BRPI1002078A2 - optoelectronic equipment with electromagnetic radiation application system in the region of radio frequency and near infrared waves - Google Patents

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BRPI1002078A2
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Inventor
Rachel Dos Santos Gastesi
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Industra Technologies Ind E Com Ltda
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Abstract

EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÈNICO COM SISTEMA DE APLICAçãO DE RADIAçãO ELETROMAGNéTICA NA REGIãO DAS ONDAS DE RáDIO FREQUêNCIA E DO INFRAVERMELHO PRóXIMO. A patente diz respeito a um equipamento opto-eletrónico com sistema para aplicação de radiação eletromagnética na região das ondas de rádio (RF) e na região do infravermelho próximo (óptica), as quais são entregues de maneira contínua e com alta potência, sendo que a radiação óptica é entregue uniformemente em uma área redonda central e a de RF é aplicada com um ou dois eletrodos, concomitante ou separadamente, com potências máximas de RF até 300W e a óptica até 10W, revelando, ainda, um sistema de refrigeração dos eletrodos, cujo equipamento é utilizado prioritariamente no tratamento de flacidez, celulite e gordura localizada, sendo composto por uma base (1) com monitor e um ou dois manípulos aplicadores (2).OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT WITH ELECTROMAGNETIC RADIATION APPLICATION SYSTEM IN THE RADIO FREQUENCY AND INFRARED WAVES REGION. The patent concerns an opto-electronic equipment with a system for the application of electromagnetic radiation in the region of radio waves (RF) and in the region of near infrared (optical), which are delivered continuously and with high power, being that the optical radiation is delivered uniformly in a central round area and the RF is applied with one or two electrodes, concomitantly or separately, with maximum RF powers up to 300W and the optics up to 10W, also revealing a cooling system for the electrodes , whose equipment is used primarily in the treatment of flaccidity, cellulite and localized fat, consisting of a base (1) with monitor and one or two applicator handles (2).

Description

EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO COM SISTEMA DE APLICAÇÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA NA REGIÃO DAS ONDAS DE RÁDIO FREQÜÊNCIA E DO INFRAVERMELHO PRÓXIMOOPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT WITH ELECTROMAGNETIC RADIATION APPLICATION SYSTEM IN THE REGION OF RADIO FREQUENCY AND NEAR INFRARED WAVES

Campo técnicoTechnical field

A presente patente diz respeito a um equipamento opto- eletrônico com sistema para aplicação de radiação eletromagnética na região das ondas de rádio (RF) e na região do infravermelho próximo (óptica), para aquecer a derme e camada adiposa de forma contínua e controlada, proporcionando o tratamento prioritário da celulite, flacidez e gordura localizada, cujo equipamento é utilizado na área de medicina estética.The present invention relates to an optoelectronic equipment with system for the application of electromagnetic radiation in the radio wave (RF) region and near infrared (optical) region to continuously and controlledly heat the dermis and adipose layer, providing the priority treatment of cellulite, sagging and localized fat, whose equipment is used in the field of aesthetic medicine.

Estado da técnicaState of the art

Tratamentos de flacidez e rugas têm sido desenvolvidos usando a aplicação de radiação RF na epiderme com o objetivo de aquecer e contrair o colágeno existente na derme (camada logo abaixo da epiderme). Atualmente, existem no mercado equipamentos que aplicam RF com um ou mais eletrodos que melhoram a aparência de rugas e flacidez da pele. Também se aplica a mesma técnica para tratamentos de celulite nos quais a cada adiposa (abaixo da derme) recebe a radiação e com o aquecimento ocorre melhoria local do aspecto da pele. Equipamentos assim para ter efeito precisam aplicar uma grande potência para que o tratamento seja efetivo. Como a epiderme apresenta uma maior resistência à radiação RF que a derme, com as altas potências necessárias a um tratamento eficaz, o risco de queimadura da pele e a dor durante o tratamento tornaram necessário um mecanismo de resfriamento local da epiderme. US2007106349, W02006077567, US5755753, entre outras. Existem na literatura e mesmo no mercado equipamentos com sistemas e métodos que aliam o RF com energia óptica para tratamentos estéticos. Por exemplo, US6702808, WO2008068749 e WO2007100190. Nenhum deles, todavia, possui como foco de aplicação e, conseqüentemente, características técnicas para o tratamento de flacidez, gordura localizada e celulite; como explicitado a seguir.Flab and wrinkle treatments have been developed using the application of RF radiation to the epidermis to heat and contract the collagen in the dermis (layer just below the epidermis). Currently, there are equipment on the market that apply RF with one or more electrodes that improve the appearance of wrinkles and sagging skin. The same technique also applies to cellulite treatments in which each adipose (below the dermis) receives radiation and with warming occurs local improvement of the appearance of the skin. Equipment like this to be effective needs to apply a great deal of power for the treatment to be effective. Because the epidermis has greater resistance to RF radiation than the dermis, with the high power required for effective treatment, the risk of skin burn and pain during treatment has required a local cooling mechanism of the epidermis. US2007106349, W02006077567, US5755753, among others. There are in the literature and even in the market equipment with systems and methods that combine RF with optical energy for aesthetic treatments. For example, US6702808, WO2008068749 and WO2007100190. None of them, however, has a focus of application and, consequently, technical characteristics for the treatment of sagging, localized fat and cellulite; as explained below.

