧设置耐氢氟酸性的抗蚀剂层的抗蚀剂工序(ST2)；用激光或切割刀刃从玻璃母材的表面侧形成不贯通玻璃母材的划分线，把玻璃母材划分成多个使用区域的划分工序(ST3)；以及蚀刻经过了划分工序的玻璃母材，从背面侧使玻璃母材减薄，并且使上述划分线加深的蚀刻工序(ST4)。

在本发明的蚀刻工序中，优选地，把以背面侧作为上表面的玻璃母材保持为水平状态，进行蚀刻处理。另外，在蚀刻工序中，向玻璃母材的表面和背面喷射化学研磨液是优选的。

根据方案2的玻璃衬底的制造方法，从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底，其具有以下工序：在玻璃母材的表背面中的表面侧离散地设置耐氢氟酸性的表面抗蚀剂层，并且在玻璃母材的背面侧在与表面抗蚀剂层对应的位置上也设置耐氢氟酸性的背面抗蚀剂层的抗蚀剂工序(ST11～ST13)；蚀刻玻璃母材中的未设置抗蚀剂层的部分，形成不贯通玻璃母材的划分线，把玻璃母材划分成多个使用区域的划分工序(ST14)；以及在剥离了表面抗蚀剂层和背面抗蚀剂层的状态下蚀刻整个玻璃母材，使上述玻璃母材减薄，并且使上述划分线加深的蚀刻工序(ST16)。

根据方案3的玻璃衬底的制造方法，从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底，其具有以下工序：在玻璃母材的表背面中的表面侧离散地设置耐氢氟酸性的表面抗蚀剂层，且在玻璃母材的背面侧在与表面抗蚀剂层对应的位置上也设置耐氢氟酸性的背面抗蚀剂层的抗蚀剂工序(ST21～ST23)；蚀刻玻璃母材中的未设置抗蚀剂层的部分，针对玻璃衬底的每个使用区域分离玻璃母材的分离工序(ST24)；以及进一步蚀刻上述玻璃衬底的端面，使玻璃端面中的板厚中心区域变形成圆弧面的变形工序(ST25)。

根据方案9的电子装置的制造方法，其具有：把上述玻璃衬底作为与使用者接触的盖板玻璃组装到电子装置中的工序。在此，所谓与使用者接触是包括直接接触和间接接触的概念，但不管是哪种情况，该盖板玻璃都有被人为按压的可能性。

另外，根据方案10的电子装置的制造方法，其具有：把上述玻璃衬底作为触摸屏一体型的显示装置的触摸屏中的使用者侧的部件组装到电子装置中的工序。另外，该使用者侧的部件也可能被人为按压。

上述的任一个发明都是从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底，但由于玻璃衬底的周边不被物理地切断，所以不产生裂纹等，大幅改善了机械强度。即，多数情况下，玻璃尤其是其周边处存在的裂纹成为破损的基点，但由于本发明中制造的玻璃衬底的周边不存在裂纹，所以玻璃的脆性被大幅改善。

另外，在根据方案1或方案2的发明中，由于设置蚀刻工序，减薄玻璃母材的背面或玻璃母材的表面和背面，所以不仅玻璃衬底的周边，至少在其背面上也残留有裂纹。由于从具有反射防止膜的玻璃衬底的表面侧施加人为的外部压力，所以如果残留有背面侧的裂纹，则恐怕玻璃会以它为基点而断裂，但由于在本发明的玻璃衬底的背面未残留有裂纹，所以可以提高玻璃衬底的物理强度。因此，即使在例如显示装置的盖板玻璃中使用也表现出优良的强度。另外，作为触摸屏中使用的薄膜部件的代用品，也可以有效地利用本发明的玻璃衬底。

另外，在本发明中，由于设置蚀刻工序，所以即使在划分工序中万一在周边部产生尖锐的角，该角在蚀刻工序中也被倒圆而平滑化。因此，在随后的制造工序中，即使与玻璃周边有某种接触，发生新的裂纹的可能性也大大降低。

另外，在本发明中，在蚀刻工序中，虽然无须一定使划分线贯通，但通过使划分线贯通可以极大地提高玻璃衬底的机械强度。另一方面，在采用在划分线不贯通的阶段结束蚀刻工序的实施方式时，除去抗蚀剂层的剥离处理容易且可靠。即，虽然玻璃母材具有划分线，但可以把整个玻璃母材作为一体来进行剥离处理，所以制造效率不会变差。与此相对，在分离成一个一个的玻璃衬底后除去覆盖膜层时，必须有把一个一个的玻璃衬底排列起来的操作。

