BRPI0714462A2 - bases fotolatentes para adesivos - Google Patents

bases fotolatentes para adesivos Download PDF

Info

Publication number
BRPI0714462A2
BRPI0714462A2 BRPI0714462A BRPI0714462A2 BR PI0714462 A2 BRPI0714462 A2 BR PI0714462A2 BR PI0714462 A BRPI0714462 A BR PI0714462A BR PI0714462 A2 BRPI0714462 A2 BR PI0714462A2
Authority
BR
Brazil
Prior art keywords
alkyl
formula
c1
c4
substituted
Prior art date
Application number
Other languages
English (en)
Inventor
Katja Studer
Tunja Jung
Kurt Dietliker
Original Assignee
Ciba Holding Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Priority to EP06117329 priority Critical
Application filed by Ciba Holding Inc filed Critical Ciba Holding Inc
Priority to PCT/EP2007/056917 priority patent/WO2008009575A2/en
Publication of BRPI0714462A2 publication Critical patent/BRPI0714462A2/pt

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/28Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen characterised by the compounds used containing active hydrogen
    • C08G18/30Low-molecular-weight compounds
    • C08G18/38Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen
    • C08G18/3855Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having sulfur
    • C08G18/3876Low-molecular-weight compounds having heteroatoms other than oxygen having sulfur containing mercapto groups
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/10Prepolymer processes involving reaction of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen in a first reaction step
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/16Catalysts
    • C08G18/18Catalysts containing secondary or tertiary amines or salts thereof
    • C08G18/1841Catalysts containing secondary or tertiary amines or salts thereof having carbonyl groups which may be linked to one or more nitrogen or oxygen atoms
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08GMACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
    • C08G18/00Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates
    • C08G18/06Polymeric products of isocyanates or isothiocyanates with compounds having active hydrogen
    • C08G18/08Processes
    • C08G18/16Catalysts
    • C08G18/18Catalysts containing secondary or tertiary amines or salts thereof
    • C08G18/20Heterocyclic amines; Salts thereof
    • C08G18/2045Heterocyclic amines; Salts thereof containing condensed heterocyclic rings
    • C08G18/2063Heterocyclic amines; Salts thereof containing condensed heterocyclic rings having two nitrogen atoms in the condensed ring system
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JAdhesives; non-mechanical aspects of adhesive processes in general; adhesive processes not provided for elsewhere; use of material as adhesives
    • C09J175/00Adhesives based on polyureas or polyurethanes; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J175/04Polyurethanes
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JAdhesives; non-mechanical aspects of adhesive processes in general; adhesive processes not provided for elsewhere; use of material as adhesives
    • C09J5/00Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09JAdhesives; non-mechanical aspects of adhesive processes in general; adhesive processes not provided for elsewhere; use of material as adhesives
    • C09J2475/00Presence of polyurethane

Abstract

BASES FOTOLATENTES PARA ADESIVOS. A presente invenção refere-se a um método de colar um primeiro substrato em um segundo substrato, compreendendo as etapas de (a) aplicar uma composição de resina adesiva curável por UV compreendendo uma base fotolatente a ao menos uma superfície transparente de ao menos um dos ditos primeiro e segundo substratos, (b) colocar os ditos primeiro e segundo substratos juntos com a dita composição adesiva entre eles, (c) expor a dita composição adesiva à radiação actínica para efetuar a cura.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "BASES FO- TOLATENTES PARA ADESIVOS". Campo da Invenção

A presente invenção refere-se a um método de colar um primeiro substrato em um segundo substrato por meio de uma composição adesiva curável por radiação compreendendo uma base fotolatente.

Encontrar o equilíbrio certo entre a estabilidade da formulação e a reatividade em baixa temperatura sob atmosfera ambiente é a preocupa- ção principal da maior parte dos sistemas adesivos. Adesivos 2K, geralmente baseados em NCO/OH, NCO/SH, e

epóxi/aminas exigem a adição de um catalisador para curar em um curto período de tempo em baixa temperatura, que encurta a vida útil da formula- ção.

Adesivos 1K, geralmente baseados em epóxis ou isocianatos curados por umidade também exigem a presença de um catalisador de mo- do a acelerar a cura em baixa temperatura, que aqui novamente mostra a principal desvantagem de negativamente afetar a estabilidade da formula- ção. Outras formulações de adesivo 1K, tais como cianoacrilatos ou políme- ro modificado por silano, também reagem com a umidade do ambiente em temperatura ambiente, dando às formulações estabilidade pobre.

Os adesivos anaeróbicos, usualmente contendo pequenas quan- tidades de peróxido e aceleradores, permanecem líquidos contanto que eles estejam em contato com oxigênio atmosférico, mas curam geralmente dentro de poucas horas uma vez localizados em uma atmosfera inerte ou em conta- to com uma superfície metálica. Para armazenamento, é necessário preen- cher metade do frasco com ar para evitar qualquer gelificação prematura.

Os sistemas de adesivos curáveis por UV reagem em tempera- tura ambiente depois de ativação de luz e permanecem estáveis no escuro. A cura é, entretanto, ou parcialmente inibida por oxigênio dissolvido ou di- fundido no caso de acrilatos ou sensíveis à umidade no caso de epóxis. A escolha de grupos curáveis por UV é também limitada a epóxis ou ligações duplas até agora. Termofusíveis ou plastisol têm que ser processados em alta temperatura (entre 120°C e 240°C) antes do uso, o que limita a faixa de apli- cação a substratos que são resistentes ao calor.

A Patente Européia EP898202B1 (Ciba) descreve composições curáveis catalisadas por base compreendendo compostos alfa-aminocetona como base latente e seu uso em adesivos baseados em resinas de epóxido (vide parágrafo 0002). Uma resina adequada é, por exemplo, um poliacrilato com 3 a 5% de função carboxílica e uma novolaca epóxi fenol (vide Ex. 1).

O pedido internacional WO 01/92362 (AKZO) refere-se a uma composição de revestimento fotoativável compreendendo ao menos um poli- isocianato e ao menos um composto compreendendo grupos reativos a iso- cianato. Os grupos reativos a isocianato compreendem ao menos um grupo tiol e o fotoiniciador é uma base fotolatente. As composições de revestimen- to mostram particular utilidade como revestimentos claros, revestimentos de base, revestimentos de topo pigmentados, primers, e excipientes (fillers). WO 01/92362 parece fornecer nenhuma sugestão para uso de qualquer tal copolímero como um adesivo ou em um adesivo.

O pedido internacional WO 06008251 (Ciba) descreve um pro- cesso para a aplicação de uma base fotolatente onde um adesivo compre- endendo o dito catalisador é submetido à irradiação antes de ser adicional- mente processado. Entretanto, as propriedades do adesivo não são suficien- tes.

Concluiu-se agora que a exposição depois da laminação resulta em cura mais rápida. Ademais, o catalisador de diamina usualmente presen- te em sistemas OH/NCO ou SH/NCO pode ser substituído pela base latente.