A patente US6702808 (Syneron Medicai LTD) apresenta um sistema e método de tratamento que utiliza simultaneamente energia óptica e RF. Este equipamento, todavia foi desenvolvido para remoção de pêlos primordialmente, ainda que preveja o tratamento de flacidez entre suas aplicações. Como o foco principal está na remoção de pelos, as energias são entregues de maneira pulsada, gerando um pico de temperatura acima daquele desejado para o tratamento de flacidez e gordura localizada; buscando atingir os bulbos capilares, ou seja, concentrando mais a energia tanto óptica quanto das ondas de rádio. Tal equipamento prevê como potência máxima de RF 200W entregue em pulsos de no máximo 0,5s e densidade de potência óptica máxima de 100W/cm2 em intervalos de no máximo 0,2s. Tais níveis de potência e intervalos de tempo evidenciam que o objetivo é alcançar os folículos capilares e elevar rapidamente sua temperatura de maneira localizada e não aquecer as células de gordura uniformemente em uma região profunda como é o caso desejado em tratamento de gordura localizada. Um equipamento com esse fim deveria ser capaz de aplicar uma potência mais alta de RF por um tempo mais longo e, por outro lado, a potência óptica não precisa ser tão concentrada, porém, deve também ser aplicada de maneira constante por períodos de tempo mais longos; o que tal equipamento não permite. A patente W02008068749 (Syneron Medicai LTD) apresenta um sistema e método que utiliza RF e energia luminosa, sendo esta concentrada em pequenas regiões para tratamento de rugas. O documento argumenta que os sistemas eficientes de rejuvenescimento facial utilizam um laser ablativo como CO2, pois têm de causar danos a grandes áreas da pele para produzirem um efeito satisfatório. Esse tipo de tratamento além de ser muito doloroso, apresenta longo período de recuperação e podem deixar efeitos indesejados. A solução apresentada é então a utilização de um laser focalizado em pequenas áreas nas quais o dano seria o mesmo de um laser ablativo, porém, como a área atingida é muito menor, o período de recuperação e o desconforto da aplicação seriam reduzidos drasticamente. Como se vê é um equipamento diferente da invenção ora reivindicada, pois a idéia é usar o laser para aquecer muito pequenas áreas e gerar danos à pele. As características do equipamento permitem um tratamento de rugas, porém para a melhora da flacidez e gordura localizada o equipamento não é eficaz.US6702808 (Syneron Medical LTD) discloses a system and treatment method that simultaneously uses optical energy and RF. This equipment, however, was developed primarily for hair removal, although it provides for the treatment of sagging between its applications. As the main focus is on hair removal, energies are delivered in a pulsed manner, generating a temperature peak above that desired for the treatment of sagging and localized fat; reaching the capillary bulbs, that is, concentrating more energy both optical and radio waves. Such equipment predicts as maximum RF power 200W delivered in pulses of maximum 0.5s and maximum optical power density of 100W / cm2 at intervals of maximum 0.2s. Such power levels and time intervals show that the goal is to reach the hair follicles and rapidly raise their temperature in a localized manner and not to heat the fat cells evenly in a deep region as is the case with localized fat treatment. Equipment for this purpose should be able to apply higher RF power for a longer time and, on the other hand, optical power need not be as concentrated, but should also be applied steadily for longer periods of time. long; what such equipment does not allow. W02008068749 (Syneron Medical LTD) discloses a system and method that uses RF and light energy, which is concentrated in small regions for wrinkle treatment. The paper argues that efficient facial rejuvenation systems use an ablative laser such as CO2 because they have to damage large areas of the skin to produce a satisfactory effect. This type of treatment is very painful, has a long recovery period and can leave unwanted effects. The solution presented here is the use of a laser focused on small areas where the damage would be the same as an ablative laser, but as the area affected is much smaller, the recovery period and the discomfort of the application would be reduced dramatically. As it turns out is a different equipment from the invention claimed here, because the idea is to use the laser to heat very small areas and generate damage to the skin. The characteristics of the equipment allow a treatment of wrinkles, but for the improvement of sagging and localized fat the equipment is not effective.