在只在玻璃母材的表面上设置抗蚀剂层的根据方案1的发明的情况下，优选地，使在玻璃母材上贴附的干膜抗蚀剂层感光而形成抗蚀剂层。另一方面，在在玻璃母材的表面和背面上设置抗蚀剂层的根据方案2、方案3的发明的情况下，不限于上述方法，也可以通过把玻璃母材浸渍在掩蔽剂中而掩蔽玻璃母材。

反射防止膜通常是利用薄膜表面的反射光与薄膜背面的反射光的相位差消除反射波的膜，优选地，利用溅射处理在玻璃表面上依次层叠SiO₂层、TiO₂层、SiO₂层、TiO₂层、SiO₂层而构成。另外，也可以取代氧化钛TiO₂层而设置氧化铟锡ITO层，还可以取代五层结构而利用由SiO₂层、TiO₂层、SiO₂层、TiO₂层构成的四层结构。

另外，上述玻璃母材优选应为碱性玻璃(alkali glass)。由于碱性玻璃价格低廉，所以作为电子装置的盖板玻璃等是有效的，比丙烯板等表现出更好的透射率。另外，不仅仅是观察性，在包含耐酸性、耐热性的耐久性方面也比丙烯板等更好。

根据上述的本发明，可以制造改善了玻璃的脆性的玻璃衬底，可以实现有效利用玻璃的长处的电子装置。

附图说明

图1是例示玻璃衬底的第一制造方法的流程图。

图2是例示玻璃衬底的第二制造方法的流程图。

图3是例示光掩模的构成的平面图。

图4是示出设置了抗蚀剂层的玻璃衬底的平面图。

图5是例示玻璃衬底的第三制造方法的流程图。

图6是示出设置了抗蚀剂层的玻璃衬底的平面图。

具体实施方式

下面，基于实施例详细说明本发明。

(实施例1)

图1是例示根据实施例1的玻璃衬底的制造方法的流程图。在此，经步骤ST1～ST6的工序制造的玻璃衬底用作例如便携电话的液晶显示器的盖板玻璃。另外，也可以用作构成触摸屏一体型的液晶显示器的使用者侧的玻璃衬底。另外，在触摸屏一体型的液晶显示器中，由于两个玻璃衬底中的一个兼作触摸屏的玻璃衬底，所以由图1的工序制造的玻璃衬底用作面对构成液晶显示器的玻璃衬底的使用者侧的玻璃衬底。

下面，基于图1说明。在该实施例中，使用具有400mm×500mm左右的面积且减薄到1mm以下(优选为0.7mm左右)的碱性玻璃GL。另外，首先在玻璃母材GL的表背面中的一面(例如表面侧)上形成反射防止膜(ST1)。具体地说，利用溅射法在玻璃母材GL上反复多次层叠二氧化硅SiO₂层和氧化钛TiO₂层。

虽然没有特别限定，但优选地，象图1(a)所示的那样，依次形成SiO₂(Fa1层)、TiO₂(Fb1层)、SiO₂(Fa2层)、TiO₂(Fb2层)、SiO₂(Fa3层)这五层。另外，此时，以

左右的膜厚形成Fa1层，以左右的膜厚形成Fb1层、以

左右的膜厚形成Fa2层、以

左右的膜厚形成Fb2层、以

左右的膜厚形成Fa3层。

接着，在玻璃母材GL的表面上贴附干膜抗蚀剂以覆盖反射防止膜，照射紫外线，形成耐氢氟酸性的抗蚀剂层RS(ST2)。另外，图1(a)示出玻璃母材GL、反射防止膜和抗蚀剂层RS的层叠关系。

然后，从抗蚀剂层RS的上表面照射激光，沿着划分线使玻璃母材GL改性(ST3)。由于利用激光的划分线以未贯通玻璃母材的深度形成，所以即使在步骤ST3的处理后仍然维持玻璃母材的一体性。另外，虽然通常用该划分线把玻璃母材GL划分成40mm×70mm左右的矩形形状，但当然也可以划分成大致圆形等其它任意形状。

另外，也可以取代照射激光而使用划线机(scribing machine)，此时用切割刀刃形成成为切入沟GV的划分线(ST3′)。图1(b)示出形成了划分线GV的玻璃母材，此时也是，由于划分线GV未贯通玻璃母材GL，所以维持了玻璃母材GL的一体性。