Assim, a presente invenção refere-se a um método de colar um primeiro substrato em um segundo substrato compreendendo as etapas de:

(a) aplicar uma composição de resina adesiva curável por UV compreendendo uma base fotolatente a ao menos uma superfície transpa-

rente de ao menos um dos ditos primeiro e segundo substratos,

(b) colocar os ditos primeiro e segundo substratos juntos com a dita composição adesiva entre eles, (c) expor a dita composição adesiva à radiação actínica para efetuar a cura.

Uma questão adicional da invenção é um método de colar um primeiro substrato em um segundo substrato compreendendo as etapas de: (a) aplicar uma composição de resina adesiva curável por UV

compreendendo uma base fotolatente a uma superfície,

(b) expor a dita composição adesiva à radiação actínica para efetuar a cura,

(c) colocar os ditos primeiro e segundo substratos juntos com a dita composição adesiva entre eles.

Definições Substratos

Em uma modalidade da invenção, ao menos um substrato tem que ser transparente e é preferencialmente selecionado a partir de vidro, fibra de vidro, material cerâmico, papel e plásticos tais como poliéster, polie- tileno, policarbonato, polietileno, polipropileno, poliestireno, cloreto de polivi- nila, borrachas e similares.

O outro substrato (ou ambos os substratos em outra modalidade da invenção) é, por exemplo, não-transparente e pode ser, em adição, metal, cerâmica, madeira, borracha, plástico não-transparente, por exemplo, plásti- co colorido, como descrito acima, e similares. Adesivo curável por UV

Os adesivos curáveis por UV são preferencialmente sistemas OH/NCO ou SH/NCO. Esses adesivos são produzidos pela reação de con- densação de um poli-isocianato orgânico com um composto contendo hidro- gênio ativo.

O composto de isocianato pode ser qualquer isocianato ou poli- isocianato aromático, alifático, cicloalifático, acril alifático, ou heterocíclico, e os pré-polímeros ou misturas dos mesmos. O termo "poli-isocianatos" inclui di-isocianatos, tri-isocianatos, tetraisocianatos, etc., e misturas dos mesmos. Os compostos de isocianato adequados são, por exemplo, comercialmente disponíveis a partir da Bayer sob a marca Demodur® ou da Rhodia sob a marca Tolonate®.

O composto contendo hidrogênio ativo tem grupos funcionais que são, por exemplo, selecionados a partir do grupo que consiste em - COOH, -OH1 -NH2, -NH-, -CONH2, -SH, e -CONH-. Preferencialmente, o composto contendo hidrogênio ativo é OH ou SH resultando em resinas OH/NCO e SH/NCO.

Por exemplo, o componente isocianato e/ou hidrogênio ativo po- de ser bloqueado para aumentar a vida útil da formulação. O agente de blo- queio é liberado sob a ação de calor e/ou do catalisador ativo. Exemplos de componentes bloqueados adequados são conhecidos pelos versados na técnica.

Os sistemas OH/NCO são conhecidos como adesivos de poliu- retano. Os adesivos de poliuretano são, por exemplo, adesivos de poliureta- no de um componente (adesivos PU 1K) ou adesivos de poliuretano de dois componentes (adesivos PU 1K).

Os polióis poliéster e os polióis poliéter preferencialmente usa- dos como composto contendo hidrogênio ativo em resinas OH/NCO são, por exemplo, materiais comercialmente disponíveis. Os poliéster polióis adequa- dos são comercialmente disponíveis, por exemplo, sob a marca Desmo- phen® e Baycoll®.

Opcionalmente, um extensor de cadeia de amina alifática multi- funcional está presente na composição de adesivo. Exemplos de extensores de cadeia adicionais no Iigante são dados em "Formulierung von Kleb- und Dichtstoffen, B. Müller, W. Rath, Vincentz Network, Hannover, 2004, pág. 121", por exemplo, dióis ou trióis de peso molecular relativamente baixo tal como 1,2-etanodiol, 1,4-butanodiol, 1,6-hexanodiol, 2-etil-1,3-hexanodiol e 1,4-ciclohexanodimetanol. Tais compostos adicionalmente incluem etileno diamina, 1,4-butanodiamina, isoforona diamina, trietilenotetraamina, e oxido de trietileno diamina.

Ademais, os dessecantes podem estar presentes tal como, por

exemplo, Baylith L.

Os compostos contendo grupo tiol adequados são aqueles des- critos em WO 01/92362. Como descrito aqui, a maior parte dos compostos funcionais de tiol são pentaeritritol tetraquis (3-mercaptopropionato) e 3- mercaptopropionato. A Base Fotolatente

Quaisquer bases fotolatentes processando basicidade adequada são aplicáveis no contexto da presente invenção.

Assim, a base fotolatente é, por exemplo, um composto de fór- mula (I) como descrito em EP 970085 (Ciba) ou WO 03/033500 (Ciba) (a descrição desses documentos aqui é incorporada por referência).

^7 ^ - Rk

7 N 6

^^n*4 (I), na qual

fW R

'3

R2

Ri é fenila, bifenilila, naftila, antrila ou antraquinonila, todas das quais são não-substituídas ou substituídas por um ou mais dos substituintes C1-C4- alquila, C2-C4-alquenila, CN, ORi0, SR10, COOR12, halogênio ou um substitu- inte de estrutura (II)

7 N 6

Rsh n'R' (") 0U

fY

R2

Ri é um substituinte de fórmula (IIIa) ou (IIIb) (llla),

R,„

R13

Rl3 (lllb), na qual

R15

o

Ri3 é fenila, bifenilila, naftila, antrila ou antraquinonila, todas das quais são não-substituídas ou substituídas por um ou mais dos substituintes CrC4-alquila, C2-C4-alquenila, CN, OR10, SRi0, CORn, COORi2l halogênio, R14 é hidrogênio, R15 é hidrogênio ou CrC4-alquila, FÍ2 e R3 independentemente um do outro são hidrogênio ou Cr

C6-alquila,

R4 e R6 juntos formam uma ponte C2-C6-alquileno que é não- substituída ou substituída por uma ou mais CrC4-alquila, ou

R5 e R7, juntos formam uma ponte C2-C6-alquileno que é não- substituída ou substituída por uma ou mais CrC4-alquila,

R10, R11 e Ri2 independentemente uns dos outros são hidrogênio ou CrC6-alquila.

Preferência especial é dada a um composto de fórmula (I)

7 N 6

(I), na qual

R3 / R1 r2

Ri é fenila, bifenilila ou naftila, todas das quais são não-

substituídas ou substituídas por um ou mais dos substituintes CrC4-alquila, CN1 OR10, SR10, COORi2, ou um substituinte de estrutura (II)

\ , re

7 N 6

R5h^n'R4 (II)

fV

r2

ou

Ri é um substituinte de fórmula (III)

r,3

(III), na qual

«15 Rl4

Ri é fenila, bifenilila ou naftila, todas das quais são não-

substituídas ou substituídas por um ou mais dos substituintes Ci-C4-alquila, CN, OR10, SR10, ou COOR12,

Ri4 e Ri5 são hidrogênio,

R2 e R3 independentemente um do outro são hidrogênio ou C-r

Ce-alquila, R4 e R6 juntos formam uma ponte C3-alquileno que é não- substituída ou substituída por uma ou mais CrC4-alquila, ou

R5 e R7, juntos formam uma ponte C3-C5-alquileno que é não- substituída ou substituída por uma ou mais CrC4-alquila, R10 e Ri2 independentemente um do outro são hidrogênio ou Cr

C6-alquila.