A patente W02007100190 se refere a um equipamento para tratamento da pele que aplica radiações RF e óptica associadas a um sistema de vácuo que puxa a pele para o meio dos dois eletrodos de maneira que a radiação RF é aplicada nessa região que fica em contato com os eletrodos que também são resfriados. A energia óptica é entregue por meio de um elemento central que permite a passagem da luz. Não são delimitados valores para a potência da luz nem da radiação RF. Também nem a freqüência desta radiação ou o modo como ela é entregue, se pulsada ou continuamente, são descritos. Apenas o comprimento de onda da radiação óptica é escolhido preferencialmente 915nm. Além desse mecanismo principal, há ainda no equipamento outra fonte de luz que envia através do mesmo elemento transparente luz na região do visível com a intenção de acelerar o processo de recuperação da área tratada e também permitir a utilização do equipamento para outras aplicações como terapia fotodinâmica. O foco principal de aplicação desse equipamento não é explicitado na patente, porém, pela comparação com o estado da técnica, deduz-se que o equipamento pretende tratar rugas e lesões superficiais da pele como espinhas; ou seja, o tratamento busca atingir a camada de colágeno na derme para melhorar o aspecto da epiderme. O equipamento conta apenas com a configuração de dois eletrodos (bipolar), sabe-se que um aplicador com dois eletrodos tem uma profundidade de penetração menor que aquele com apenas um eletrodo (monopolar).Patent W02007100190 relates to a skin care apparatus that applies RF and optical radiation associated with a vacuum system that pulls the skin into the middle of the two electrodes so that RF radiation is applied to that region in contact with the electrodes. electrodes that are also cooled. Optical energy is delivered through a central element that allows light to pass through. No values are set for the power of light or RF radiation. Neither the frequency of this radiation or the way it is delivered, whether pulsed or continuously, is described. Only the wavelength of the optical radiation is preferably chosen at 915nm. In addition to this main mechanism, there is still another light source in the equipment that sends light through the same transparent element in the visible region with the intention of accelerating the recovery process of the treated area and also allowing the use of the equipment for other applications such as photodynamic therapy . The main focus of application of this equipment is not explained in the patent, however, by comparison with the state of the art, it is deduced that the equipment intends to treat wrinkles and superficial skin lesions as pimples; that is, the treatment seeks to reach the collagen layer in the dermis to improve the appearance of the epidermis. The equipment has only the configuration of two electrodes (bipolar), it is known that an applicator with two electrodes has a penetration depth less than that with only one electrode (monopolar).

O equipamento não atinge a camada adiposa logo abaixo da derme e assim não se destina a tratar gordura localizada, celulite, ou flacidez; não sendo assim um equipamento eficiente para o tratamento dessas condições.The equipment does not reach the fat layer just below the dermis and thus is not intended to treat localized fat, cellulite, or sagging; thus not being an efficient equipment for the treatment of these conditions.

Como pode ser observado, as tecnologias existentes que utilizam RF e luz não se destinam a tratar gordura localizada, flacidez e celulite. Tratamentos para estas condições requerem um aquecimento uniforme e constante tanto da derme (onde se encontra o colágeno), como a camada adiposa, ainda mais profunda que a derme. Este aquecimento interno não deve ferir a epiderme e, para tanto, um sistema de resfriamento controlado da pele deve estar presente no sistema aplicador. Para tratar de forma eficaz e não invasiva esses problemas estéticos seria extremamente desejado que houvesse um equipamento que permitisse a aplicação contínua e controlada de energia de ondas de rádio com alta potência e energia luminosa no comprimento de onda preciso para atingir e modificar a derme e a camada adiposa logo abaixo da epiderme. Objetivo da invençãoAs you can see, existing RF and light technologies are not intended to treat localized fat, sagging and cellulite. Treatments for these conditions require uniform and constant heating of both the dermis (where collagen is found) and the adipose layer, even deeper than the dermis. This internal heating should not injure the epidermis and therefore a controlled skin cooling system must be present in the applicator system. In order to effectively and non-invasively address these aesthetic problems, it would be extremely desirable to have equipment that would allow the continuous and controlled application of high wavelength radio wave energy and light energy at the precise wavelength to reach and modify the dermis and adipose layer just below the epidermis. Purpose of the invention

O equipamento aplica diretamente sobre a pele ondas de rádio (RF) aliadas a energia óptica para aquecer a derme e a camada adiposa de forma contínua e controlada para tratar prioritariamente a celulite, flacidez e gordura localizada, sendo uma alternativa não invasiva a procedimentos como face lifting e lipoaspiração localizada.The equipment applies directly to the skin radio waves (RF) combined with optical energy to heat the dermis and adipose layer continuously and controlled to treat cellulite, sagging and localized fat as a priority, being a non-invasive alternative to procedures such as face lifting and localized liposuction.

