CN101670459A - 一种小螺旋角麻花钻 - Google Patents

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汤明仙
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Abstract

本发明涉及一种小螺旋角麻花钻,包括钻体(工作部分)和钻柄,其结构角度参数包括原始锋角、使用锋角、钻头螺旋角、横刃斜角、结构后角、尾隙角和周边后角,所述钻头螺旋角为钻头外圆柱面与螺旋槽交线的切线与钻头轴线的夹角,其特征在于所述钻头螺旋角度数为25-35°。本发明密螺麻花钻:降低了钻削抗力;便于切削液流入切削区,减少了钻削热,降低了切削刃上的温度;减轻了切削刃的磨损,提高了钻头的耐用度,提高了生产效率;改善了排屑断屑情况,使操作更安全;钻头切入工件快,定心情况好。

Description

一种小螺旋角麻花钻
技术领域
本发明涉及一种加工工具,尤其是一种金属加工工具,具体地说是一种小螺旋角麻花钻。
背景技术
传统普通麻花钻,自它诞生百余年来,结构形状变化不大,随着科学技术的不断发展,新材料不断涌现,对钻实心孔不断提出新的要求,希望有针对性的专用钻头用于不同材料的加工。
针对钻软质易产生带状长屑的材料,如铝、铝合金、紫铜等,传统麻花钻的螺旋角度为20-30°,钻头主切削刃前角小,切削慢,扭矩和轴向力大,不利于排屑,因而切削温度高,相应钻头磨损大,缩短了钻头寿命。
发明内容
针对上述存在问题,本发明提供一种小螺旋角麻花钻,能有效解决上述存在问题,改善排屑情况,便于切削液流入,降低切削刃上温度,使钻头切入工件快,工作效率高。
为了达到以上目的,本发明采用以下技术方案:一种小螺旋角麻花钻,包括钻体(工作部分)和钻柄,其结构角度参数包括原始锋角、使用锋角、钻头螺旋角、横刃斜角、结构后角、尾隙角和周边后角,其特征在于所述钻头螺旋角度数为25-35°。
由于本发明采用了以上技术方案,所以具有以下优点:
1、降低了钻削抗力,比普通麻花钻降低轴向力30%左右,扭矩降低15%左右。
2、便于切削液流入切削区,减少了钻削热,降低了切削刃上的温度。
3、减轻了切削刃的磨损,提高了钻头的耐用度,从而可提高生产效率3-5倍。
4、改善了排屑断屑情况,使操作更安全。
5、钻头切入工件快,定心情况好。
附图说明
图1为传统麻花钻的结构示意图
图2为本发明密螺麻花钻的结构示意图
图3为钻头螺旋角示意图。
1、钻体  2、钻柄  3、钻头刃带边缘刃  4、钻头轴线
具体实施方式
下面结合附图对本发明作进一步说明。
实施例一:
如图1、图2所示,钻头包括钻体1(工作部分)和钻柄2,如图3所示,螺旋角β是指由钻头刃带边缘刃3(副刃)与钻头轴线4构成的锐夹角,通常,螺旋角β也为刃带边缘刃螺旋角展开到平面直线后与钻头轴线的夹角,本例中螺旋角β的度数为25°,钻头的螺旋角实际上相当于车刀刀片的进给方向前角(或称横向前角),因此,螺旋角越大,则前角越大,使切削轻快,降低了扭矩和轴向力且有利于排屑。如图1和图2我们可以看出,图2的螺旋横明显密于图1,故本专利的麻花钻也称为密螺麻花钻。
经以上加工后形成的密螺麻花钻,降低了钻削抗力,比普通麻花钻降低轴向力30%左右,扭矩降低15%左右;便于切削液流入切削区,减少了钻削热,降低了切削刃上的温度;减轻了切削刃的磨损,提高了钻头的耐用度,从而可提高生产效率3-5倍;改善了排屑断屑情况,使操作更安全;钻头切入工件快,定心情况好。
实施例二:
同实施例一的一种小螺旋角麻花钻,其不同之处在于所述螺旋角β的度数为30°。
实施例二:
同实施例一的一种小螺旋角麻花钻,其不同之处在于所述螺旋角β的度数为35°。
除上述实施例外,本发明还可以有其他实施方式。凡采用等同替换或等效变换形成的技术方案,均落在本发明要求的保护范围内。

Claims (1)

1、一种小螺旋角麻花钻,包括钻体(工作部分)和钻柄,其结构角度参数包括原始锋角、使用锋角、钻头螺旋角、横刃斜角、结构后角、尾隙角和周边后角,其特征在于所述钻头螺旋角度数为25-35°。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN101941010A (zh) * 2010-06-07 2011-01-12 中国神华能源股份有限公司 一种用于管道的除垢工具、除垢装置和除垢方法
CN104942345A (zh) * 2014-03-24 2015-09-30 江苏天工工具有限公司 一种断屑麻花钻
CN105150290A (zh) * 2015-08-13 2015-12-16 王永志 一种建筑木板自动钻孔装置

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Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20100317