Preferidos são compostos como

η

onde Ar é fenila, bifenilila ou naftila, todos dos quais são não-substituídos ou substituídos por um ou mais dos substituintes CrC4-alquila, CN, OH, O-Ci- C6alquila, SH1 S-CrC6-alquila, COOH, COO-CrC6-alquila.

Um exemplo especialmente preferencial é 5-benzil-1,5-

diazabiciclo[4.3.0]nonano fi^L .nOj

H2 XJ

Considerando os compostos de fórmula I onde Ri é um substitu- inte de fórmula III, exemplos são ? Γ H1 ' I IJ .

3 L N

CH2 CH2

Ademais, a base fotolatente a ser usada no presente método é

um composto de fórmula IV como descrito em EP 898202 (Ciba), (a descri- ção do dito documento é aqui incorporada por referência).

O R1 R

-N 3 (IV), na qual

Ar1-C-

An é um radical aromático de formula V ou Vlll

(V)

R6 P 7

(VIM) U é -N(R17)-,

V tem o significado de U ou é uma ligação direta, Ri e R2 são, cada um, independentemente um do outro

a) Ci-Ci2-alquila, que é não-substituída ou substituída por OH, Ci-C4-alcóxi, ou SH,

b) um radical de fórmula —(CHR13)-C=C-R16 ou

c) um radical de fórmula —^ /CH2)q na cIual q é O, ou 1, ou

d) um radical de fórmula -CH-Ar2,

e) fenila que é Ci-C4-alquila não-substituída ou substituída,

10

ou Ri e R2 juntos são C4-C6-alquileno ou C3-Cs-oxaalquileno não-ramificados ou ramificados,

Ar2 é fenila que é não-substituída ou substituída por halogênio, OH1 CrCi2-alquila, ou é substituída por CrC4-alquila, que é substituída por OH, halogênio, CrC^-alcóxi, -COO(CrC4-alquila), -CO(OCH2CH2)nOCH3 ou -OCO(Ci-C4-alquila), ou o radical fenila, é substituído por CrC4-alcóxi, - (OCH2CH2)nOH1 ou -(OCH2CH2)nOCH3,

η é 1 a 5,

R3 é CrC4-alquila, C2-C4-alquila que é substituída por -OH1 -Cr C4-alcóxi, -CN, ou -COO (CrC4-alquila), ou R3 é C3-C5-alquenila, ou fenil-Cr C3-alquila-;

R4 é CrC4-alquila, C2-C4-alquila que é substituída por-OH, -C1- C4-alcóxi, -CN, ou -COO(CrC4-alquila), ou R3 é C3-C5-alquenila, ou fenil-Cr C3-alquila-, ou R3 e R4 juntos são C3-C7-alquileno que podem ser interrompi- dos por -O-, ou -S-;

Rs, R6, R7, Re e R9 são, cada um, independentemente um do

outro hidrogênio, halogênio, Ci-C-12-alquila, fenila, benzila, benzoíla, ou um grupo -OR17, -SRi8, -N(R19)(R20), ou

λ

-N

R2 R4

Z é -O-, -S-, -N(R11)-, -N(R11)-R12-N(R11)- ou —ν \i— ; Rn é CrC4-alquila,

Ri2 é C2-Ci6-alquileno não-ramificado ou ramificado que pode ser interrompido por um ou mais -O- ou -S-;

R13 é hidrogênio ou CrC4-alquila, Ri4, R15 e R16 são, cada um, independentemente um do outro

hidrogênio ou CrC4-alquila, ou Ri4 e Ri5juntos são C3-C4-alquileno,

Ri7 é hidrogênio, CrCi2-alquila, C3-C6-alquenila, C2-C6-alquila que é substituída por -CN1-OH ou -COO (CrC4-alquila),

Ri8 é hidrogênio, CrCi2-alquila, C3-C6-alquenila, C2-Ci2-alquila que é substituída por -OH, -CN, -COO(CrC4-alquila),

Ri9 e R20 são, cada um, independentemente do outro, C1-C6- alquila, C2-C4-hidroxialquila, C2-Ci0-alcóxialquila, C3-C5-alquenila, fenil-Cr C3-alquila, fenila que é não substituída ou substituída por Ci-C4-alquila ou CrC4-alcóxi, ou R19 e R20 são C2-C3-alkanoíla ou benzoíla, ou R19 e R2O são -O(CO-Ci-C8)0-OH;

o é 1 a 15,

ou Ri9 e R20 juntos são C4-C6-alquileno que podem ser interrom- pidos por -O, -N(R22)- ou -S-, ou Ri9 e R2O juntos são C4-C6-alquileno que podem ser substituídos por hidroxila, CrC4-alcóxi ou -COO(Ci-C4-alquila), R22 é CrC4-alquila, fenil-Ci-C3-alquila, -CH2CH2-COO (CrC4-alquila), - CH2CH2CN, -CH2CH2-COO(CH2CH2O)q-H ou

Rft R7 ^ L=/ o R1 R3

-CH2CHrCOO(CH2CH2O)-CO-CH2CHrN N—á Λ— C—|— N 3 . e

N / ) ( R2 R4 '

R8 R9

q é 1 a 8.

Preferidos são os compostos da fórmula (IV)

O R1 r

Il 1 /3

Ar1-C-

N (IV), na qual

R2 R4

Ar1 é um radical aromático de fórmula V ou Vlll

K R1 O

(VIII)

Ri e R2 são, cada um, independentemente um do outro

a) CrC6-alquila, que é não-substituída ou substituída por OH, Ci-C4-alcóxi, ou SH1

b) um radical de fórmula —(CHR13)-C=C-R16 ,

R13

c) um radical de fórmula -QH-Ar2.

ou Ri e R2 juntos são C4-C6-alquileno não-ramificados ou ramifi- cado,

Ar2 é fenila que é não-substituída ou substituída por OH, C1-Ce- alquila, ou é substituída por CrC4-alquila, que é substituída por OH, C1-C4- alcóxi, -COO(CrC4-alquila), ou o radical fenila é substituído por Ci-C4-alcóxi, -(OCH2CH2)nOH, ou -(OCH2CH2)nOCH3,

η é 1-3,

R3 é CrC4-alquila, C2-C4-alquila que é substituída por -OH, -C1- C4-alcóxi, -CN, ou -COO(CrC4-alquila), ou R3 é C3-alquenila, ou fenil-Cr alquila-,