然后，利用含有氢氟酸的化学研磨液，蚀刻经过了步骤ST3或步骤ST3′的处理后的玻璃母材GL。作为化学研磨液，含有1～10重量％氢氟酸、20～50重量％硫酸的化学研磨液是优选的。氢氟酸的浓度优选为1～5重量％，更优选为1～3重量％。另外，该研磨液中的硫酸的浓度优选为30～45重量％，更优选为35～42重量％。

由于玻璃母材GL的未被抗蚀剂层RS覆盖的部分通过该蚀刻处理被蚀刻，所以划分线GV加深，并且玻璃母材GL还被从背面侧减薄。其结果，即使假设在形成划分线GV时和随后的搬运时等产生了裂纹，也可以消除它。

蚀刻量要适当地设定，但如果玻璃母材GL的板厚为0.7mm左右，经步骤ST4的处理后玻璃母材GL被减薄到0.6～0.5mm左右，其结果划分线GV事实上贯通了玻璃母材GL。被减薄到该程度的玻璃母材可以以90°以下的角度自由弯曲，但在本实施例中由于减薄玻璃母材GL并且划分线GV被平滑化，所以从玻璃母材GL切出的玻璃衬底的端面上不存在裂纹，表现出优良的切割强度。

另外，优选地，在步骤ST4的处理中，把未被抗蚀剂层RS覆盖的玻璃母材GL的背面侧作为上表面，从保持为水平状态的玻璃母材GL的表面和背面淋浴状地喷洒化学研磨液。玻璃母材GL，通过收存在例如专用的收存箱中，在收存箱的下面网状地形成，可以使化学研磨液直接接触划分线GV。另外，由于划分线GV向下方开口，所以蚀刻处理产生的反应产物不会残留附着在划分线GV上。

而且，如果采用这样的构成，由于玻璃母材GL被保持为水平状态，所以即使划分线GV加深，从玻璃母材GL分离的玻璃衬底也不会分离成散片。另一方面，在化学研磨槽中浸渍玻璃母材时，玻璃母材在化学研磨液中晃动，容易沿划分线分割玻璃母材而使玻璃衬底分离成散片。

如果象以上那样结束步骤ST4的蚀刻处理，则通过剥离抗蚀剂层RS完成显示装置用的盖板玻璃(ST5)。

(实施例2)

图2是例示根据实施例2的玻璃衬底的制造方法的流程图。该玻璃衬底也是，用作例如显示装置的盖板玻璃。另外，也可以用作构成触摸屏一体型的液晶显示器的使用者侧的玻璃衬底。

在该实施例中也是，首先在玻璃母材GL的一面上形成反射防止膜(ST10)。反射防止膜的构成与实施例1时相同，象图2(a)所示的那样，依次形成SiO₂(Fa1层)、TiO₂(Fb1层)、SiO₂(Fa2层)、TiO₂(Fb2层)、SiO₂(Fa3层)这五层。

然后，在玻璃母材GL的表面和背面上贴附感光性薄膜部件Fi(ST11)。实施例使用的感光性薄膜部件Fi，象图2(b)所示的那样，通过把透光性的基底膜1、感光层2和剥离膜3层叠而构成。另外，从该感光性薄膜部件Fi剥离了剥离膜3后，用转予把感光性薄膜部件Fi贴附到玻璃母材GL的表面和背面上。

然后，把整个玻璃母材GL划分成40mm×70mm左右的多个使用区域，在玻璃母材GL上覆盖光掩模4。图3是例示光掩模4的平面图。在作为玻璃衬底的使用区域4B的周边部分上矩形环状地设置线宽1mm～5mm左右的非曝光部4A(遮光部)。另外，图2(c)是示出配置了光掩模4的状态的剖面图。光掩模4的非曝光部4A确定蚀刻处理中的研磨线(划分线GV)。

接着，从光掩模4之上照射紫外线，使感光层2的曝光部2B光硬化(ST12)。然后，用碱溶液使该状态的玻璃母材GL显影，除去感光层2的非曝光部2A(ST13)。通过以上的处理，除了非曝光部2A以外，玻璃母材GL的表面和背面被耐氢氟酸性的抗蚀剂层2B覆盖。图4是示出该状态的平面图，示出未被蚀刻的抗蚀剂层2B和被蚀刻的划分线GV。