Descrição das figurasDescription of the figures

A figura 1 ilustra o equipamento composto de base (1) com monitor (display) e manipulo aplicador (2).Figure 1 illustrates the basic composite equipment (1) with monitor (display) and applicator handle (2).

A figura 2 apresenta um esquema com os componentes mais importantes do manipulo aplicador em uma possível configuração, neste caso, bipolar. A fonte de energia óptica (3) é fixada na parte traseira do manipulo, com a face que emite (7) posicionada anteriormente ao elemento transparente (4). Este elemento está afixado entre um dos eletrodos (5) do emissor de radiofreqüência que está isolado do outro eletrodo (6) por meio de um material intermediário (11). Toda essa estrutura é fixada sobre uma base metálica (8) que contém um elemento termoelétrico (9) isolando o eletrodo da base e um elemento isolante (10) que separa os dois eletrodos.Figure 2 presents a scheme with the most important components of the applicator handle in a possible bipolar configuration. The optical power source (3) is fixed to the rear of the handle, with the emitting face (7) positioned anteriorly to the transparent element (4). This element is affixed between one of the radiofrequency emitter electrodes (5) which is isolated from the other electrode (6) by an intermediate material (11). This entire structure is fixed on a metal base (8) that contains a thermoelectric element (9) isolating the electrode from the base and an insulating element (10) that separates the two electrodes.

A figura 3 apresenta um esquema com os componentes mais importantes do manipulo aplicador em uma possível configuração, neste caso, monopolar. A fonte de energia óptica (3) é fixada na parte traseira do manipulo, com a face que emite (7) posicionada anteriormente ao elemento transparente (4). Este elemento está afixado entre um dos eletrodos (6) do emissor de radiofreqüência. Toda essa estrutura é fixada sobre uma base metálica (8) que contém um elemento termoelétrico (9) isolando o eletrodo da base e um elemento isolante (10) que separa os dois eletrodos. Nesta configuração, somente o eletrodo (6) entra em contato com a pele do paciente.Figure 3 presents a scheme with the most important components of the applicator handle in a possible, in this case, monopolar configuration. The optical power source (3) is fixed to the rear of the handle, with the emitting face (7) positioned anteriorly to the transparent element (4). This element is affixed between one of the radiofrequency emitter electrodes (6). This entire structure is fixed on a metal base (8) that contains a thermoelectric element (9) isolating the electrode from the base and an insulating element (10) that separates the two electrodes. In this configuration, only the electrode (6) contacts the patient's skin.

A figura 4 apresenta um esquema de um manipulo bipolar na qual a fonte luminosa não se encontra fixada no manipulo e a luz é entregue via fibra óptica.Figure 4 shows a schematic of a bipolar handle in which the light source is not fixed to the handle and the light is delivered via optical fiber.

A figura 5 apresenta um esquema de um manipulo monopolar na qual a fonte luminosa não se encontra fixada no manipulo e a luz é entregue via fibra óptica.Figure 5 shows a schematic of a monopolar handle in which the light source is not fixed to the handle and the light is delivered via optical fiber.

A figura 6 apresenta uma visualização do invólucro isolante externo do manipulo. Descrição detalhada da invençãoFigure 6 shows a view of the outer insulating housing of the handle. Detailed Description of the Invention

A invenção se refere a um equipamento com sistema que permite aplicar radiação eletromagnética na região das ondas de rádio (RF) e na região óptica (infravermelho próximo) para aquecer camadas profundas abaixo da epiderme. Este aquecimento é utilizado prioritariamente no tratamento de flacidez, celulite e gordura localizada. Ambas as radiações podem ser entregues de maneira contínua e com alta potência maximizando os efeitos de cada tratamento. A radiação óptica é entregue uniformemente em uma área redonda central e a de RF pode ser aplicada com um ou dois eletrodos. As radiações RF e óptica podem ser aplicadas concomitante ou separadamente, dependendo do objetivo alvo de cada tratamento. As potências máximas são altas, de RF pode chegar a 300W e a óptica a 10W, para garantir um tratamento eficaz, porém não são suficientes para causar grandes danos aos tecidos o que tornaria o tratamento muito agressivo. Para evitar danos à pele do paciente, um sistema de refrigeração dos eletrodos mantém a pele a uma temperatura segura.The invention relates to apparatus with a system for applying electromagnetic radiation to the radio wave (RF) region and the optical region (near infrared) to heat deep layers below the epidermis. This heating is used primarily in the treatment of sagging, cellulite and localized fat. Both radiations can be delivered continuously and with high power maximizing the effects of each treatment. Optical radiation is delivered uniformly over a central round area and RF radiation can be applied with one or two electrodes. RF and optical radiation may be applied concurrently or separately, depending on the target objective of each treatment. The maximum powers are high, RF can reach 300W and optics 10W, to ensure effective treatment, but are not enough to cause major tissue damage which would make the treatment very aggressive. To prevent damage to the patient's skin, an electrode cooling system keeps the skin at a safe temperature.

