CN101099970A - 清洗治具 - Google Patents

Abstract

本发明涉及一种清洗治具，其包括一个盖体及一个本体。该盖体至少开设一个第一通孔，该第一通孔呈漏斗状，该第一通孔具有一个第一开口及一个与第一开口相对且位于漏斗状第一通孔底部的第二开口。该本体至少开设有一个与第一通孔相对应的第二通孔，该第二通孔具有一个第三开口及一个与第三开口相对的第四开口，该第二通孔的孔壁至少具有一个位于第三开口与第四开口之间的环状突出支撑部，该支撑部与第四开口之间的第二通孔部分呈倒漏斗状，盖体与本体配合时，第二开口与第三开口相接，使该支撑部与盖体间至少形成一个收容空间，该收容空间限定该光学元件，以防止该元件从治具中脱落。漏斗状的通孔设计，可增加清洗液的流动性，有效地清洗光学元件。

Description

清洗治具

技术领域

本发明涉及一种夹持装置，尤其涉及一种用于清洗光学元件的清洗治具。

背景技术

随着多媒体技术的发展，照相机、数码照相机、手机照相镜头等成像器材越来越为广大消费者青睐，在人们对照相机、数码照相机、手机照相镜头追求小型化的同时，对其拍摄出物体的影像质量提出更高的要求，即希望拍摄物体的影像画面清晰，而物体的成像质量于很大程度上取决于相机内各光学仪器的优劣。

相机内成像模组一般包括透镜、光学滤光片及影像感测元件，如电荷耦合器Charge Coupled Device，简称CCD，或者补充性氧化金属半导体Complementary Metal-Oxide Semiconductor，简称CMOS。在生产透镜及光学滤光片等这些光学元件过程中，为达到较高的洁净度，一般在这些光学元件镀膜前及镀膜后，都需经过清洗过程，目的是为了去除附着于这些光学元件表面的脏污、油渍及微粒等。而在清洗过程中，需将这些光学元件固定于治具上，并以适当的溶液及高纯度去离子水进行清洗。

一般的光学元件清洗用的治具30，如图1所示，该治具30是利用三点固定的方式固定待清洗之光学元件40。治具30中的三个清洗条302是可在此治具30上做适当距离的调整，利用嵌在该清洗条302上铁氟龙(Teflon)材料所形成的V槽304，分别在元件的左、右、下方给予支撑。惟，铁氟龙所形成的V槽304的厚度及深度会阻挡水流，使光学元件40被夹持的部份清洗不干净，再者在清洗过程中，若夹持光学元件40太松，光学元件40无法承受后期超音波震荡而脱落。或夹持太紧，光学元件40不易放入及不易取出，容易造成损坏。

发明内容

有鉴于此，有必要提供一种可有效辅助清洗光学元件的清洗治具。

一种用于清洗光学元件的清洗治具，其中，包括：一个盖体及一个本体。该盖体至少开设一个第一通孔，该第一通孔呈漏斗状，该第一通孔具有一个第一开口及一个与第一开口相对且位于漏斗状第一通孔底部的第二开口。该本体至少开设有一个与第一通孔相对应的第二通孔，该第二通孔具有一个第三开口及一个与第三开口相对的第四开口，该第二通孔的孔壁至少具有一个位于第三开口与第四开口之间的环状突出支撑部，该支撑部与第四开口之间的第二通孔部分呈倒漏斗状，盖体与本体配合清洗时，第二开口与第三开口相接，使该支撑部与盖体间至少形成一个收容空间，该收容空间限定该光学元件，以防止该光学元件从治具中脱落。

所述的治具，在盖体与本体配合清洗时，可形成用于收容待清洗的光学元件的收容空间，光学元件在收容空间内有活动的空间，不会阻挡清洗液的流动，使光学元件在清洗过程中可全面接触清洗液，从而可被全面清洗，提高了清洗洁净度与良率。由于在清洗过程中，光学元件被限定在收容空间内，不会造成脱落；清洗完毕后，只需将盖体与本体分离，便可方便地取出光学元件。漏斗状的通孔设计，可增加清洗过程中清洗液的流动性，从而提高清洗液流带走光学元件表面脏污的能力，更有效地清洗光学元件。

