BRPI0417477B1 - Máscara facial e método para a formação da mesma - Google Patents

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Abstract

máscara facial e método para a formação da mesma uma composição de revestimento que é incorporada em uma mascara facial para reduzir a formação de névoa e ofuscação é proporcionada. por exemplo, em sua modalidade, a máscara facial contém um ou visor formado de um substrato transparente tendo pelo menos uma superfície aplicada com a composição de revestimento da presente invenção. os presentes inventores descobriram, inesperadamente, que um ou mais polímeros orgânicos solúveis em água, tal como etil hidróxietilcelulose, podem ser utilizados como um componente principal da composição de revestimento para reduzir a formação de névoa e ofuscação de uma maneira simples, ainda que eficaz.

Description

(54) Título: MÁSCARA FACIAL E MÉTODO PARA A FORMAÇÃO DA MESMA (73) Titular: AVENT, INC., Pessoa Jurídica. Endereço: 5405 WINDWARD PARKWAY ALPHARETTA, GA 30004, ESTADOS UNIDOS DA AMÉRICA(US), Norte Americana (72) Inventor: ALI YAHIAOUI; ROGER QUINCY; JOHN GAVIN MACDONALD; ERIC STEINDORF; JOEL BROSTIN
Prazo de Validade: 10 (dez) anos contados a partir de 03/04/2018, observadas as condições legais
Expedida em: 03/04/2018
Assinado digitalmente por:
Júlio César Castelo Branco Reis Moreira
Diretor de Patente éAo
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1/32
MÁSCARA FACIAL E MÉTODO PARA A FORMAÇÃO DA MESMA Antecedentes da Invenção
O uso de máscaras faciais protetoras tem se tornado padrão para muitas atividades de cuidados com a saúde e outras relacionadas. 0 objetivo primário das máscaras faciais é filtrar materiais perigosos do ar inalado e exalado. Contudo, as máscaras faciais médicas também podem ser usadas para proteger o usuário contra insultos líquidos. Como tal, essas máscaras podem incluir um visor plástico transparente preso para proteger os olhos contra líquidos espalhados. Alternativamente,, um anteparo facial transparente stand-alone também pode ser usado em conjunto com a máscara de filtragem.
Um problema contínuo associado ao uso de proteções faciais ou anteparos faciais protetores com visores presos em aplicações médicas e industriais é a formação de névoa no visor ou proteção. 0 ar úmido aquecido exalado pelo usuário se condensará sobre as superfícies relativamente frias que estão em proximidade íntima com o nariz ou boca do usuário. As gotículas condensadas formarão névoa ou embaçarão visores, máscaras faciais e outros anteparos protetores, junto com lentes de equipamento científico, tais como endoscópios e microscópios. Essa formação de névoa ou embaçamento resulta quando uma elevada concentração de vapor úmido contido dentro da máscara protetora passa através ou em torno da máscara facial e se condensa sobre um visor mais frio na proximidade da máscara. Várias técnicas foram propostas para resolver o problema de formação de névoa, tal como descrito nas • * · · * * ♦ · *«· · • · · · · * ·· • · * · * · · · · • · ·»·♦♦ * · ·· + • *··♦·*♦ • ♦ • ·
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Patentes U.S. Nos. 4.635.628; 4.419.993; 3.890.966; e
3.888.246.
Todavia, muitas dessas soluções falharam em resolver o problema de ofuscação. A ofuscação é uma reflexão secular indesejável de luz de uma superfície sobre a qual a luz é incidente. Por exemplo, o pessoal que trabalha em salas iluminadas e pessoal médico que realiza procedimentos cirúrgicos longos, complexos, freqüentemente reportam tensão nos olhos e fadiga nos olhos oriundas de tais reflexões e ofuscação após usar uma máscara facial durante períodos prolongados de tempo. A fadiga nos olhos proveniente de ofuscação é particularmente perceptível quando de uso de equipamento científico de precisão, tais como microscópios e endoscópios, enquanto se usa uma máscara facial ou outro equipamento protetor para servir de escudo e/ou proteger a face do usuário. Muitos filmes transparentes comerciais (por exemplo, poliéster) usados na forma de visores ou anteparos transparentes são revestidos com um acabamento fino; contudo, o impacto do acabamento sobre as propriedades ópticas é negligenciável,
Várias técnicas foram, assim, sugeridas para reduzir a formação de névoa e ofuscação em máscaras faciais. Por exemplo, a Patente U.S. No. 5.813.398 para Baird e colaboradores, descreve uma máscara facial tendo um corpo de filtro com uma camada de filme impermeável fluido disposta sobre uma parte superior da máscara facial para impedir que o ar exalado pelo usuário através do corpo de filtro forme névoa sobre os visores e/ou uma peça para os olhos. Uma camada de material não-tecido é, de preferência, colocada sobre a camada de filme impermeável fluido para *··*···» ·*·
3/32 ! • ** · • · · • · · · * ····· reduzir e/ou eliminar substancialmente qualquer ofuscação da camada de filme impermeável fluido. As Patentes U.S. Nos. 5.585.186 para Scholz e colaboradores; 5.723.175 para Scholz e colaboradores; 5.753.373 para Scholz e colaboradores; 5.873.931 para Scholz e colaboradores;
5.997.621 para Scholz e colaboradores; e 6.040.053 para Scholz e colaboradores descrevem, de modo geral, composições de revestimento que contam com partículas sólidas de uma rede de óxido de metal inorgânico porosa para conferir propriedades anti-reflexão e tensoativos muito específicos para conferir propriedades anti-formação de névoa. Infelízmente, tais técnicas para a redução da formação de névoa e ofuscação em máscaras faciais ainda não são adequadas. Por exemplo, o uso de um ingrediente de revestimento para anti-reflexão (por exemplo, óxidos de metal inorgânicos porosos) e outros para anti-formação de névoa (por exemplo, tensoativos) é extremamente complexo e caro. Outras questões com dispersões de tensoativo/partículas sólidas se referem â instabilidade da formulação com o tempo, o que pode afetar negativamente as propriedades ópticas do produto.
Atualmente, existe uma necessidade por uma técnica aperfeiçoada para eliminação simultânea dos efeitos prejudiciais de formação de névoa e redução de ofuscação sobre máscaras faciais.