O equipamento opto-eletrônico com sistema para aplicação de radiação eletromagnética na região das ondas de rádio (RF) e na região do infravermelho próximo (óptica) é composto por uma base (1) com monitor e um ou dois manípulos aplicadores (2), conforme pode ser observado na figura 1.The optoelectronic equipment with system for the application of electromagnetic radiation in the region of radio waves (RF) and in the near infrared (optical) region consists of a base (1) with monitor and one or two applicator knobs (2), as can be seen in figure 1.

A base (1) contém as fontes de alimentação, sistema de refrigeração, sistema de geração e amplificação de radiação RF1 sistema de controle da parte óptica podendo ou não abrigar a fonte de radiação óptica; preferencialmente, ela fica dentro do manipulo.The base (1) contains the power supplies, cooling system, radiation generation and amplification system RF1 optical control system and may or may not house the optical radiation source; preferably it is within the handle.

O equipamento pleiteado contém um ou dois manípulos aplicadores (2).The claimed equipment contains one or two applicator knobs (2).

Nos manípulos aplicadores, encontra-se pelo menos uma fonte emissora de luz que pode ser coerente (laser) ou não emitindo na região do infravermelho próximo (780nm-2000nm) de forma contínua (CW); sendo preferencialmente uma fonte laser (3) colocada dentro no manipulo. O laser pode ser de qualquer tipo desde que emita na região do infravermelho; preferencialmente, um laser de diodo emitindo próximo a 915nm. A potência da fonte pode ser controlada sendo que o máximo valor desta fique entre 1W e poucas dezenas de Watts; preferencialmente entre 5W e 20W. A fonte de luz, que pode ou não estar dentro do manipulo, deve ter sua saída (7) obrigatoriamente dentro do manipulo e posicionada logo atrás de um elemento transparente à luz da região do infravermelho próximo (4) que guiará a luz uniformemente até a pele do paciente. Esta saída pode conter fibra óptica ou não. O elemento transparente possui duas funções, uma já descrita (guiar a luz) e outra de remover calor da pele tratada. O elemento transparente pode ser feito de qualquer material transparente a essa faixa de luz, sendo preferencialmente feito de safira. Este elemento pode ter formato cilíndrico, toroidal, trapezoidal; preferencialmente sendo cilíndrico.In the applicator knobs there is at least one light emitting source which may be coherent (laser) or non-emitting in the near infrared region (780nm-2000nm) continuously (CW); preferably being a laser source (3) placed within the handle. The laser can be of any type as long as it emits in the infrared region; preferably, a diode laser emitting close to 915nm. The power of the source can be controlled with the maximum value between 1W and a few dozen Watts; preferably between 5W and 20W. The light source, which may or may not be within the handle, must have its outlet (7) necessarily within the handle and positioned just behind a light transparent element from the near infrared region (4) which will guide the light evenly into the light. patient's skin. This output may or may not contain optical fiber. The transparent element has two functions, one already described (guiding the light) and another to remove heat from the treated skin. The transparent element may be made of any material transparent to this range of light, preferably made of sapphire. This element may be cylindrical, toroidal, trapezoidal in shape; preferably being cylindrical.

O manipulo possui também os eletrodos da radiação RF (5 e 6). Estes podem ser de duas configurações preferenciais, com dois ou apenas um eletrodo em contato com a pele. No primeiro caso, a configuração é dita bipolar e no segundo, monopolar; preferencialmente, em um dos manípulos a configuração é monopolar (Fig. 3) e no outro, bipolar (Fig. 2). Os eletrodos são feitos de metal, preferencialmente alumínio. A temperatura dos eletrodos é controlada e eles podem ou não ser mantidos resfriados a uma temperatura próxima a zero grau Celsius.The handle also has the RF radiation electrodes (5 and 6). These can be of two preferred configurations, with two or just one electrode in contact with the skin. In the first case, the configuration is called bipolar and in the second, monopolar; preferably in one handle the configuration is monopolar (Fig. 3) and in the other bipolar (Fig. 2). The electrodes are made of metal, preferably aluminum. The temperature of the electrodes is controlled and they may or may not be kept cool at a temperature close to zero degrees Celsius.