R4 é CrC4-alquila, C2-C4-alquila que é substituída por -OH, -C1- C4-alcóxi, -CN, ou -COO(CrC4-alquila), ou R3 é C3-alquenila, ou fenil-C-i- alquila-, ou R3 e R4 juntos são C4-C5-alquileno que pode ser interrompido por -O-;

R7 e Rs são hidrogênio;

R5, R6, e R9 são, cada um, independentemente um do hidrogê- nio, halogênio, CrC4-alquila, fenila, benzila, ou um grupo -ORi7, -SRi8, - N(Ri9)(R20);

Ri3 é hidrogênio ou metila, R

14, R15 β R-I6 são cada um independentemente um do outro hi- drogênio ou metila,

R17 é hidrogênio, CrC6-alquila, C3-C6-alquenila;

R18 é hidrogênio, CrC4-alquila, C3-C6-alquenila; Rig e R2O são, cada um, independentemente do outro C1-C6- alquila, C2-C4-NdiOxiaIquiIa, C2-Ci0-alcoxialquila, C3-C5-alquenila, fenil-Ci- C3-alquila, ou R19 e R20 são -O(CO-C1-C8)0-OH

ou Ri9 e R2O juntos são C4-C5-alquileno que pode ser interrompi- do por -O, -N(R22)- ou -S-; o é 1 a 10,

R22 é CrC4-alquila, fenil-CrC3-alquila, -CH2CH2-COO(CrC4- alquila), -CH2CH2-COO(CH2CH2O)q-H ou

>=< 0 Ri Ro

/ \ Il 1 /3

-CH2CHrCOO(CH2CH2O)-CO-CH2CHrN N—^ C-f-N . e

)—( R2 K '

R8 R9

q é 1 a 6.

No contexto da presente invenção, toda alquila, alquileno e oxa- alquileno definidos, não-interrompidos ou interrompidos, entendem-se como sendo lineares (não-ramificados) ou ramificados, mesmo se não expressa- mente determinado na definição como tal.

Exemplos de compostos específicos são:

,-V /=\ O /=\

O C2H5 ^^^

H3C^ \

-N CH,

° -

μ p^-N CH„ CH3

HO

CH,

VO-^O

CH3

H3° CH3

CH, - O

S1V ch>

XH η = 0-10,

Η,C-N

I

CH, C2H5

U

Q-N^Vfo

CH3 CH, Ingredientes Opcionais

A composição de adesivo da invenção opcionalmente também contém outros compostos tais como antioxidantes (especialmente compos- tos Hals), resinas excipiente (filler), espessantes, agentes de ajustamento de fluidez, plasticizadores, agentes antiformação de espuma e similares, co- nhecidos na técnica por tais composições. Quantidades

A base fotolatente é, por exemplo, usada em uma quantidade entre 0,01 a 10% do peso de material curável sólido, preferencialmente 0,05 a 5% do peso, mais preferencialmente, 0,05 a 3% do peso. O poli-isocianato pode ser misturado com o composto tendo uma função OH/SH por qualquer técnica adequada conhecida na técnica.

Os adesivos pré-polimerizados contendo isocianato e os grupos reativos (protegidos ou não) são, por exemplo, processados em alta tempe- ratura e revestidos no substrato seguindo o processo termofusível, a seguir a cura completa é alcançada por uma etapa de cura adicional envolvendo os grupos reativos, que são realizados por fotoativação do catalisador fotolaten- te (isto é, o composto de base fotolatente).

Os adesivos termofusíveis são interessantes como adesivos sensíveis à pressão (PSA) e adequados para substituir o uso de composi- ções baseadas em solvente, que a partir de um ponto de vista ambiental são desvantajosas. O processo de extrusão termofusível necessita de altas tem- peraturas de aplicação de modo a alcançar a alta viscosidade de fluxo. As composições da presente invenção compreendendo grupos reativos são a- dequadas como reticuladores na preparação de um revestimento termofusí- vel, onde os reticuladores entram em uma reação química com os co- monômeros funcionais do PSA (met)acrilato. Depois da operação de reves- timento, os PSAs são primeiro termicamente reticulados, ou, implementando o mecanismo de reticulação duplo, o PSA é subseqüentemente reticulado com luz UV. A irradiação de reticulação UV, por exemplo, é efetuada por meio de radiação ultravioleta de onda curta em uma faixa de comprimento de onda de 200 a 400 nm, dependendo do fotoiniciador UV. Tais sistemas e processos são, por exemplo, descritos em US 2006/0052472. Radiação

A radiação adequada está presente, por exemplo, na luz solar

ou luz a partir de fontes de luz artificiais. Consequentemente, um grande número de tipos muito diferentes de fonte de luz é empregado. Ambas as fontes e arranjos pontuais ("carpetes de lâmpadas") são adequadas. Exem- plos são lâmpadas de arco de carbono, lâmpadas de arco de xenon, lâmpa- das de mercúrio de média alta e baixa pressão, possivelmente dopadas com haletos metálicos (lâmpadas de metal-halogênio), lâmpadas de vapor de metal excitado por micro-ondas, lâmpadas rápidas eletrônicas, lâmpadas de inundação fotográficas, diodos de emissão de luz (LED, OLED), feixes ele- trônicos e raios X, produzido por meio de sincrotons ou plasma a laser. As lâmpadas fluorescentes são preferenciais, as quais produzem uma luz A UV. Uma lâmpada adequada é, por exemplo, a lâmpada azul actínica Philips TL20W/05 que emite luz entre 300 nm e 400 nm. Espessura

A espessura da película adesiva formada é preferencialmente de

5 a 200 μιη. Vantagem

Empregar bases fotolatentes para disparar a cura de adesivos usando luz permitiria uma rápida cura em baixa temperatura enquanto man- tendo a formulação adesiva estável no escuro. A cura não é inibida por oxi- gênio ou umidade.

Os exemplos que seguem ilustram a invenção em mais detalhes, sem restringir o escopo dos ditos exemplos somente. Partes e porcentagens são, como no restante da descrição e das reivindicações, por peso, a menos que de outra forma determinado. Quando os radicais alquila tendo mais de três átomos de carbono são referidos nos exemplos sem qualquer menção a isômeros específicos, entende-se o n-isômeros em cada caso.

Os seguintes compostos de base fotolatente são usados nos exemplos: PLB-1 CH3

CH3O H3C^ sCH3

O CH3 -.

PLB-2 CH3-S—\ (IRGACURE® 907 fornecido por Ciba

^—' ch3 ^—' Specialty Chemicals)

,-, O C2H5

PLB-3 o X—í >_{L<Lc-(;> (IRGACURE® 369 fornecido por Ciba

Specialty Chemicals)

w //

/ \ H,C CH,

PLB-4 "2 Η

o p+J

-C»„,N—(\ /)—C-Ç-C,H

2" '5

Μ - -N

2 H3C CH3

PLB-5

. Il

H2 H2 ί?Ί H5 CH3/=X O H2C

"tV^oVNW^ ' 0η0θ " = 0 3 >10

L H2 H2 H2 Jnu ^2 w^Nwj

OO

H3C CH3

PLB-6 v /=V

Exemplo 1 - Sistema SH/NCO

% peso Produto Descrição 0,2 g PLB-1 Base Fotolatente 13,3 g Trimetilolpropano tris(3 mercapto- propionato) (AIdrich) Componente tiol g Tolonato HDT LV (Rhodia) Componente isocianato

O PLB-1 é dissolvido no componente tiol e o isocianato é adicio- nado brevemente antes da aplicação.