Sumário da Invenção
De acordo com uma modalidade da presente invenção, é divulgada uma máscara facial que compreende um substrato, tal como um visor ou anteparo de poliéster transparente. Um revestimento está presente sobre pelo menos uma superfície • · · φ *
Figure BRPI0417477B1_D0002
φ φ φ φ φ φ φ · φ φ φ φ
4/32 • φ * · • · φφφφ • · φ φ φφ φ do substrato que compreende um ou mais polímeros orgânicos como um componente principal. Por exemplo, em uma modalidade em particular, o revestimento pode incluir uma alquil hidroxialquil éter de celulose, tal como etil hidróxietil celulose.
De acordo com outra modalidade da presente invenção, um método para formação de uma máscara facial que compreende um substrato transparente é divulgado. O método compreende aplicação de uma composição aquosa a pelo menos uma superfície do substrato transparente. A composição aquosa inclui uma mistura de água e um ou mais polímeros orgânicos solúveis em água. A composição aquosa é seca para formar um revestimento sobre o substrato transparente, em que o(s) polímero(s) orgânico(s) solúvel(is) em água constitui(em) um componente principal do revestimento.
Outras características e aspectos da presente invenção são discutidos em maiores detalhes abaixo.
Breve Descrição dos Desenhos
Uma divulgação fácil e total da presente invenção, incluindo o melhor modo para a mesma, dirigida àqueles habilitados na técnica, é apresentada mais particularmente no restante da especificação, a qual faz referência à figura em anexo, na qual:
A Fig. 1 é uma ilustração esquemática de uma máscara facial que pode ser formada de acordo com uma modalidade da presente invenção.
uso repetido de caracteres de referência na presente especificação e figura se destina a representar as mesmas ou características ou elementos análogos da invenção.
30 Descrição Detalhada de Modalidades Representativas ··· ·♦·· « ΙΙ· • ·
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Figure BRPI0417477B1_D0003
♦ · * «
Referência agora será feita em detalhes a várias modalidades da invenção, um ou mais exemplos da qual são apresentados abaixo. Cada exemplo é proporcionado à guisa de explicação da invenção, não limitação. Na verdade, será evidente para aqueles habilitados na técnica que várias modificações e variações podem ser feitas na presente invenção sem se desviar do escopo ou espírito.da invenção. Por exemplo, as características ilustradas ou descritas como parte de uma modalidade, podem ser usadas em outra modalidade para proporcionar ainda uma outra modalidade. Assim, se pretende que a presente invenção abranja tais modificações e variações como estando dentro do escopo das reivindicações em anexo e seus equivalentes.
Em geral, a presente invenção é dirigida a uma máscara facial que contém uma composição de revestimento para reduzir a formação de névoa e ofuscação. Por exemplo, em uma modalidade, a máscara facial contém um anteparo ou visor que é utilizado em conjunto com um corpo de filtro. Alternativamente, a máscara facial pode ser um anteparo ou visor stand-alone, Em qualquer caso, o anteparo ou visor pode ser formado de um substrato‘transparente tendo pelo menos uma superfície aplicada com a composição da revestimento da presente invenção. 0 substrato transparente ao qual a composição de revestimento da presente invenção é aplicada pode ser formado de uma variedade de diferentes materiais. Exemplos de tais materiais incluem, mas não estão limitados a, poliésteres, tais como tereftalato de polietileno ou tereftalato de polibutileno; policarbonatos; alildiglicolcarbonatos; poliacrilatos, tal como polimetilmetacrilato; poliestirenos;
poli-sulfonas;
cu • · · * * t · • · · ··*· 4
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poliéter-sulfona; butirato de acetato de celulose; combinações dos mesmos; e assim por diante. Em uma modalidade em particular, o substrato transparente é formado de tereftalato de polietileno (PET). O substrato transparente pode estar na forma de um filme, folha, painel ou vidro de material e pode ser formado através de qualquer processo bem conhecido, tal como sopro, fundição, extrusão, moldagem por injeção e assim por diante.
A composição de revestimento da presente invenção inclui um ou mais polímeros orgânicos solúveis em água. Os presentes inventores descobriram, inesperadamente, que tal polímero orgânico solúvel em água pode ser utilizado como o principal componente da composição de revestimento para reduzir, simultaneamente, a formação de névoa e ofuscação.
Para minimizar a ofuscação, o polímero orgânico solúvel em água pode ser selecionado para ter um índice refrativo nominal aproximadamente igual â raiz quadrada do índice refrativo do substrato transparente. Em algumas modalidades da presente invenção, o polímero orgânico solúvel em água do revestimento pode ter um índice refrativo de 1,0 a 1,7, em algumas modalidades de 1,2 a 1,4 e, em algumas modalidades, de 1,25 a 1,36, o que é aproximadamente igual â raiz quadrada dos índices refrativos de substratos de poliéster, policarbonato ou polimetil metacrilato. No caso
5 de uma única camada de revestimento sobre um filme de poliéster com um índice de refração de 1,7, o índice ideal de ref ração do revestimento é de 1,3, o qual é a raiz quadrada da proporção do índice refrativo do filme de poliéster.
Qualquer um de uma variedade de polímeros orgânicos
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capazes de obter as características desejadas de transparência, formação de névoa reduzida e ofuscação reduzida pode ser utilizado na presente invenção. Por exemplo, uma classe de polímeros orgânicos solúveis em agua que se verificou ser adequada na presente invenção são polissacarídeos e derivados dos mesmos. Polissacarídeos são polímeros contendo unidades repetidas de carboidrato, as quais podem ser catiônicas, aniônicas, não-iônicas e/ou anfotéricas. Em uma modalidade em particular, por exemplo, o polissacarídeo é um éter celulósico não-iônico, catiônico, aniônico e/ou anfotérico.
Éteres de celulose não-iônicos, por exemplo, podem ser produzidos de qualquer maneira conhecida por aqueles habilitados na técnica, tal como através de reação de uma celulose alcalina com óxido de etíleno e/ou óxido de propileno, seguido por reação com cloreto de metila, cloreto de etila e/ou cloreto de propila. Nas Patentes U.S. Nos. 6.123.996 para Larsson e colaboradores; 6.248.880 para Karlson,· e 6.639.066 para Bostrom e colaboradores, as quais são incorporadas aqui em sua totalidade por referência à mesma para todas as finalidades, alguns exemplos adequados de éteres celulósicos não-iônicos incluem, mas não estão limitados a, alquil éteres de celulose solúveis em agua, tais como metil celulose e etil celulose; hidróxialquil éteres de celulose, tais como hidróxietil celulose, hidroxipropil celulose, hidroxipropil hidróxibutil celulose, hidróxietil hidroxipropil celulose, hidróxietil hidróxibutil celulose e hidróxietil hidroxipropil hidróxibutil celulose; alquil hidróxialquil éteres de celulose, tais como metil hidróxietil celulose, metil * * « • ·♦ · *··* ····
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• · · • *··♦ hidroxipropil celulose, etil hidróxietil celulose, etil hidroxipropil celulose, metil etil hidróxietil celulose e metil etil hidroxipropil celulose; e assim por diante. Éteres celulósicos não-iônicos preferidos para uso na composição de revestimento da presente invenção são etil hidróxietil celulose, metiletil hidróxietil celulose, metiletil hidróxietil hidróxipropil celulose e metil hidroxipropil celulose. Em tais modalidades, os grupos hidróxietila constituem, tipicamente, pelo menos 30% do número total de grupos hidróxialquila e o número de substituintes etila constitui, tipicamente, pelo menos 10% do número total de substituintes alquila.