Cada manipulo contém uma base metálica (8), podendo ser de qualquer material bom condutor elétrico e térmico, dentro da qual circula água refrigerada ou não. Preferencialmente, essa base é feita de alumínio. Acima desta base, são colocados os eletrodos de maneira a ficarem isolados eletricamente entre si e em relação à base. Um ou mais elementos termoelétricos podem ou não ser fixados entre um eletrodo e a base. Se colocado o elemento termoelétrico (9), ele deve ficar com a face fria em contato com o eletrodo (5). Acima do primeiro eletrodo, deve ficar um material isolante elétrico e condutor térmico (10) de maneira a manter os eletrodos isolados, porém resfriados. Este material isolante pode ser qualquer desde que conduza bem o calor, sendo preferencialmente, alumina.Each handle contains a metal base (8), and may be of any good electrical and thermal conductive material, inside which circulates chilled or uncooled water. Preferably, this base is made of aluminum. Above this base, the electrodes are placed so that they are electrically isolated from each other and relative to the base. One or more thermoelectric elements may or may not be fixed between an electrode and the base. If the thermoelectric element (9) is placed, it should have a cold face in contact with the electrode (5). Above the first electrode, there should be an electrical insulating material and thermal conductor (10) in order to keep the electrodes isolated but cool. This insulating material can be any as long as it conducts heat well, preferably alumina.

A radiação de ondas de rádio deve ser gerada por um gerador e amplificada por um amplificador até chegar à potência de tratamento. O amplificador e o gerador podem ficar fora do manipulo que contém apenas os eletrodos de aplicação e o sinal amplificado é levado aos eletrodos por cabos metálicos. Quando alguma das radiações (RF ou óptica) estiver sendo aplicada, um LED indicativo (12) fica aceso na parte posterior do manipulo.Radio wave radiation must be generated by a generator and amplified by an amplifier until it reaches the treatment power. The amplifier and generator may be outside the handle containing only the application electrodes and the amplified signal is carried to the electrodes by metal cables. When any of the radiation (RF or optical) is being applied, an indicator LED (12) is lit on the back of the handle.

O controle da temperatura dos eletrodos pode ser constante ou retroalimentado. O mecanismo atuador para variação desta temperatura pode conter elemento termoelétrico ou somente passagem de fluido refrigerado (nessa hipótese, um elemento isolante elétrico e condutor térmico deve ser colocado no lugar do elemento termoelétrico). O elemento transparente é posicionado de maneira a ter uma grande área em contato com os eletrodos e se manter na mesma temperatura destes; preferencialmente, fica na região central dos eletrodos.The temperature control of the electrodes can be constant or feedback. The actuator mechanism for varying this temperature may contain thermoelectric element or only refrigerant passage (in this case, an electrical insulating element and thermal conductor must be placed in place of the thermoelectric element). The transparent element is positioned so that it has a large area in contact with the electrodes and remains at the same temperature as the electrodes; preferably it is in the central region of the electrodes.

Os aplicadores são revestidos externamente por um invólucro isolante que contém um apoio para que sejam manipulados seguramente pelo operador (Fig. 6).The applicators are externally coated by an insulating housing containing a support for safe handling by the operator (Fig. 6).

As radiações são emitidas pelos manípulos quando estes estão com a face com os eletrodos e o elemento transparente pressionada sobre a pele do paciente. Devendo o manipulo ser mantido em movimento constante para que sempre ocorra o resfriamento das áreas tratadas e a distribuição de energia seja uniforme nas regiões de interesse do tratamento. As radiações (RF e luminosa) podem ser aplicadas conjunta ou separadamente.Radiations are emitted by the handles when they are with the face with the electrodes and the transparent element pressed on the patient's skin. The handle should be kept in constant motion so that the cooling of the treated areas always occurs and the energy distribution is uniform in the regions of interest of the treatment. Radiations (RF and light) can be applied together or separately.

Em uma configuração preferencial, a fonte luminosa é um laser de diodo cuja saída é através de uma fibra óptica. Esta fonte é colocada dentro do manipulo e sua saída luminosa fixada atrás do elemento transparente, neste caso, a safira. O eletrodo nesse caso é monopolar. O resfriamento é feito por um elemento termoelétrico e na base circula água a temperatura ambiente. Em outra configuração preferencial, a fonte luminosa é um laser de diodo cuja saída é através de uma fibra óptica. Esta fonte é colocada dentro do manipulo e sua saída luminosa fixada atrás do elemento transparente, neste caso, a safira. O eletrodo nesse caso é bipolar. O resfriamento é feito por um elemento termoelétrico e na base circula água a temperatura ambiente.In a preferred embodiment, the light source is a diode laser whose output is through an optical fiber. This source is placed inside the handle and its light output is fixed behind the transparent element, in this case the sapphire. The electrode in this case is monopolar. The cooling is done by a thermoelectric element and at the base circulates water at room temperature. In another preferred embodiment, the light source is a diode laser whose output is through an optical fiber. This source is placed inside the handle and its light output is fixed behind the transparent element, in this case the sapphire. The electrode in this case is bipolar. The cooling is done by a thermoelectric element and at the base circulates water at room temperature.