然后，把被抗蚀剂层2B覆盖了的玻璃母材GL浸渍在化学研磨槽中，用化学研磨液蚀刻(一次蚀刻)(ST14)。作为化学研磨液，含有1～10重量％氢氟酸、20～50重量％硫酸的化学研磨液是优选的。氢氟酸的浓度优选为1～5重量％，更优选为1～3重量％。另外，该研磨液中的硫酸的浓度优选为30～45重量％，更优选为35～42重量％。

另外，在步骤ST14的蚀刻工序中，使玻璃母材GL直立起来并使微细气泡沿玻璃母材GL的表面和背面连续地上升是优选的。如果采用这样的构成，可以防止溶出的玻璃成分(反应产物)再次附着到不存在抗蚀剂层2B的划分线GV上。在本实施例中，由于划分线GV细到1～5mm左右，如果不能防止反应产物的再次附着，则研磨速度会产生局部的波动，结果可能使划分线GV的蚀刻深度不能恒定。

这样，使划分线GV加深，在该部分的玻璃母材GL的板厚到达100～300μm左右的时刻，结束步骤ST14的一次蚀刻处理。另外，图2(e)示出一次蚀刻结束时的玻璃母材GL，示出了在划分线GV的上端形成棱角ED。另外，该棱角具有研磨速度越快就越接近90度的倾向。

然后，把玻璃母材GL浸渍在剥离槽中，除去抗蚀剂层2B(ST15)。接着，把玻璃母材GL配置在适当的收存箱中，向其表面和背面淋浴状地喷洒化学研磨液，进行精细蚀刻处理(ST16)。另外，玻璃母材GL在收存箱内以水平姿势载置，但也可以在适当的时刻使玻璃母材GL的表背面反转。

不管怎样，只要进行这样的蚀刻处理，就可以使划分线GV更深，并且玻璃表面和背面也被蚀刻。其结果，即使在一次蚀刻(ST14)时在划分线GV上生成比较尖锐的棱角ED时，该棱角ED也被平滑化。另外，由于玻璃表面和背面被蚀刻，所以即使万一在玻璃表背面上残留微细的裂纹，也可以消除它。

另外，在上下两个划分线GV贯通的阶段，精细蚀刻处理结束。这样，在本实施例中，由于在形成划分线GV的一次蚀刻(ST14)后执行精细蚀刻(ST16)，所以通过精细蚀刻进行玻璃衬底的分离处理和平滑化处理，可以制成坚固的玻璃衬底。

另外，玻璃衬底由于最终被减薄到0.5mm左右或更薄，所以可以表现出与塑料同等的挠性。因此，在例如显示装置的制造工序中有效地发挥以耐酸性、耐热性为首的玻璃的长处。而且，作为盖板玻璃表现出优良的观察性、耐久性。

另外，如果接着精细蚀刻(ST16)，设置与实施例3同样的追加蚀刻处理(ST25)，可以使玻璃衬底的端面(从板厚中心O算起-αt～+αT的范围)变形成圆弧面，可以更加提高玻璃强度(参照图5(b))。

针对板厚t的玻璃端面的全部(α＝0.5)或大部分(0.5＞α≥0.35)，圆弧面的曲率半径R优选应为0.4t以上，更优选应为0.5t以上。此外，追加蚀刻的内容与实施例3的二次蚀刻(ST25)相同，应变形成圆弧面的范围(-αt～+αT)和曲率半径R的评价法也与实施例3相同。

以上详细说明了实施例，但具体的记载内容不对本发明构成特别限定。尤其是，不限于为了掩蔽处理而使用感光性薄膜的实施例的制造方法，例如，在实施例2的情形下，在贮存掩蔽材料的槽中浸渍玻璃母材GL而形成覆盖膜层是优选的。如果采用这样的构成，则可以也包含玻璃母材GL的周边地设置覆盖膜层。

(实施例3)

另外，在实施例2中，在剥离抗蚀剂层2B之后进行蚀刻处理(ST15、ST16)，但也可以在残留抗蚀剂层2B的状态下进行蚀刻处理。但是，此时，由于玻璃母材GL不被减薄，所以预先用蚀刻处理减薄到合适的板厚(优选为0.4～0.6mm左右或更薄)是优选的。

图5是用来说明该实施例3的流程图和示意图。用实施例3制造的玻璃衬底用作例如便携电话的液晶显示器的盖板玻璃。另外，也可以用作构成触摸屏一体型的液晶显示器的使用者侧的玻璃衬底。