Um exemplo particular de um éter celulósico não-iônico
adequado é etil hidróxietil celulose tendo um grau de
15 substituição de etila (DS) de 0,8 a 1,3 e uma substituição
molar (MS) de hidróxietil de 1,9 a 2,9. 0 grau de
substituição de etila representa o número médio de grupos
hidroxila presentes sobre cada unidade de anidroglicose que tenha sido reagida, o qual pode variar entre 0 e 3. A substituição molar representa o número médio de grupos hidróxietila que reagiu com cada unidade de anidroglicose. Tal etil hidróxietil celulose tem um índice refrativo de cerca de 1,33, o qual é capaz de proporcionar uma superfície anti-ofuscação quando revestida sobre um substrato de tereftalato de polietileno (índice refrativo nominal = 1,64) em uma espessura de cerca de 14 0 nanômetros.
Conforme estabelecido, éteres celulósicos catiônicos também podem ser adequados para uso na presente invenção.
Éteres celulósicos catiônicos adequados podem incluir um • « • · · · • ···· · • · ·
9/32 • *
Figure BRPI0417477B1_D0005
♦ ·· · · ··«« «··· éter celulósico modificado com amônio quaternário, tal como laurildimônio hidróxietil celulose, estearildimônio hidróxetil celulose e cocodimônio hidróxietil celulose, os quais estão comercialmente disponível da Croda Inc. of
Parsipany, New Jersey sob as marcas comerciais Crodacel QL, Crodacel QS e Crodacel QM, respectivamente. Outros éteres celulósicos catiônicos adequados são descritos, por exemplo, na Patente U.S. No, 6.338.855 para Albacarvs e colaboradores, a qual é incorporada aqui em sua totalidade por referência à mesma para todas as finalidades.
Além de éteres celulósicos, tal como descrito acima, vários outros polissacarídeos também podem ser adequados para uso na presente invenção como um polímero orgânico solúvel em água. Por exemplo, poliglicosaminas e derivados da mesma constituem outra classe adequada de polissacarídeos que pode ser usada na presente invenção. Poliglicosaminas são unidades monoméricas de glicose tendo uma funcionalidade amina na parte principal do polissacarídeo. Alguns exemplos de poliglicosaminas incluem, mas não estão limitados a, quitina, quitosana e poliglicosaminoglicanas, as quais são copolímeros de Nacetilglicosamina e vários açúcares de glicana, por exemplo, ácido hialurônico, condroitina, heparina, queratana e dermatana. Quitosana é uma poliglicosamina obtida através de desacetilação de quitina e é, mais particularmente, um copolímero aleatório de 1,4-glicosamina e N-acetil-p-1,4-glicosamina. Embora normalmente insolúvel em água, a quitosana forma sais solúveis em água com muitos ácidos orgânicos e inorgânicos que são particularmente úteis na composição de revestimento da ► · · · ΙΟΙ Μ1 • · · • · » · 4 • · · · · · • * • · « • · · · t
10/32 presente invenção. Alguns exemplos de tais derivados de quitosana solúveis em agua incluem, mas não estão limitados a, acil quitosanas, carbóxialquil quitosanas, carbóxiacil quitosanas, deoxiglicit-l-il quitosanas, hidróxialquil quitosanas ou sais das mesmas. Exemplos em particular
incluem sal de ácido carboxílico de pirrolidona de
quitosana (PCA de quitosana) , sal de ácido glicólico de
quitosana (glicolato de quitosana), sal de ácido láctico de
quitosana (lactato de quitosana) e mono-succinamida de
quitosana (mono-succinamida de quitosana ou quitosanida).
A viscosidade de uma solução contendo um polímero orgânico solúvel em água, tal como descrito acima, pode, geralmente, variar, dependendo da concentração do polímero e/ou outros componentes da solução. Na maioria das modalidades, por exemplo, a viscosidade de uma solução contendo um polímero orgânico solúvel em água oscila de cerca de 5 a cerca de 10.000 centipoise e, em algumas modalidades, de cerca de 10 a cerca de 7.000 centipoise, conforme medido com um viscosímetro Brookfield, tipo LV, a
12 rpm e 20°C. Para facilitar a aplicação da composição de revestimento, viscosidades menores podem, algumas vezes, ser dese jadas, tal como de cerca de 50 a cerca de 1.000 centipoise e, em algumas modalidades, de cerca de 150 a cerca de 350 centipoise. Os polímeros orgânicos solúveis em água podem, algumas vezes, ser reticulados para proporcionar hidratação retardada para fins de manipulação e melhor controle da taxa de solubilização. Por exemplo, um agente de ligação reticulada, tal como glioxal, pode ser usado em uma quantidade de cerca de 0,05 a cerca de 2 partes em peso, baseado em 100 partes em peso do polímero • · • · · · · · · <
ife
11/32 seco .