Uma película grossa de 120 pm é aplicada a uma placa de vidro (placa A). Uma segunda placa de vidro (placa B), não-revestida com o ade- sivo, é pressionada na placa A. Depois de laminar a placa Aea placa Β, o sistema é irradiado por 5 minutos sob uma lâmpada fluorescente (Philips TL20W/05). Depois de irradiação, não é mais possível separar ambas as placas de vidro. Como uma comparação, o mesmo experimento é repetido com um sistema armazenado por 5 minutos no escuro ao invés de ser irradi- ado. Ambas as placas de vidro podem ser facilmente desconectadas, a for- mulação sendo ainda líquida.

Exemplo 2 - Sistema OH/NCO Componente A (componente OH)

Peso (g) Produto Descrição 104 Desmophen 5034 BT (Bayer AG) Poliol éter polipropileno trifun- cional 181 Baycoll VP KA 8576 (Bayer AG) Poliol poliéster Baylith L (Bayer AG) Dessecante 1 Isoforeno diaminas (Bayer AG) Extensor de cadeia

Uma formulação tendo a seguinte composição é preparada:

Peso (g) Produto Descrição 0,3 PLB-1 Base Fotolatente 2 Acetato de butila (AIdrich) Solvente Componente A Componente OH Desmodur E 23 (Bayer AG) Pré-polímero de poli- isocianato aromático

Uma película grossa de 10 pm da formulação mencionada acima

é laminada entre dois cristais BaF2 e adicionalmente exposta à luz UV (lâm- pada de mercúrio de média pressão AETEK Internacional, um passo em uma velocidade de correia de 5m/min com 2 lâmpadas a 80 W/cm). A reação é monitorada por espectroscopia IV seguindo a diminuição do pico de isoci- anato a 2271 cm"1 em temperatura ambiente depois de exposição a UV. Quanto menor o teor de NCO1 melhores são as propriedades adesivas da película.

Como uma comparação, o mesmo experimento é executado pa- ra uma película não-laminada e para uma película não-exposta. Os resulta- dos são dados na tabela abaixo, e mostram claramente que a cura do adesi- vo é mais rápida para a película exposta e laminada. Tempo em RT (min) Teor de NCO (%) Laminada e exposta a UV Não-irradiada Não- Iaminada e exposta a UV 0 66 100 84 49 85 66 9 40 78 56 14 31 71 47 19 25 64 40 24 20 58 35 16 52 31

Exemplo 3 Componente A (componente OH):

Peso (g) Produto Descrição 104 Desmophen 5034 BT (Bayer AG) Poliol éter polipropileno trifun- cional 181,2 Baycoll VP KA 8576 (Bayer AG) Poliol poliéster

Uma formulação tendo a seguinte composição é preparada:

Peso (g) Produto Descrição 0,3 PLB-1 Base fotolatente 2 Acetato de butila (AIdrich) Solvente Componente A componente OH Desmodur E 23 (Bayer AG) Pré-polímero de poli- isocianato aromático

PLB-1 é dissolvido no componente Aeo isocianato é adicionado

brevemente antes da aplicação.

Uma película grossa de 100 pm é aplicada em uma placa de vidro (placa A). A película é seca por 10 minutos a 40°C. Uma segunda pla- ca de vidro (placa B), não revestida com o adesivo, é pressionada sobre a placa A. Depois de laminar a placa Aea placa Β, o sistema é exposto a luz UV (lâmpada de mercúrio de pressão média a partir de IST, um passo em uma velocidade de correia de 5 m/min com 2 lâmpadas a 80 W/cm). 30 mi- nutos depois de irradiação, não é mais possível separar ambas as placas de vidro. Como uma comparação, o mesmo experimento é repetido com um sistema armazenado por 30 minutos no escuro ao invés de ser irradiado. Ambas as placas de vidro podem ser facilmente desconectadas, a formula- ção sendo ainda líquida.

Exemplo 4

Uma composição com os seguintes ingredientes é preparada:

Peso (g) Produto Descrição 0,2 g Fotoiniciador a ser testado Base fotolatente 13,3 g Trimetilolpropano tris(3- mercaptopropionato) (AIdrich) Componente tiol g Tolonato HDT LV (Rhodia) Componente isocianato

A base fotolatente é dissolvida no componente tiol e o isocianato é adicionado brevemente antes de aplicação. As amostras com PLB-2, PLB- 3, PLB-4 e PLB-5 são preparadas.

Uma película grossa de 100 pm é aplicada em uma placa de

vidro (placa A). A película é seca por 10 minutos a 40°C. Uma segunda pla- ca de vidro (placa B), não-revestida com o adesivo, é pressionada sobre a placa A. Depois de laminar a placa Aea placa B1 as amostras são expostas por 5 minutos a uma lâmpada fluorescente (Philips TL40W/05). Depois de irradiação, com todas as amostras não é mais possível separar ambas as placas de vidro. Como uma comparação, o mesmo experimento é repetido com um sistema armazenado por 5 minutos no escuro ao invés de ser irradi- ado. Ambas as placas de vidro podem ser facilmente desconectadas, a for- mulação sendo ainda líquida. Exemplo 5:

Uma composição com os seguintes ingredientes é preparada:

Peso (g) Produto Descrição 0,2 g PLB-1 Base fotolatente 13,3 g tris(3-mercaptopropionato) tri- metilolpropano (AIdrich) Componente tiol g Tolonato HDT LV (Rhodia) Componente isocianato

PLB-1 é dissolvido no componente tiol e o isocianato é adiciona-

do brevemente antes da aplicação. Uma película grossa de 100 pm é aplicada em um substrato o- paco (placa A). A película é seca por 10 minutos a 40°C. O sistema é expos- to por 1 minuto a uma lâmpada fluorescente (Philips TL40W/05). Imediata- mente após a exposição, um segundo substrato opaco (placa B), não- revestido com o adesivo, é pressionado na placa A. Depois de 10 segundos, não é mais possível separar ambas as placas. Exemplo 6

Componente A (Componente OH):

Peso (g) Produto Descrição 104 Desmophen 5034 BT (Bayer AG) Poliol éter polipropileno trifuncional 181,2 Baycoll VP KA 8576 (Bayer AG) Poliol Poliéster

Uma formulação tendo a seguinte composição é preparada:

Peso (g) Produto Descrição 0,3 PLB-6 Base fotolatente 0,3 DAROCUR® ITX (Ciba specialty Chemicals) Sensibilizador (isopropiltioxan- tona) 2 Acetato de butila (AIdrich) Solvente Componente A componente OH Desmodur E 23 (Bayer AG) Pré-polímero de poli- isocianato aromático

PLB-6 e o sensibilizador são dissolvidos no componente Aeo

isocianato é adicionado brevemente antes da aplicação.