附图说明

图1为现有技术的一种用于清洗光学元件的清洗治具的使用状态示意图。

图2为本发明第一实施例提供的一种用于清洗光学元件的清洗治具截面示意图。

图3为图2所示清洗治具的一种盖体的截面示意图。

图4为图3所示清洗治具的一种盖体的平面示意图。

图5为图3所示清洗治具的另一种盖体的平面示意图。

图6为图2所示清洗治具的一种本体的平面示意图。

图7为图6所示清洗治具的一种本体的截面示意图。

图8为图2所示清洗治具的另一种本体的平面示意图。

图9为图2所示清洗治具在清洗过程中的一个使用状态示意图。

图10为图2所示清洗治具在清洗过程中的另一个使用状态示意图。

具体实施方式

下面将结合附图对本发明实施例作进一步的详细说明。

请参阅图2，本发明第一实施例提供一种用于清洗光学元件的清洗治具10，该治具10包括一个盖体100、一个本体200及多个用于收容光学元件的收容空间300。该治具10的材料为铝、铝合金、不锈钢、钛合金、铜和耐热工程塑料中的一种，并可以使用CNC(Computerized Numerical Control)加工技术加工制作该治具10。

请参阅图3及图4，盖体100开设有多个第一通孔102，该多个第一通孔102是相隔一定的距离而开设在盖体100上。该第一通孔102呈漏斗状，该第一通孔102具有一个第一开口104及一个与第一开口104相对且位于漏斗状第一通孔102底部的第二开口106，第一开口104的孔径比第二开口106的孔径大。漏斗状的通孔可增加清洗过程中清洗液的流动性，从而提高清洗液流带走光学元件表面脏污的能力。本实施例中，每个第一通孔102沿垂直于该第一通孔102轴向方向的截面为圆形。当然，第一通孔102沿垂直于该第一通孔102轴向方向的截面也可为方形，如图5所示，或及其他形状，如三角形，菱形等。

本体200开设有多个与盖体100的多个第一通孔102相对应的第二通孔202，如图6所示。每个第二通孔202沿垂直于该第二通孔202轴向方向的截面为圆形，其具有一个第三开口204与一个与第三开口204相对的第四开口206，第三开口204的孔径比第二开口106的孔径大。每个第二通孔202的孔壁具有一个位于第三开口204与第四开口206之间的环状突出支撑部208，该环状突出支撑部208所形成的开口为第五开口210。该支撑部208可用于支撑光学元件，该支撑部208与第四开口206间的第二通孔202部分呈倒漏斗状，如图7所示，也可增加清洗过程中清洗液的流动性，从而提高清洗液流带走光学元件表面脏污的能力。当盖体100与本体200配合使用时，第二开口106较第一开口104更接近本体100，且第二开口106与第三开口204相接。优选的，当盖体100与本体200配合时，第一开口104、第二开口106、第三开口204及第四开口206为同心开设在治具10上。当盖体100与本体200相叠起配合清洗时，便会于本体200中形成多个用于收容待清洗光学元件的收容空间300，该收容空间300限定该光学元件，以防止该光学元件在清洗过程中从治具10中脱落。需要指出的是，每个第二通孔202沿垂直于该第二通孔202轴向方向的截面也可为方形，如图8所示，或其他形状，如三角形、菱形等。