Assim, de acordo com a presente invenção, polímeros orgânicos solúveis em ãgua podem ser usados para formar uma composição de revestimento tendo excelentes propriedades ópticas. Os presentes inventores descobriram, inesperadamente, que tais propriedades ópticas excelentes podem ser obtidas seqüência polímeros orgânicos solúveis em ãgua como o componente principal. Isto é, polímeros orgânicos solúveis em ãgua constituem pelo menos cerca de
50% em peso, em algumas modalidade pelo menos cerca de 75% em peso e, em algumas modalidades, pelo menos cerca de 90% em peso do revestimento presente sobre o substrato transparente. Em modalidades específicas, por exemplo, um éter celulósico não-iônico, tal como etil hidróxietil celulose, constitui o componente principal do revestimento presente sobre o substrato transparente. Conseqüentemente, o revestimento resultante pode ser formado de uma maneira simples, ainda que eficaz,
Embora polímeros orgânicos solúveis em água possam ser utilizados como um componente principal, outros componentes podem ainda ser utilizados na composição de revestimento para uma variedade de diferentes razoes. Por exemplo, vários dos componentes (por exemplo, tensoativos) descritos nas Patentes U.S. Nos. 5.585.186 para Scholz e
5 colaboradores; 5.723.175 para Scholz e colaboradores;
5.753.373 para Scholz e colaboradores; 5.873.931 para Scholz e colaboradores; 5.997.621 para Scholz e colaboradores; e 6.040.053 para Scholz e colaboradores, as quais são incorporadas aqui em sua totalidade por referência â mesma para todas as finalidades, podem ser ··· ··* ♦ « · ♦ ·«···« ·· ·· · · • « · ♦ * · * · · · · « 9 • · · » · 9 9 9 99 9 9 9 9 9 9 9 9
12/32 ·:·*“ ·* <:· ·' ·’ : usados na composição de revestimento. Quando utilizados, contudo, normalmente é desejado que as quantidades desses componentes sej am minimizadas para assegurar compatibilidade ótima e eficácia de custo. Assim, por exemplo, normalmente é desej ado que tensoativos (nãoiônicos, aniônicos, catiônicos e/ou anfotéricos) estejam contidos dentro do revestimento presente sobre o substrato transparente em uma quantidade menor do que cerca de 10% em peso, em algumas modalidades menor do que cerca de 5% em peso e, em algumas modalidades, menor do que cerca de 1% em peso do revestimento.
Vários auxiliares de processamento de filme também podem ser utilizados para formar o revestimento. Exemplos de tais auxiliares de processamento de filme são partículas que inibem o bloqueio ou adesão do revestimento em si. Essas partículas podem inibir o bloqueio através de projeção da superfície do revestimento, quer individualmente ou na forma de aglomerados.
formato e/ou tamanho das partículas anti-bloqueio pode variar de modo geral. Tipicamente, as partículas antibloqueio estão contidas dentro do revestimento sobre o substrato transparente em uma quantidade menor do que cerca de 10% em peso, em algumas modalidades menor do que cerca de 5% em peso e, em algumas modalidades, menor do que cerca de 1% em peso do revestimento. As partículas anti-bloqueio podem estar na forma de placas, hastas, discos, barras, tubos, esferas, formatos irregulares, etc. Além disso, o tamanho médio (por exemplo, diâmetro) das partículas antibloqueio pode oscilar de cerca de 0,1 nanômetro a cerca de
0 1.000 mícrons, em algumas modalidades de cerca de 0,1 • · · · « ♦ * * * · • · · · · • » ♦ ♦ * · · • · · · • ····· ·«······ • · * · · · • · · · · · • * · · · * · · ·♦»
13/32 nanômetro a cerca de 100 mícrons e, em algumas modalidades, de cerca de 1 nanômetro a cerca de 10 mícrons. Por exemplo, micropartículas podem ser utilizadas, as quais têm um tamanho médio de cerca de 1 mícrons a cerca de 1.000 mícrons, em algumas modalidades de cerca de 1 mícrons a cerca de 100 mícrons e, em algumas modalidades, de cerca de 1 mícron a cerca de 10 mícrons. Da mesma forma, nanopartículas podem também ser utilizadas, as quais têm um tamanho médio de cerca de 0,1 a cerca de 100 nanômetros, em algumas modalidades de cerca de 0,1 a cerca de 50 nanômetros e, em algumas modalidades, de cerca de 10 a cerca de 20 nanômetros.
As partículas anti-bloqueio são, geralmente, formadas de um material que não tem um efeito adverso substancial sobre as propriedades ópticas desejadas do revestimento. Alguns exemplos de partículas anti-bloqueio adequadas incluem, mas não estão, limitados a, partículas inorgânicas (por exemplo, sílica, alumina, zircônia, óxido de magnésio, dióxido de titânio, óxido de ferro, óxido de zinco, óxido de cobre, etc.); partículas orgânicas (por exemplo, poliestireno, amido de milho, etc.); partículas minerais (por exemplo, talco); e combinações das mesmas. Por exemplo, nanopartículas de alumina podem ser usadas em algumas modalidades da presente invenção. Algumas nanopartículas de alumina adequadas são descritas na Patente U.S. No. 5.407.600 para Ando e colaboradores, a qual é incorporada aqui em sua totalidade por referência à mesma para todas as finalidades. Ainda, exemplos de nanopartículas de alumina comercialmente disponíveis incluem, por exemplo, Aluminasol 100, Aluminasol 200 e
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Aluminasol 520, as quais estão disponíveis da Nissan Chemical Industries Ltda. Alternativamente, em outras modalidades, nanopartículas de sílica podem ser utilizadas, tais como Snowtex-C, Snowtex-0, Snowtex-PS e Snowtex-OXS, as quais também estão disponíveis da Nissan Chemical. As partículas Snowtex-OXS, por exemplo, têm um tamanho de particular de 4 a 6 nanômetros e podem ser secas até um pó tendo uma área de superfície de aproximadamente 509 metros quadrados por grama. Também, partículas de sílica revestidas de alumina podem ser usadas, tal como SnowtexAK, disponível da Nissan Chemical America of Houston, Texas ou as partículas Ludox CL, disponíveis da Grace Davidson of Columbia, Maryland.
Para facilitar a aplicação da composição de revestimento ao substrato transparente e assegurar transparência ótima, a composição de revestimento é, tipicamente, formada como uma solução aquosa. Por exemplo, um ou mais dos componentes mencionados acima são misturados com agua para formar uma solução que pode ser aplicada ao substrato transparente. Esse solução pode conter, por exemplo, pelo menos cerca de 75% em peso de água, em algumas modalidades pelo menos cerca de 90% em peso de água e, em algumas modalidades, pelo menos cerca de 96% em peso de água. A quantidade dos componentes adicionados à solução pode variar, dependendo da espessura desejada, a captação de umidade do método de aplicação utilizado e/ou da quantidade dos outros componentes utilizados. Por exemplo, a quantidade de polímeros orgânicos solúveis em água dentro da solução aquosa geralmente oscila de cerca de 0,01% em peso a cerca de 5% em peso, em algumas modalidades de cerca
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15/32 ·· · * ····· ΜΟ«·*Φ • · · · · · ·· '· · • ····· · · ···«· · ····· · ··· · « · · de 0,1% em peso a cerca de 1% em peso e, em algumas modalidades, de cerca de 0,2% em peso a cerca de 0,75%. Em adição, partículas antibloqueamento podem constituir de cerca de 0,001% em peso a cerca de 0,5% em peso, em algumas modalidades, de cerca de 0,01% em peso a cerca de 0,1%, e em algumas modalidades de cerca de 0,02% em peso a cerca de 0,08% em peso da solução aquosa. Outros componentes, tais como tensoativos, podem, similarmente, constituir de cerca de 0,001% em peso a cerca de 0,5% em peso, em algumas modalidades de cerca de 0,01% em peso a cerca de 0,1% em peso e, em algumas modalidades, de cerca de 0,02% em peso a cerca de 0,08% em peso da solução aquosa.