Uma película grossa de 100 pm é aplicada em uma placa de vidro (placa A). A película é seca por 10 minutos a 40°C. Uma segunda pla- ca de vidro (placa B), não-revestida com o adesivo, é pressionada sobre a placa A. Depois de laminar a placa Aea placa Β, o sistema é exposto à luz UV (lâmpada de mercúrio de pressão média a partir de IST, um passo em uma velocidade de correia de 5 m/min com 2 lâmpadas a 80 W/cm). 100 mi- nutos após irradiação, não é mais possível separar ambas as placas de vi- dro.

Claims (11)

1. Método de colar um primeiro substrato em um segundo subs- trato, compreendendo as etapas de: a) aplicar uma composição de resina adesiva curável por UV compreendendo uma base fotolatente a ao menos uma superfície transpa- rente de ao menos um dos ditos primeiro e segundo substratos, b) colocar os ditos primeiro e segundo substratos juntos com a dita composição adesiva entre eles, c) expor a dita composição adesiva à radiação actínica para efe- tuar a cura.
2. Método de colar um primeiro substrato em um segundo subs- trato, compreendendo as etapas de: a) aplicar uma composição de resina adesiva curável por UV compreendendo uma base fotolatente a uma superfície, b) expor a dita composição adesiva à radiação actínica para efe- tuar a cura, c) colocar os ditos primeiro e segundo substratos juntos com a dita composição adesiva entre eles.
3. Método, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, em que a base fotolatente é um composto da fórmula (I) <formula>formula see original document page 20</formula> quais são não-substituídas ou substituídas por um ou mais dos substituintes Ci-C4-alquila, C2-C4-alquenila, CN, ORi0, SRi0, COORi2, halogênio ou um substituinte de estrutura (II) (I), na qual Ri é fenila, bifenilila, naftila, antrila ou antraquinonila, todas das <formula>formula see original document page 21</formula> Ri é um substituinte de fórmula (IIIa) ou (IIIb) <formula>formula see original document page 21</formula> (Illb)1 na qual Ri3 é fenila, bifenilila, naftila, antrila ou antraquinonila, todas das quais são não-substituídas ou substituídas por um ou mais dos substituintes C1-Czralquila, C2-C4-alquenila, CN1 ORi0, SRi0, COR11, COOR12, ou halogê- nio, C6-alquila, R4 e R6 juntos formam uma ponte C2-C6-alquileno que é não- substituída ou substituída por uma ou mais CrC4-alquila, ou R5 e R7, juntos formam uma ponte C2-C6-alquileno que é não substituída ou substituída por uma ou mais CrC4-alquila, R io, R11 e R12 independentemente uns dos outros são hidrogênio ou C1-C6^lquila.
4. Método, de acordo com a reivindicação 3, em que a base foto- Iatente é um composto Ar é fenila, bifenilila ou naftila, todas das quais são não- substituídas ou substituídas por um ou mais dos substituintes Ci-C4-alquila, CN, OH, O-C1-Cealquila, SH, S-CrC6-alquila, COOH, COO-C1-CeraIquiIa.
5. Método, de acordo com a reivindicação 4, em que a base foto- Ri4 é hidrogênio, R15 é hidrogênio ou C1-C^alquila, R2 e R3 independentemente um do outro são hidrogênio ou C1- <formula>formula see original document page 22</formula>
6. Método, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, em que a base fotolatente é um composto de fórmula I, onde Ri é um substituinte de fórmu- la III.
7. Método, de acordo com a reivindicação 6, em que a base foto- latente é ^JtJ ou H í) . <formula>formula see original document page 22</formula>
8. Método, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, em que a base fotolatente é um composto da fórmula IV <formula>formula see original document page 22</formula> Ar1 é um radical aromático de formula V ou Vlll <formula>formula see original document page 22</formula> V tem o significado de U ou é uma ligação direta, R1 e R2 são cada um independentemente um do outro a) CrC^-alquila, que é não-substituída ou substituída por OH, CrC4-alcóxi, ou SH, b) um radical de fórmula —(CHR13)-C=C-R16 ou R6 ,R7 c) um radical de fórmula —^ /(CH2)q na cIua' q é 0, ou 1, ou d) um radical de fórmula -CH-Ar2, e) fenila que é CrC^alquila não-substituída ou substituída, ou R1 e R2 juntos são C4-C6-alquileno ou C3-C5-oxaalquileno não-ramificados ou ramificados, Ar2 é fenila que é não-substituída ou substituída por halogênio, OH1 Ci-Ci2-alquila, ou é substituída por CrC4-alquila, que é substituído por OH1 halogênio, CrCi2-alcóxi, -COO(CrC4-alquila), -CO(OCH2CH2)nOCH3 ou -OCO(Ci-C4-alquila), ou o radical fenila, é substituída por CrC4-alcóxi, - (OCH2CH2)nOH, ou -(OCH2CH2)nOCH3, η é 1 a 5, R3 é CrC4-alquila, C2-C4-alquila que é substituída por -OH, -C1- C4-alcóxi, -CN1 ou -COO (CrC4-alquila), ou R3 é C3-C5-alquenila, ou fenil-Cr C3-alquila-; R4 é CrC4-alquila, C2-C4-alquila que é substituída por -OH, -C1- C4-alcóxi, -CN, ou -COO(CrC4-alquila), ou R3 é C3-C5-alquenila, ou fenil-Cr C3-alquila-, ou R3 e R4 juntos são C3-C7-alquileno que podem ser interrompi- dos por-O-, ou-S-; Rs, R6, R7, Rs e R9 são cada um independentemente um do ou- tro hidrogênio, halogênio, CrCi2-alquila, fenila, benzila, benzoíla, ou um grupo -OR17, -SR18, -N(R19)(R20), ou são <formula>formula see original document page 23</formula> R11 é CrC4-alquila, R12 é C2-C^alquileno não-ramificado ou ramificado que pode ser interrompido por um ou mais -O- ou -S-; R13 é hidrogênio ou CrC4-alquila, R14, R15 e R16 são, cada um, independentemente um do outro hidrogênio ou CrC4-alquila, ou R14 e R-i5juntos são C3-C4-alquileno, R17 é hidrogênio, CrC12-alquila, C3-C6-alquenila, C2-C6-alquila que é substituído por -CN, -OH ou -COO (CrC4-alquila), Ris é hidrogênio, CrCi2-alquila, C3-C6-alquenila, C2-Ci2-alquila que é substituído por -OH, -CN, -COO(CrC4-alquila), Ri9 e R2O são, cada um, independentemente do outro, C1-C6- alquila, C2-C4-hidroxialquila, C2-Ci0-alcoxialquila, C3-C5-alquenila, fenil-Ci- C3-alquila, fenila que é não-substituído ou substituído por CrC4-alquila ou CrC4-alcóxi, ou Ri9 e R2O são C2-C3-alcanoíla ou benzoíla, ou Ri9 e R2O são -O(CO-CrC8)0-OH; o é 1 a 15, ou R-I9 e R20 juntos são C4-C6-alquileno que podem ser interrom- pidos por -O, -N(R22)- ou -S-, ou Ri9 e R20 juntos são C4-C6-alquileno que podem ser substituídos por hidroxila, CrC4-alcóxi ou -COO(CrC4-alquila), R22 é C1-Oralquila, fenil-CrC3-alquila, -CH2CH2-COO (CrC4-alquila), - CH2CH2CN, -CH2CH2-COO(CH2CH2O)q-H ou <formula>formula see original document page 24</formula>
9. Método, de acordo com a reivindicação 8, onde a base fotola- tente é <formula>formula see original document page 24</formula> Com η = 0 a 10.
10. Método, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, em que a composição de resina adesiva de poliuretano é uma resina SH/NCO e a ba-
11. Uso de <formula>formula see original document page 25</formula> como base fotolatente em um adesivo.
BRPI0714462 2006-07-17 2007-07-09 bases fotolatentes para adesivos BRPI0714462A2 (pt)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
EP06117329 2006-07-17
PCT/EP2007/056917 WO2008009575A2 (en) 2006-07-17 2007-07-09 Method of bonding