Em outra configuração preferencial ainda, a fonte luminosa é um laser de diodo cuja saída é através de uma fibra óptica. Esta fonte é colocada fora do manipulo e sua saída luminosa fixada atrás do elemento transparente, neste caso, a safira. O eletrodo nesse caso é monopolar. O resfriamento é feito por um elemento termoelétrico e na base circula água a temperatura ambiente.In yet another preferred embodiment, the light source is a diode laser whose output is through an optical fiber. This source is placed outside the handle and its light output is fixed behind the transparent element, in this case the sapphire. The electrode in this case is monopolar. The cooling is done by a thermoelectric element and at the base circulates water at room temperature.

Em mais uma configuração preferencial, a fonte luminosa é um laser de diodo cuja saída é através de uma fibra óptica. Esta fonte é colocada fora do manipulo e sua saída luminosa fixada atrás do elemento transparente, neste caso, a safira. O eletrodo nesse caso é bipolar. O resfriamento é feito por um elemento termoelétrico e na base circula água a temperatura ambiente.In a further preferred embodiment, the light source is a diode laser whose output is through an optical fiber. This source is placed outside the handle and its light output is fixed behind the transparent element, in this case the sapphire. The electrode in this case is bipolar. The cooling is done by a thermoelectric element and at the base circulates water at room temperature.

Em uma configuração preferencial, a fonte luminosa é um laser de diodo cuja saída é através de uma fibra óptica. Esta fonte é colocada fora do manipulo e sua saída luminosa fixada atrás do elemento transparente, neste caso, a safira. O eletrodo nesse caso é bipolar (fig. 4). O resfriamento é feito por um fluido resfriado a temperatura próxima a zero que circula na base.In a preferred embodiment, the light source is a diode laser whose output is through an optical fiber. This source is placed outside the handle and its light output is fixed behind the transparent element, in this case the sapphire. The electrode in this case is bipolar (fig. 4). The cooling is done by a fluid cooled to near zero temperature that circulates in the base.

Em uma configuração preferencial, a fonte luminosa é um laser de diodo cuja saída é através de uma fibra óptica. Esta fonte é colocada fora do manipulo e sua saída luminosa fixada atrás do elemento transparente, neste caso, a safira. O eletrodo nesse caso é monopolar (fig. 5). O resfriamento é feito por um fluido resfriado a temperatura próxima a zero que circula na base.In a preferred embodiment, the light source is a diode laser whose output is through an optical fiber. This source is placed outside the handle and its light output is fixed behind the transparent element, in this case the sapphire. The electrode in this case is monopolar (fig. 5). The cooling is done by a fluid cooled to near zero temperature that circulates in the base.

Claims (28)

1. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO COM SISTEMA DE APLICAÇÃO DE RADIAÇÃO ELETROMAGNÉTICA NA REGIÃO DAS ONDAS DE RÁDIO FREQÜÊNCIA E DO INFRAVERMELHO PRÓXIMO, caracterizado pelas radiações serem entregues de maneira contínua e com alta potência, sendo que radiação óptica é entregue uniformemente em uma área redonda central e a de RF é aplicada com um ou dois eletrodos, cujas radiações podem ser aplicadas concomitante ou separadamente, com potências máximas de RF até 300W e a óptica até 10W, apresentando um sistema de refrigeração dos eletrodos, cujo equipamento é utilizado prioritariamente no tratamento de flacidez, celulite e gordura localizada, sendo composto por uma base (1) com monitor e um ou dois manípulos aplicadores (2).1. OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT WITH ELECTROMAGNETIC RADIATION APPLICATION SYSTEM IN THE REGION OF RADIO FREQUENCY AND NEAR INFRARED WAVES, characterized in that radiations are delivered continuously and at high power, with optical radiation being delivered uniformly to a central round area. and RF is applied with one or two electrodes, whose radiations can be applied simultaneously or separately, with maximum RF powers up to 300W and optics up to 10W, featuring an electrode cooling system, whose equipment is primarily used in the treatment of sagging, cellulite and localized fat, consisting of a base (1) with monitor and one or two applicator knobs (2). 2. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela base alojar as fontes de alimentação, sistema de refrigeração, sistema de geração e amplificação de radiação RF, sistema de controle da parte óptica podendo ou não abrigar a fonte de radiação óptica.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the base houses the power supplies, the cooling system, the RF radiation generation and amplification system, the optical control system and may or may not house the radiation source. optics. 3. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela fonte de radiação óptica ficar dentro do manipulo.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the optical radiation source is within the handle. 4. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelos manípulos aplicadores (2) possuírem pelo menos uma fonte de luz (1).OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the applicator knobs (2) have at least one light source (1). 5. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela fonte de luz (3) ser coerente ou não emitindo na região do infravermelho próximo (780nm-2000nm) de forma contínua (CW).OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the light source (3) is coherent or not emitting in the near infrared region (780nm-2000nm) continuously (CW). 6. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela fonte luz (3) ser preferencialmente uma fonte laser.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the light source (3) is preferably a laser source. 7. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo laser ser de qualquer tipo desde que emita na região do infravermelho.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the laser is of any type as long as it emits in the infrared region. 8. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo laser ser um laser de diodo emitindo próximo a 915nm.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the laser is a diode laser emitting close to 915nm. 9. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela potência da fonte ser controlada, com valor máximo entre 1W e poucas dezenas de Watts.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the power of the source is controlled, with a maximum value between 1W and a few tens of Watts. 10. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela potência da fonte ser controlada entre 5W e 20W.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the power supply is controlled between 5W and 20W. 11. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela fonte de luz ter sua saída (7) posicionada logo atrás de um elemento transparente à luz da região do infravermelho próximo (4).OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the light source has its output (7) positioned just behind a light-transparent element of the near infrared region (4). 12. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por permitir o uso de fibra óptica após a saída do laser.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that it permits the use of fiber optics after laser output. 13. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com as reivindicações 1 e 11, caracterizado pelo elemento transparente guiar a luz e remover o calor da pele tratada.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claims 1 and 11, characterized in that the transparent element guides the light and removes heat from the treated skin. 14. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo elemento ter a temperatura controlada, ser ou não mantido a uma temperatura próxima de zero grau Celsius.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the element is temperature controlled or not maintained at a temperature close to zero degrees Celsius. 15. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo elemento transparente ser feito de qualquer material transparente a essa faixa de luz.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the transparent element is made of any material transparent to that light strip. 16. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo elemento transparente ser feito de safira.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the transparent element is made of sapphire. 17. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo elemento transparente ter formato cilíndrico, toroidal e/ou trapezoidal.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the transparent element is cylindrical, toroidal and / or trapezoidal in shape. 18. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo elemento transparente ter formato cilíndrico.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the transparent element has a cylindrical shape. 19. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo manipulo conter também os eletrodos de aplicação da radiação RF (5 e 6).OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the handle also contains the RF radiation application electrodes (5 and 6). 20. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelos eletrodos apresentarem configurações monopolar e/ou bipolar, com um ou ambos os eletrodos em contato com a pele.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the electrodes have monopolar and / or bipolar configurations with one or both electrodes in contact with the skin. 21. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelos eletrodos em um dos manípulos possuir a configuração monopolar e no outro, bipolar.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the electrodes on one handle have a monopolar configuration and the other on a bipolar configuration. 22. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelos eletrodos serem de feitos de metal, preferencialmente alumínio.Optoelectronic equipment according to claim 1, characterized in that the electrodes are made of metal, preferably aluminum. 23. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela temperatura dos eletrodos ser controlada e eles podem ou não ser mantidos resfriados a uma temperatura próxima a zero grau Celsius.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the temperature of the electrodes is controlled and may or may not be kept cool at a temperature close to zero degrees Celsius. 24. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pela variação de temperatura do eletrodo e do elemento transparente ser feita pela atuação de um bloco de resfriamento (8) podendo conter elemento termoelétrico ou somente passagem de fluido refrigerado.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the temperature variation of the electrode and the transparent element is caused by the actuation of a cooling block (8) which may contain thermoelectric element or only the passage of refrigerated fluid. 25. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo elemento transparente ser posicionado de maneira a ter uma grande área em contato com os eletrodos e se manter na mesma temperatura destes.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the transparent element is positioned so that it has a large area in contact with the electrodes and remains at the same temperature as these. 26. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo elemento transparente ser posicionado, preferencialmente, na região central dos eletrodos.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the transparent element is preferably positioned in the central region of the electrodes. 27. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelos aplicadores possuírem invólucros isolantes contendo um apoio para que sejam manipulados.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the applicators have insulating shells containing a support for manipulation. 28. EQUIPAMENTO OPTO-ELETRÔNICO, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelas radiações serem emitidas pelos manípulos quando estes estão com a face com os eletrodos e o elemento transparente pressionada sobre a pele do paciente.OPTO-ELECTRONIC EQUIPMENT according to claim 1, characterized in that the radiations are emitted by the handles when they are with the face with the electrodes and the transparent element pressed on the patient's skin.
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