A solução aquosa pode ser aplicada ao substrato transparente usando qualquer técnica convencional, tal como técnicas com barra, rolo, faca, cortina, impressão (por exemplo, rotogravura), pulverização, ranhura-matriz ou imersão-revestimento. Quando de aplicação da composição de revestimento à superfícies múltiplas, cada superfície pode ser revestida seqüencial ou simultaneamente. Para assegurar revestimento e umedecimento uniformes do substrato transparente, ele pode ser oxidado antes de revestimento usando os métodos de tratamento por descarga de coroa, ozona, plasma ou chama. Em algumas modalidades, o substrato transparente também pode ser aplicado com um pré-tratamento para facilitar a aplicação uniforme da composição de revestimento ao mesmo. Por exemplo, em uma modalidade, um primer é aplicado ao substrato transparente, tal como cloreto de polivinilideno (PVDC) ou cloreto de polivinila (PVC). Tipicamente, o primer não tem um efeito substancial sobre as propriedades ópticas do substrato transparente.
16/32 •·······
A espessura média do revestimento resultante pode ser selecionada para minimizar a ofuscação. Especificamente, sabe-se que um revestimento óptico com uma única camada tendo uma espessura igual a % do comprimento de onda da luz incidente resultará em reflexões dos limites de revestimento-ar e limites de revestimento-substrato que estão 180° foram de fase um com o outro, desse modo, causando interferência destrutiva e reduzindo a refletância total. Assim, em virtude do fato de o comprimento de onda de luz incidente visível oscilar de aproximadamente 200 a
1000 nanômetros, a espessura media do revestimento da presente invenção oscila, tipicamente, de cerca de 50 a 250 nanômetros. Além disso, em virtude do fato de 550 nanômetros ser o comprimento de onda no qual o olho humano mostra uma resposta foto-óptica de pico, a espessura média de revestimento está, de preferência, em torno de 140 nanômetros. Deve ser compreendido, contudo, que o revestimento da presente invenção não está limitado a uma única camada, mas também pode conter camadas múltiplas. Por exemplo, é prontamente compreendido por aqueles habilitados na técnica que duas camadas podem ser utilizadas, com cada camada sendo otimizada quanto ao índice refrativo e espessura para minimizar a reflexão de diferentes comprimentos de onda de luz, assim, intensificando adicionalmente as propriedades anti-ofuscação sobre um espectro mais amplo de luz. Além disso, embora a espessura média de revestimento seja, desejavelmente, uniforme, a espessura de revestimento real pode variar consideravelmente de um ponto em particular no revestimento para outro. Tais variações na espessura, quando <Μοί>
17/32 * «·4«· ♦ *♦ « · correlacionadas sobre uma região visivelmente distinta, podem realmente ser benéficas através de contribuição para as propriedades anti-refletivas de banda ampla do revestimento.
A composição de revestimento da presente invenção pode ser aplicada a uma ou ambas as superfícies do substrato transparente. Quando usado em uma mascara facial, o revestimento geralmente está presente sobre pelo menos a superfície do substrato transparente que faceia o usuário. Além disso, o revestimento pode cobrir uma superfície inteira do substrato transparente ou pode cobrir apenas uma parte da superfície, tal como uma parte imediatamente adjacente aos olhos em um visor facial revestido pode ser seco para remover
O substrato a água do revestimento. Por exemplo, o substrato revestido pode ser seco em um forno em uma temperatura de cerca de 20°C a cerca de 15 0°C, em algumas modalidades de cerca de 50°C a cerca 120°C e, em algumas modalidades, de cerca de 100°C a cerca de 110°C. Uma vez secos, os polímeros orgânicos solúveis em água podem constituir pelo menos cerca de 50% em peso, em algumas modalidades pelo menos cerca de 75% em peso e, em algumas modalidades, pelo menos cerca de 90% em peso do revestimento.
Conforme estabelecido, a composição de revestimento reduz a formação de névoa e ofuscação quando aplicada a um substrato transparente da maneira apresentada na presente invenção. A propriedade anti-formação de névoa é exibida pela tendência do revestimento de resistir à formação de gotículas de água que, de outro modo, reduziría significativamente a transparência. Vapor d'água, por
18/32 φφ * •ΦΦ φ* φ φ φφφφφ φφφφφφφφ φ * φ φ φφ φφ φ t φ φ * φ φ φ φφ» · φ φφ φφφφφ · φ φφφφφ φ φφφ φφ φ φφφ φ φ φ φ exemplo, da respiração humana, tende a se condensar sobre o substrato revestido na forma de um fino filme de agua uniforme, ao invés de como gotí cuias de agua. Da mesma forma, a redução na ofuscação é discernível através da transmissão de luz e turvação do substrato revestido. A transmissão de luz através de um substrato revestido depende do ângulo de incidência e comprimento de onda da luz e é determinado usando a ASTM D1003 intitulada Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics, 11 a qual é incorporada aqui por referência em sua totalidade para todas as finalidade. Um aumento na transmissão de luz revela uma correspondente redução na ofuscação. Na maioria das modalidades da presente invenção, o substrato revestido exibe um aumento na transmissão de luz normal incidente de mais de cerca de 3%, em algumas modalidades mais de cerca de 5% e, em algumas modalidades, mais de cerca de 8% quando comparado a um substrato não revestido, em um comprimento de onda de 550 nanômetros.