Publications (1)

Publication Number Publication Date
BRPI0714462A2 true BRPI0714462A2 (pt) 2013-03-12

Family

ID=37499607

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
BRPI0714462 BRPI0714462A2 (pt) 2006-07-17 2007-07-09 bases fotolatentes para adesivos

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20100236707A1 (pt)
EP (1) EP2041217A2 (pt)
JP (2) JP5465528B2 (pt)
KR (1) KR101433684B1 (pt)
CN (1) CN101490155A (pt)
BR (1) BRPI0714462A2 (pt)
RU (1) RU2451040C2 (pt)
WO (1) WO2008009575A2 (pt)

Families Citing this family (39)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
SE9301595L (sv) 1993-05-10 1994-10-17 Tony Pervan Fog för tunna flytande hårda golv
US6588166B2 (en) 1995-03-07 2003-07-08 Pergo (Europe) Ab Flooring panel or wall panel and use thereof
US7131242B2 (en) 1995-03-07 2006-11-07 Pergo (Europe) Ab Flooring panel or wall panel and use thereof
SE9500810D0 (sv) 1995-03-07 1995-03-07 Perstorp Flooring Ab Golvplatta
US6421970B1 (en) 1995-03-07 2002-07-23 Perstorp Flooring Ab Flooring panel or wall panel and use thereof
US7877956B2 (en) 1999-07-05 2011-02-01 Pergo AG Floor element with guiding means
BE1010487A6 (nl) 1996-06-11 1998-10-06 Unilin Beheer Bv Vloerbekleding bestaande uit harde vloerpanelen en werkwijze voor het vervaardigen van dergelijke vloerpanelen.
US6345481B1 (en) 1997-11-25 2002-02-12 Premark Rwp Holdings, Inc. Article with interlocking edges and covering product prepared therefrom
US7992358B2 (en) 1998-02-04 2011-08-09 Pergo AG Guiding means at a joint
SE512313C2 (sv) 1998-06-03 2000-02-28 Valinge Aluminium Ab Låssystem samt golvskiva
SE514645C2 (sv) 1998-10-06 2001-03-26 Perstorp Flooring Ab Golvbeläggningsmaterial innefattande skivformiga golvelement avsedda att sammanfogas av separata sammanfogningsprofiler
US6460306B1 (en) 1999-11-08 2002-10-08 Premark Rwp Holdings, Inc. Interconnecting disengageable flooring system
US6449918B1 (en) 1999-11-08 2002-09-17 Premark Rwp Holdings, Inc. Multipanel floor system panel connector with seal
SE517183C2 (sv) 2000-01-24 2002-04-23 Valinge Aluminium Ab Låssystem för mekanisk hopfogning av golvskivor, golvskiva försedd med låssystemet och metod för framställning av sådana golvskivor
KR20030001374A (ko) 2000-03-07 2003-01-06 이.에프.피. 플로어 프러덕츠 푸스뵈덴 게엠베하 패널의 기계적 연결부
SE518184C2 (sv) 2000-03-31 2002-09-03 Perstorp Flooring Ab Golvbeläggningsmaterial innefattande skivformiga golvelement vilka sammanfogas med hjälp av sammankopplingsorgan
SE0001325L (sv) 2000-04-10 2001-06-25 Valinge Aluminium Ab Låssystem för hopfogning av golvskivor samt golvskivor försedda med sådana låssystem och golv bildat av sådana golvskivor
US6769218B2 (en) 2001-01-12 2004-08-03 Valinge Aluminium Ab Floorboard and locking system therefor
DE10206877B4 (de) 2002-02-18 2004-02-05 E.F.P. Floor Products Fussböden GmbH Paneel, insbesondere Fussbodenpaneel
US7744627B2 (en) 2002-06-17 2010-06-29 Tyco Healthcare Group Lp Annular support structures
US7938307B2 (en) 2004-10-18 2011-05-10 Tyco Healthcare Group Lp Support structures and methods of using the same
US7942890B2 (en) 2005-03-15 2011-05-17 Tyco Healthcare Group Lp Anastomosis composite gasket
EP2131749B1 (en) 2007-03-06 2016-11-02 Covidien LP Surgical stapling apparatus
US8038045B2 (en) 2007-05-25 2011-10-18 Tyco Healthcare Group Lp Staple buttress retention system
DE102008049848A1 (de) 2008-10-01 2010-04-08 Tesa Se Mehrbereichsindikator
US8011550B2 (en) 2009-03-31 2011-09-06 Tyco Healthcare Group Lp Surgical stapling apparatus
AU2010285107A1 (en) 2009-08-21 2012-03-15 Basf Se Apparatus and method for a sub microscopic and optically variable image carrying device
DE102010004717A1 (de) 2010-01-15 2011-07-21 Pergo (Europe) Ab Set aus Paneelen umfassend Halteprofile mit einem separaten Clip sowie Verfahren zum Einbringen des Clips
CN104831904B (zh) 2010-05-10 2017-05-24 佩尔戈(欧洲)股份公司 地板组件
US8479968B2 (en) 2011-03-10 2013-07-09 Covidien Lp Surgical instrument buttress attachment
US8584920B2 (en) 2011-11-04 2013-11-19 Covidien Lp Surgical stapling apparatus including releasable buttress
DE102011085996A1 (de) 2011-11-09 2013-05-16 Henkel Ag & Co. Kgaa Mehrschicht-Kantenverklebung
US9113885B2 (en) 2011-12-14 2015-08-25 Covidien Lp Buttress assembly for use with surgical stapling device
US9010609B2 (en) 2012-01-26 2015-04-21 Covidien Lp Circular stapler including buttress
US8820606B2 (en) 2012-02-24 2014-09-02 Covidien Lp Buttress retention system for linear endostaplers
RU2522000C1 (ru) * 2013-01-29 2014-07-10 Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования "Волгоградский государственный технический университет" (ВолгГТУ) Способ склеивания деталей из стеклопластика внахлест
CA2911266A1 (en) * 2013-05-24 2014-11-27 Bridgestone Corporation Composition, adhesive agent, adhesive sheet, and laminate
JP6225066B2 (ja) * 2014-04-18 2017-11-01 株式会社ブリヂストン シート形成体、接着シート及び積層体
TWI564276B (zh) * 2016-03-14 2017-01-01 奇鈦科技股份有限公司 液態光引發劑及其應用