优选的，盖体100的第一通孔102的第二开口的孔径与第五开口210孔径相同，且该孔径比待清洗的光学元件的尺寸要小。而本体200的第三开口204的孔径比待清洗的光学元件的尺寸要大。如待清洗的光学元件是圆形，则第一通孔102的第二开口106的孔径与第五开口210孔径相同，且都比该圆形光学元件的直径小，而第三开口204的孔径比该圆形光学元件的直径大。另外，当盖体100与本体200配合使用时，为了可以收容待清洗的光学元件，第三开口204与第五开口210间的距离应比待清洗的光学元件的厚度大。例如，对于直径3.5毫米(mm)、厚0.3mm的待清洗光学元件，可将盖体100的第一通孔102的第二开口106的孔径设计为直径等于3.2±0.1mm，而第二通孔202的第三开口204的孔径设计为直径等于3.7±0.1mm，及第五开口210的孔径设计为直径等于3.2±0.1mm。而第二通孔202的第三开口204与第五开口210间的距离则比待清洗光学元件的厚度大，如第三开口204与第五开口210间的距离为0.6±0.1mm。

为了避免在清洗光学元件时，盖体100与本体200发生移位或脱落，可于盖体100的四个角落的开设四个第一螺孔108，如图4所示，及于本体200开设四个与该四个第一螺孔108相对应的第二螺孔212，如图6所示，最后以螺丝400及螺帽500锁住四个角落，如图9所示，从而可固定盖体100与本体200的相对位置，保证清洗过程能顺利完成。当然，也可以使用其他手段固定盖体100与本体200的相对位置，如以多个夹子600将盖体100与本体200夹住，如图10所示。

请再次参阅图9及图10，当清洗玻璃或塑料镜片20，或其他光学元件前，首先，将待清洗的光学元件20自第二通孔202的第三开口204中放进本体200中，支撑部208用于支撑该光学元件20，然后，将盖体100、本体200叠起并使第一通孔102的第二开口106较第一开口104更接近该本体200，且第二开口106与第三开口204相接，再以上述的固定手段或其他固定手段固定盖体100与本体200的相对位置。

本实施例提供的治具10，通过本体200上开设的不同孔径的开口，及盖体100与本体200配合形成用于收容待清洗的光学元件20的收容空间300，光学元件20在收容空间300内有活动的空间，不会阻挡清洗液的流动，使光学元件20在清洗过程中可全面接触清洗液，从而可被全面清洗，提高了清洗洁净度与良率。由于在清洗过程中，光学元件20被限定在收容空间300内，不会造成脱落；清洗完毕后，只需将盖体100与本体200分离，便可方便地取出光学元件20。漏斗状的通孔设计，可增加清洗过程中清洗液的流动性，从而提高清洗液流带走光学元件20表面脏污的能力，更有效地清洗光学元件20。

另外，本领域技术人员还可以在本发明精神内做其它变化，如通孔形状的变化，盖体及/或本体的形状变化。当然，这些依据本发明精神所做的变化，都应包含在本发明所要求保护的范围之内。

Claims (6)

1.一种用于清洗光学元件的清洗治具，其特征在于，包括：

一个盖体，该盖体至少开设一个第一通孔，该第一通孔呈漏斗状，该第一通孔具有一个第一开口及一个与第一开口相对且位于漏斗状第一通孔底部的第二开口；及

一个本体，该本体至少开设有一个与第一通孔相对应的第二通孔，该第二通孔具有一个第三开口及一个与第三开口相对的第四开口，该第二通孔的孔壁至少具有一个位于第三开口与第四开口之间的环状突出支撑部，该支撑部与第四开口之间的第二通孔部分呈倒漏斗状，盖体与本体配合清洗时，第二开口与第三开口相接，使该支撑部与盖体间至少形成一个收容空间，该收容空间限定该光学元件，以防止该光学元件从治具中脱落。

2.如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述的第一通孔沿垂直于该第一通孔轴向方向的截面为圆形或方形。

3.如权利要求2所述的清洗治具，其特征在于，所述的第二通孔沿垂直于该第二通孔轴向方向的截面为圆形或方形。

4.如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述的第一开口、第二开口、第三开口及第四开口为同心开设在清洗治具上。

5.如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述的盖体进一步包括位于其四个角落的四个第一螺孔，所述本体进一步包括四个与该四个第一螺孔相对应的第二螺孔。

6.如权利要求1所述的清洗治具，其特征在于，所述的治具是用至少一个夹子将盖体与本体配合在一起以固定盖体与本体的相对位置。

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