Além disso, a turvação é uma medida da dispersão de luz em ângulo amplo dentro de um material. A turvação pode ser medida com um instrumento BYK Gardner Haze Gard Plus (BYK-Gardner EUA, Columbia, MD) usando o procedimento A da ASTM D 1003-61 intitulado Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics, o qual é incorporado aqui por referência em sua totalidade para todas as finalidades. A turvação é definida como o percentual de luz transmitida o qual, quando de passagem através de um espécime, desvia do feixe de luz incidente em mais de uma média de 25 graus. A turvação é comumente referida como a milkiness de um espécime ou sua perda de contraste. Um valor negativo para
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Jf a diferença na turvação, expressa como a diferença no percentual de turvação para o substrato revestido e um substrato não revestido, significa uma redução na turvação. Na maioria das modalidades da presente invenção, a diferença na turvação é menor do que 0%, em algumas modalidades de cerca de -1% a cerca de -0,001% e, em algumas modalidades, de cerca de -0,5% a cerca de -0,01%.
Conforme estabelecido, o substrato transparente da presente invenção é particularmente útil em máscaras faciais. A esse respeito, várias modalidades de uma máscara facial que podem conter o substrato transparente revestido serão agora descritas em maiores detalhes. Fazendo referência à Fig. 1, por exemplo, uma modalidade da tal máscara facial 20 é mostrada, a qual inclui um visor 30 preso a um corpo de filtro 32. 0 visor 30 é projetado para proteger os olhos e outras partes da face de um usuário 22 contra líquido pulverizado ou espalhado. Um par de alças para as orelhas 36 (apenas um dos quais é mostrado na Fig.
1) também é preso às respectivas bordas 40 de lados opostos
0 do corpo de filtro 32 a ser ut i 1 i zado para prender a máscara facial 20 sobre o nariz e a boca do usuário 22. Se desejado, fios ou faixas cirúrgicas também podem substituir as alças para orelhas 36.
Em uma modalidade, o visor 30 é formado de um substrato transparente, tal como descrito acima, e é dimensionado para se adaptar através da largura do corpo de filtro 32 e se estender sobre os olhos do usuário 22. A espessura do visor 30 pode variar, de modo que ela ainda é rígida o bastante para impedir colapso, embora flexível o suficiente para curvar. Em algumas modalidades, a espessura • ·· ·· »···
20/3$ * ·· *«/·· · * ·
Figure BRPI0417477B1_D0006
do visor 30 é de cerca de 0,001 a cerca de 1 milímetro, em algumas modalidades de cerca de 0,01 a cerca de 0,5 milímetros, e em algumas modalidades de cerca de 0,1 a cerca de 0,2 milímetros. Em uma modalidade em particular, o visor 30 é formado de tereftalato de polietileno (PET) e tem uma espessura de cerca de 0,114 milímetros. Se desejado, a composição de revestimento da presente invenção pode ser aplicada a uma ou mais superfícies do visor 30 antes e/ou após ele ser incorporado à máscara facial 20.
Quando de aplicação ao visor 30, o revestimento resultante pode impedir que o ar exalado pelo usuário 22 forme névoa sobre o visor 30. O revestimento também pode minimizar a ofuscação do visor 30 que, de outro modo, causaria tensão ou fadiga nos olhos do usuário 22. Para muitos procedimentos cirúrgicos e técnicas em salas iluminadas, a ofuscação de uma máscara facial pode interferir com a operação do equipamento científico tendo uma peça para os olhos (não mostrada) , tal como um microscópio, um endoscópio ou uma mira a laser para equipamento de precisão.
Conforme estabelecido, a máscara facial 20 também inclui um corpo de filtro 32 preso ao visor 30. 0 corpo de filtro 32 é projetado para retardar o fluxo de líquidos ao nariz e boca do usuário 22. O corpo de filtro 32 pode ser formado de qualquer maneira conhecida por aqueles habilitados na técnica. Na modalidade representada na Fig. 1, por exemplo, o corpo de filtro 32 tem uma configuração geralmente retangular definida, em parte, por uma borda superior 24 oposta âs bordas laterais 40 (apenas uma das quais é mostrada na Fig. 1) e uma borda inferior 44. 0 * · ·
21/32’ corpo de filtro 32 também tem pregas múltiplas 34 para cobrir eficazmente o nariz e a boca do usuário 22. 0 corpo de filtro 32 inclui uma superfície exterior 46 e uma superfície interior (não mostrada). As pregas 34 permitem que o corpo de filtro 32 abaixe externamente e se conforme facilmente aos contornos gerais da face do usuário 22. As pregas 34 cooperam umas com as outras para permitir que o corpo de filtro 32 se expanda e contraia durante a respiração do usuário 22, sem comprometer a vedação de fluido formada entre o perímetro do corpo de filtro 32 e as partes adjacentes da face do usuário 22. Com uma preocupação aumentada por bactérias e produtos químicos altamente tóxicos, os usuários de máscaras faciais estão particularmente interessados em impedir qualquer comunicação de fluido entre a periferia da máscara facial e as partes adjacentes da face do usuário.
Conforme será apreciado por aqueles habilitados na técnica, o corpo de filtro 32 pode ser construído de qualquer uma de uma variedade de diferentes materiais e
0 contém qualquer número de camadas desej ado. Em uma modalidade, por exemplo, o corpo de filtro 32 inclui quatro (4) camadas distintas. Por exemplo, a camada mais externa que define a superfície exterior 46 do corpo de filtro 32 pode ser uma camada de estoque de cobertura que inclui fibras celulósicas. A camada de estoque de cobertura pode ser quimicamente revestida ou tratada, tal como com um repelente líquido, para tornar o estoque de cobertura resistente a líquidos. Uma camada de filtração pode estar posicionada adj acente à camada de estoque de cobertura. A camada de filtração pode conter, por exemplo, uma trama n /
22/32 não-tecida ou laminado. A camada de filtração inibe a passagem de bactérias trazidas pelo ar em qualquer direção.
Uma camada de barreira pode ser posicionada adjacente à camada de filtração. Um exemplo de tal material de barreira é polietileno de baixa densidade. A camada de barreira pode possuir pequenos poros que impedem líquidos com uma tensão de superfície relativamente alta de passarem através da mesma, ao mesmo tempo em que permite que gases e vapores com uma baixa tensão de superfície passem. A camada de barreira é projetada para passar livremente fases em qualquer direção, enquanto restringe a passagem de líquidos em pelo menos uma direção. A barreira porosa pode conter compostos que absorvem ou reagem com vapores malcheirosos, assim, impondo alguma restrição sobre a permeabilidade do vapor. As camadas de estoque de cobertura e filtração ajudam a camada de barreira diminuindo qualquer líquido que possa ser espalhado, pulverizado ou escorrido no corpo de filtro 32. Requerendo que o líquido passe através dessas duas camadas antes de atingir o material de barreira 34, o líquido terá menos pressão e o material de barreira 34 será mais capaz de impedir a passagem do líquido. A camada mais interna adj acente à face do usuário 2 2 pode ser construída de um pano não-tecido altamente poroso e de peso leve. A camada mais interna é projetada para impedir materiais indesejados, tais como pêlos faciais, fibras soltas ou gotas de transpiração, contate as outras camadas, o que poderia deixar passar líquidos através do corpo de filtro 32. A camada mais interna também proporciona uma superfície confortável para contato com a face do usuário.