在实施例3中，取代贴附感光性薄膜部件，而利用浸涂(dipping)法设置感光膜(ST21)。在浸涂法中，把玻璃母材GL以垂直状态浸渍在涂敷液(感光剂)的液槽中，以与涂敷液的粘性对应的速度提起玻璃母材GL，形成预定膜厚的感光膜。另外，在步骤ST21的处理之前，在玻璃母材GL上可以设置反射防止膜，也可以不设置反射防止膜。

然后，把整个玻璃母材GL划分成多个使用区域，在玻璃母材GL上覆盖光掩模4。从光掩模4之上照射紫外线，使感光层2的曝光部2B光硬化(ST22)。然后，用碱溶液使该状态的玻璃母材GL显影，除去感光层2的非曝光部2A(ST23)。

通过以上的处理，玻璃母材GL的表面和背面被耐氢氟酸性的抗蚀剂层2B覆盖。图6示出未被蚀刻的抗蚀剂层2B、和被蚀刻的划分线GV和开口窗HO。如图所示，划分线GV划分作为玻璃衬底的使用区域而纵横状地形成。另外，开口窗HO在作为玻璃衬底的使用区域的内侧以椭圆形形成。该开口窗HO通过步骤ST24的一次蚀刻处理成为贯通孔。

然后，把被抗蚀剂层2B覆盖了的玻璃母材GL浸渍在化学研磨槽中，用化学研磨液一次蚀刻(ST24)。执行该一次蚀刻，在玻璃母材GL的板厚方向上蚀刻划分线GV、开口窗HO，直到贯通玻璃母材GL。因此，在一次蚀刻结束时，利用划分线GV把玻璃母材GL分离成多个玻璃衬底5、5……。

针对各玻璃母材GL，分别保持着其划分线GV的内侧区域(图6的实施例中划分成25个)地进行该一次蚀刻(ST24)。优选地，在一个收存箱内收存一片玻璃母材GL，把多个收存箱浸渍在化学研磨槽中进行。

另外，玻璃母材GL的研磨速度优选为5μm/min以下，更优选为3μm/min左右。这是因为，如果研磨速度过快，则在被蚀刻的划分线GV上再次附着从玻璃母材溶出的玻璃成分(反应产物)，玻璃端面的平坦性恶化。另外，化学研磨液的组成与上述实施例的情形相同。

不管怎样，在一次蚀刻结束时，把玻璃母材GL分离成多个玻璃衬底5、5……。另外，各玻璃衬底5的端面象图5(b)那样形成稍尖的锐角。因此，在使用玻璃衬底5时，该突出部PK不能作为裂纹的起点。

于是，在实施例3中，如果一次蚀刻结束，则把保持多个玻璃衬底5、5……的收存箱移动到另一化学研磨槽，进一步蚀刻各玻璃衬底5的端面(ST25)。另外，二次蚀刻的研磨速度优选为4μm/min以上，更优选为5μm/min左右。

这样的二次蚀刻的结果，划分线GV、开口窗HO进一步被蚀刻，在玻璃衬底的端面上形成的突出部PK变形成曲率半径R的圆弧状。

图5(c)示出二次蚀刻结束时的玻璃衬底5的端面的理想的状态。另外，玻璃端面变形成圆弧状，是因为抗蚀剂层2B的终端部TE从玻璃GL剥离而在图示的水平方向上进行蚀刻。换言之，在实施例3中，形成具有终端部TE因蚀刻液而稍微被剥离的程度的接合力的抗蚀剂层2B。

但是，在实际制造中，无须一定使玻璃衬底5的整个端面都完全地变形成圆弧面，只要突出部PF的锐角部分变形成圆弧状就够了。即，在二次蚀刻(ST25)中，只要以板厚t的玻璃衬底5的板厚中心O为基准，使-αt～+αt的范围变形成曲率半径R的圆弧面就够了(参照图5(d))。在此，0.35≤α≤0.5，利用二次蚀刻(ST25)使玻璃衬底5的端面的全部(α＝0.5)或大部分(0.5＞α≥0.35)成为曲率半径R的圆弧面。

另外，虽然说是曲率半径R的圆弧面，但如果用显微镜观察实际的玻璃端面，是有小波纹的凹凸形状。于是，在实际的玻璃端面的全部或大部分落在0.98R～1.02R的范围内的情况下，在本说明书中就评价成曲率半径是R。图5(e)中，用实线示出曲率半径R的圆弧面，用虚线示出曲率半径R₊＝1.02R的圆弧面、曲率半径R_-＝0.98R的圆弧面。因此，在实际的玻璃端面的全部或大部分位于图5(e)的虚线所示的区域内时，评价成该玻璃端面的曲率半径是R。