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0088050B1 (de) * 1982-02-26 1986-09-03 Ciba-Geigy Ag Photohärtbare gefärbte Massen
DE3471486D1 (de) * 1983-08-15 1988-06-30 Ciba Geigy Ag Photocurable compositions
JPS62218409A (en) * 1986-03-20 1987-09-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Photocurable resin composition
JPH068357B2 (ja) * 1986-06-18 1994-02-02 住友ベ−クライト株式会社 ポリエ−テルイミドフイルム銅貼板の製造方法
AT89262T (de) * 1987-03-26 1993-05-15 Ciba Geigy Ag Neue alpha-aminoacetophenone als photoinitiatoren.
DE3879742D1 (de) * 1987-04-14 1993-05-06 Ciba Geigy Ag Klebstoffe.
KR0147813B1 (ko) * 1989-05-16 1998-08-01 월터 클리웨인, 한스-피터 위트린 적층 구조물 및 그의 제조방법
EP0400394B1 (de) * 1989-05-31 1996-08-14 Siemens Aktiengesellschaft Schnittstelleneinrichtung
US5698285A (en) * 1995-10-19 1997-12-16 Three Bond Co., Ltd. Adhesive for optical disk
JP3428326B2 (ja) * 1995-10-19 2003-07-22 株式会社スリーボンド 光ディスク用接着剤
BR9807502B1 (pt) * 1997-01-22 2008-11-18 compostos orgÂnicos, processo para sua preparaÇço, bem como composiÇço e aplicaÇço dos mesmos.
AU2001260325B2 (en) 2000-05-26 2005-03-10 Akzo Nobel N.V. Photoactivatable coating composition
JP2002092961A (ja) * 2000-09-11 2002-03-29 Nippon Kayaku Co Ltd 光ディスク用接着剤組成物、硬化物および物品
JP5073155B2 (ja) * 2002-04-19 2012-11-14 チバ ホールディング インコーポレーテッドCiba Holding Inc. プラズマにより誘導される被覆の硬化
US20040024867A1 (en) * 2002-06-28 2004-02-05 Openwave Systems Inc. Method and apparatus for determination of device capabilities on a network
DE60308052T2 (de) * 2002-10-28 2007-04-05 Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. Verbesserung bei der haltbarkeit von photoinitiatoren
US7372069B2 (en) * 2003-01-14 2008-05-13 Osram Opto Semiconductors Gmbh Interface for UV-curable adhesives
US20060108450A1 (en) * 2003-02-06 2006-05-25 Akzo Nobel Coating International B.V. Spray gun and process for application of actinic radiation-curable coating
US7732504B2 (en) * 2004-02-02 2010-06-08 Ciba Specialty Chemicals Corporation Functionalized photoinitiators
WO2006008251A2 (en) 2004-07-21 2006-01-26 Ciba Specialty Chemicals Holding Inc. Process for the photoactivation and use of a catalyst by an inverted two-stage procedure
KR20070086249A (ko) 2004-12-15 2007-08-27 아크조노벨코팅스인터내셔널비.브이. 코팅 기재의 보수 방법

Also Published As

Publication number Publication date
US20100236707A1 (en) 2010-09-23
RU2009105180A (ru) 2010-08-27
WO2008009575A2 (en) 2008-01-24
RU2451040C2 (ru) 2012-05-20
JP5465528B2 (ja) 2014-04-09
EP2041217A2 (en) 2009-04-01
KR20090031467A (ko) 2009-03-25
CN101490155A (zh) 2009-07-22
JP2009543913A (ja) 2009-12-10
WO2008009575A3 (en) 2008-03-27
JP2013136780A (ja) 2013-07-11
KR101433684B1 (ko) 2014-08-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
ES2277924T3 (es) Composicion de revestimiento fotoactivable.
JP4587865B2 (ja) 感光性樹脂組成物及びその硬化物並びにそれらを使用するプリント配線基板の製造方法
US20100148160A1 (en) Organic electronic devices protected by elastomeric laminating adhesive
JP5423332B2 (ja) 積層シート用接着剤組成物
CA2044291C (en) Non-yellowing polyurethane adhesives
JP2012503863A (ja) ガスケット及びこれを用いたディスプレイ装置
US4483759A (en) Actinic radiation cured polyurethane acrylic copolymer
Glöckner Radiation curing
CN1191313C (zh) 挠性聚氨酯材料
CA2258813A1 (en) Uv-curable coating compositions containing urethane-(meth)acrylates with free isocyanate groups
ES2391894T3 (es) Agente de recubrimiento
JP5201347B2 (ja) 有機el素子封止用光硬化性樹脂組成物
EP1647585B1 (en) Radiation curable compositions
US7232876B2 (en) Phosphorus-containing urethane(meth)acrylate compounds and photosensitive compositions
US7294656B2 (en) UV curable coating composition
ES2182859T3 (es) Recubrimientos de poliuretano de dos componentes basados en agua, sin disolventes o con un bajo contenido de compuestos organicos volatiles.
EP0247563A2 (en) Ultraviolet-curable coating composition and process for preparing the same
EP1144476A1 (de) Durch addition an isocyanatgruppen als auch durch strahlungsinduzierte addition an aktivierte c-c-doppelbindungen härtbare beschichtungsmittel
KR101293084B1 (ko) 티올 화합물을 함유하는 경화성 조성물
EP3221421B1 (en) Quantum dot article with thiol-alkene matrix
CA2271845C (en) Multifunctional polyacrylate-polyurethane oligomer, method and cured polymers and products
WO2005061622A2 (en) Silane terminated polyurethane
KR20040097189A (ko) 하드코팅제 및 하드코팅필름
TWI568819B (zh) UV-curing adhesive composition and adhesive layer
US9896598B2 (en) Direct-to-metal radiation curable compositions

Legal Events

Date Code Title Description
B07A Technical examination (opinion): publication of technical examination (opinion)
B08F Application fees: dismissal - article 86 of industrial property law
B08K Lapse as no evidence of payment of the annual fee has been furnished to inpi (acc. art. 87)

Free format text: EM VIRTUDE DO ARQUIVAMENTO PUBLICADO NA RPI 2470 DE 08-05-2018 E CONSIDERANDO AUSENCIA DE MANIFESTACAO DENTRO DOS PRAZOS LEGAIS, INFORMO QUE CABE SER MANTIDO O ARQUIVAMENTO DO PEDIDO DE PATENTE, CONFORME O DISPOSTO NO ARTIGO 12, DA RESOLUCAO 113/2013.