Embora várias configurações tenham sido descritas
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23/32’
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4 4 4 4 • 44444 «
4« 4 <4 4 444 acima, deverá ser compreendido que a presente invenção não está limitada a qualquer configuração de máscara facial ou visor em particular. Por exemplo, em uma modalidade, a máscara facial pode ser formada totalmente de um substrato transparente (algumas vezes referido como um anteparo facial stand-alone} do qual pelo menos uma parte é aplicada com a composição de revestimento da presente invenção. Várias outras configurações e materiais usados para formar máscaras faciais, incluindo visores e corpos de filtro usados aqui, são descritos nas Patentes U.S. Nos. 6.664.314 para Etsbero; 6.427.693 para Blackstock e colaboradores; 6,257.235 para Bowen; 6.213.125 para Reese e colaboradores ,· 6.055.982 para Brunson e colaboradores;
5.883.026 para Reader e colaboradores; 5.813.398 para Baird e colaboradores; 5.765.556 para Brunson; 5.724.964 para
Brunson e colaboradores; 5.704.349 para Hubbard e colaboradores; 5.699.792 para Reese e colaboradores;
5.561.863 para Carlson e colaboradores: 5.150.703 para
Hubbard e colaboradores; 5.020.533 para Hubbard e colaboradores; 4.969.457 para Hubbard e colaboradores; 4.662.005 para Grier-ldris; 4.589.408 para Singer; e
D327.141 para Hubbard e colaboradores, os quais são incorporados aqui em sua totalidade por referência à mesma para todas as finalidades.
A presente invenção pode ser melhor compreendida com referência aos exemplos a seguir.
Métodos de Teste
Os seguintes métodos de teste são utilizados nos Exemplos.
Espessura do Revestimento: A espessura do revestimento
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• · *
24/32 • ·*4·4 44444444 *· · 4 4 · • 4 4 4 · · • 4 4444 4 4 • · 4 4 4
444 4 ♦ 4 · foi medida com um Atomic Force Microscope (AFM), o qual é, essencialmente, uma técnica de perfilometria mecânica tendo resolução espacial excedentemente elevada. A superfície revestida é muito ligeiramente raspada com uma agulha ou outro objeto com superfície pontiaguda. A raspagem remove o revestimento relativamente mole e friãvel sem danificar a estrutura subj acente do polímero duro ou substrato de vidro. O AFM é, então, usado para calcular um perfil sobre a borda da raspagem, de modo que o diferencial de altura entre a superfície de revestimento e a superfície do substrato possa ser medido. Alternativamente, essa medição pode ser feita com um histograma dos dados de altura em pixéis, o que tem a vantagem de calcular variações médias na textura em ambas as superfícies. A ponta de um medidor de proporção de aspecto elevada (por exemplo, Park Instruments Ultralever) é usada no modo de formação de imagem por contato. A técnica de força atômica é capaz de medir variações na altura de um máximo de 10 mícrons a menos de 1 nanômetro. Os pontos de medição podem ser selecionados através da interferência óptica observada no microscópio luminoso preso. As cores de interferência acompanham a série de Newton e podem ser usadas para localizar as regiões mais finas e mais espessas do revestimento para avaliar a faixa total e a variabilidade da espessura de revestimento em qualquer amostra única.
Formação de Nevoa: A formação de nevoa foi avaliada respirando-se diretamente sobre o filme mantido a aproximadamente uma polegada (2,54 cm) da boca. A formação de nevoa foi determinada subjetivamente como sendo (i) excelente se nenhuma formação de nevoa fosse observada no
25/32’
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99999
Figure BRPI0417477B1_D0008
filme; (ii) boa se formação de névoa fosse observada, mas se dissipasse dentro de 2 segundos; ou (iii) pobre se a formação de névoa persistisse mais de 2 segundos. Se excelente ou boa, o revestimento era mencionado como tendo propriedades anti-formação de nevoa.
Ofuscação: A ofuscação é avaliada através de medição do percentual de transmissão de luz através do substrato. A transmissão percentual de luz depende do ângulo de incidência e do comprimento de onda da luz. A transmissão da luz é medida usando luz a 500 nm, o que esta em torno da faixa média de luz visível, determinada usando o método D1003-92 da ASTM intitulado Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics, usando um instrumento BYK Gardner Haze GardPlus (BYK- Gardner EUA,
Columbia, MD). Maiores valores de transmissão de luz correspondem a menos ofuscação.
Turvação: A turvação é uma medida da dispersão de luz em um ângulo amplo dentro de um material. A turvação foi medida com um instrumento BYK Gardner Haze GardPlus (BYK-Gardner EUA, Columbia, MD) usando o procedimento A da ASTM D 1003-61 intitulado Haze and Luminous Transmittance of Transparent Plastics.
EXEMPLO 1
A capacidade de inibir a formação de névoa e ofuscação com uma composição de revestimento da presente invenção foi demonstrada. Composições de revestimento foram formadas a partir de uma variedade de diferentes polímeros orgânicos solúveis em agua. Um de tais polímeros orgânicos solúveis em água era Bermocoll Ξ 230FQ, o qual é etil hidróxietil celulose comercíalmente disponível da Ahzo Nobel of
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26/32' ···
Stamford Connecticut. Outro polímero orgânico solúvel em água era Hydagen CMF, o qual é um glicolato de quitosana comercialmente disponível da Cognís Corporation of Ambler, Pensilvânia. Outro polímero orgânico solúvel em agua era
Crodacel QM, o qual é PG-hidróxietil celulose cocodimônio, um sal de amônio quaternário de celulose disponível da Croda, Inc. of Parsipany, New Jersey. Finalmente, o polímero orgânico solúvel em água era Klucel EF, o qual é hidróxipropil celulose comercialmente disponível da
Hercules, Inc. of Wilmington, Delaware.
O percentual de ativos dos ingredientes dentro da cada composição de revestimento (o equilíbrio em cada amostra sendo água) é apresentado na Tabela 1 abaixo.