另外，针对板厚t的玻璃端面的全部或大部分，把研磨时间设定成，二次蚀刻结束时的曲率半径R优选为0.4t以上(R≥0.4t)，更优选为0.5t以上(R≥0.5t)。如果考虑制造效率，则优选地，把研磨时间设定成曲率半径R为0.4t≤R≤0.6t。

如果以上那样的二次蚀刻结束，则随后把收存玻璃衬底5的收存箱浸渍在剥离槽中，除去抗蚀剂层2B，完成玻璃衬底5(ST26)。另外，也可以在二次蚀刻处理之前除去抗蚀剂层2B，此时可以减薄玻璃衬底并且使玻璃端面变形成圆弧面。

如上所述，利用实施例3也可以制造克服了玻璃脆性的玻璃衬底，有效地发挥以耐酸性、耐热性为首的玻璃的长处。

Claims (10)

1.一种玻璃衬底的制造方法，从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底，其特征在于具有以下工序：

在玻璃母材的表背面中的表面侧设置耐氢氟酸性的抗蚀剂层的抗蚀剂工序(ST2)；

用激光或切割刀刃从玻璃母材的表面侧形成不贯通玻璃母材的划分线，把玻璃母材划分成多个使用区域的划分工序(ST3)；以及

蚀刻经过了划分工序的玻璃母材，从背面侧使玻璃母材减薄，并且使上述划分线加深的蚀刻工序(ST4)。

2.一种玻璃衬底的制造方法，从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底，其特征在于具有以下工序：

在玻璃母材的表背面中的表面侧离散地设置耐氢氟酸性的表面抗蚀剂层，并且在玻璃母材的背面侧在与表面抗蚀剂层对应的位置上也设置耐氢氟酸性的背面抗蚀剂层的抗蚀剂工序(ST11～ST13)；

蚀刻玻璃母材中的未设置抗蚀剂层的部分，形成不贯通玻璃母材的划分线，把玻璃母材划分成多个使用区域的划分工序(ST14)；以及

在剥离了表面抗蚀剂层和背面抗蚀剂层的状态下蚀刻整个玻璃母材，使上述玻璃母材减薄，并且使上述划分线加深的蚀刻工序(ST16)。

3.一种玻璃衬底的制造方法，从一片玻璃母材制造多片电子装置用玻璃衬底，其特征在于具有以下工序：

在玻璃母材的表背面中的表面侧离散地设置耐氢氟酸性的表面抗蚀剂层，并且在玻璃母材的背面侧在与表面抗蚀剂层对应的位置上也设置耐氢氟酸性的背面抗蚀剂层的抗蚀剂工序(ST21～ST23)；

蚀刻玻璃母材中的未设置抗蚀剂层的部分，针对玻璃衬底的每个使用区域分离玻璃母材的分离工序(ST24)；以及

进一步蚀刻上述玻璃衬底的端面，使玻璃端面中的板厚中心区域变形成圆弧面的变形工序(ST25)。

4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其特征在于：

在上述抗蚀剂工序之前在玻璃母材的整个表面侧形成反射防止膜的膜形成工序。

5.如权利要求2或3所述的制造方法，其特征在于：

在完成状态的玻璃衬底中，玻璃端面的板厚中心区域变形成圆弧面，上述圆弧面的曲率半径R相对于玻璃衬底的板厚t为0.4t≤R≤0.6t。

6.如权利要求5所述的制造方法，其特征在于：

以板厚t的玻璃衬底的板厚中心O为基准，在-αt～+αt的范围内形成上述圆弧面，其中，0.35≤α≤0.5。

7.如权利要求4所述的制造方法，其特征在于：

上述反射防止膜是利用溅射处理在玻璃表面上依次层叠SiO₂层、TiO₂层、SiO₂层、TiO₂层、SiO₂层而构成的。

8.如权利要求1～7中任一项所述的制造方法，其特征在于：

上述玻璃母材是碱性玻璃。

9.一种电子装置的制造方法，其特征在于具有：把用如权利要求1～8中任一项的制造方法制造的上述玻璃衬底，作为与使用者接触的盖板玻璃组装到电子装置中的工序。

10.一种电子装置的制造方法，其特征在于具有：把用如权利要求1～8中任一项的制造方法制造的上述玻璃衬底作为触摸屏一体型的显示装置的触摸屏中的使用者侧的部件组装到电子装置中的工序。

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