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• · · 9 9 9 9 9
27/32 de ativos das amostras 1-23
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0) • 9 9 9 9 9 9 9 • · · ♦ · • · 9 · · 9 • · · · 9 * * 9 9 • 99 9
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Solvente o o 0,50 o O 0,50 j o o o o O O o O O o o o o o o o o
Tensoativo < s) o o O o o O o o o 0,20 o O o 0,90 0,43 0,47 o i—l o- o o 0Ί CM O o o o 0,06
Gelatina o o o o o o o o o O 0,03 O o O O O o o o O o o O
i—1 <D ü nj s E α o o o o o o o 05 o o o O O o o o o o o o O o o o
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Klucel Cu ω o o o o o o o o Lfi o 0,50 o o O o o o o o o CO ’φ o O o o o
Hydagen CMF o 0,025 0,025 0,050 0,100 j 0,100 0,100 o O o 0,050 1,800 o O o o o o o O o o o
Bermocoll E 230 FQ 0,25 0,25 0,25 O LD O 1,00 o o t—t 0,50 o m o o 0,50 O 0,40 o O o ΙΛ 05 O m 03 o 0,24 o o οο'τ 0,92 0,90
Composição H 05 Γ9 m U? O ω Ολ O rd rd rd 05 i—l m i—l M· rd in rd > i—l 00 i—l Ch rd o 05 21 05 05 03
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Além de um polímero orgânico solúvel em água, algumas das amostras também continham outros ingredientes. Por exemplo, as amostras 10, 13-16, 18, 20 e 22-23 continham um ou mais tensoativos. Especificamente, a amostra 10 utilizou Glucopon 220 UP a 0,20% em peso, o qual é um alquil poliglicosideo comercialmente disponível da Cognis. A amostra 13 utilizou cocoil glutamato de sódio a 0,46% em peso (um tensoativo aniônico comercialmente disponível da Hampshire Chemicals). A amostra 14 utilizou cocoil glutamato de sódio a 0,46% em peso (Hampshire Chemicals) e lauril etilenodiaminatriacetato a 0,44% em peso, sal de sódio (NaLED3A) (um tensoativo de quelação comercialmente disponível da Hampshire Chemicals). A amostra 15 utilizou cocoil glutamato de sódio a 0,43% em peso (Hampshire Chemicals). A amostra 16 utilizou cocoil glutamato de sódio a 0,47% em peso (Hampshire Chemicals). A amostra 18 utilizou trietanolaminacocoil glutamato a 0,30% em peso (um tensoativo aniônico comercialmente disponível da Hampshire Chemicals) e NaLED3A a 0,41% em peso (Hampshire Chemicals). A amostra 20 continha Sugaquat S-1210 a 0,29% em peso, o qual é um Ci2 poliglicosideo di-substituído com um grupo 0ϊ8 amônio quaternário comercialmente disponível da Colonial Chemical, Inc. of South Pittsburg, Tennessee. Fínalmente, as amostras 22-23 continham, cada uma, Sugaquat S-1210 a 0,06% em peso (Colonial Chemical).
Além disso, as amostras 3-4, 6, 11, 19 e 23 continham partículas de Snowtex-AK, as quais são partículas de alumina coloidal-sílica revestida comercialmente disponíveis da Nissan Chemical Industries, Ltda. of Houston, Texas. Da mesma forma, a amostra 15 continha *··«···· *·*
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• 4 ··*
Figure BRPI0417477B1_D0010
partículas de Nalco 2326, as quais são partículas de sílica coloidal comercialmente disponíveis da Ondeo Nalco Co. of Naperville, Illinois. Ainda, a amostra 11 utilizou uma gelatina, isto é, tipo A de pele de suíno, a qual está comercialmente disponível da Sigma-Aldrich Co. of Milwaukee, Wisconsin. As amostras 3 e 6 também incluíam um solvente de álcool isopropílico comercialmente disponível da Sigma-Aldrich Co. Finalmente, a amostra .17 incluía AEM 5772, o qual é um material antimicrobianamente ativo que contém um quat de organo-si lano, isto é, cloreto de 3 (trimetóxi-silil)propiloctadecilmetil amônio, e metanol, e está comercialmente disponível da Aegis Environments Co. of Midland, Michigan.
As composições de revestimento foram aplicadas a um filme de poliéster transparente obtido da Dupont of Wilmington, Delaware, sob a marca comercial Melinex 516.” Amostras foram formadas nas quais apenas uma superfície do filme de poliéster foi aplicada com a composição de revestimento e nas quais ambas as superfícies do filme de poliéster foram aplicadas com a composição de revestimento. Para aplicar o revestimento, os ingredientes de cada composição foram inicialmente dispersos em água deionizada. A dispersão resultante foi totalmente misturada em uma temperatura de menos de 45°C (ou temperatura ambiente). A mistura foi realizada até que uma solução transparente fosse obtida. Revestimento do filme de poliéster foi realizado espalhando-se a solução sobre o filme com uma haste Mayer. A espessura de revestimento foi controlada pelo tamanho das ranhuras sobre a haste Mayer. Uma espessura de revestimento era objetivada, de modo que o • *··· · ♦·□··· • · · · · • · · · · • · · · · · · * • · · · · • » · · ·· · · · filme revestido seco proporcionou uma tonalidade azul/púrpura. A secagem foi realizada em um forno de convecção a ar quente em torno de 110°C durante cerca de 1 minuto. Os revestimentos foram aplicados sequencialmente, isto é, a um lado de cada vez.
Uma vez revestidas, as características de formação de névoa, transmissão de luz e diferença na turvação foram medidas para cada amostra. Em alguns casos, amostras múltiplas foram testadas com relação a uma única componente, com a média das amostras sendo reportada. Amostras múltiplas não revestidas (controle) também foram testadas para comparação. Os resultados são apresentados abaixo nas Tabela 2 e 3, com a Tabela 2 proporcionando os resultados para amostras tendo apenas um lado revestido e a
Tabela 3 proporcionando os resultados para as amostras tendo cada lado revestido.
Tabela 2: Propriedades das Amostras com Um Lado Revestido
Amostra Anti-formação de névoa? Transmissão média de luz (%) ÁTurvação média
1 Sim 92,7 -0,14
2 Sim 93,1 0,00
3 Sim 92,4 -0,20
4 Sim 93,9 -0,10
5 Sim 91,9 -0,01
6 Sim 92,7 -0,18
7 Sim 92,7 -0,18
11 Sim 93,5 + 1,00
12 Sim 93,3 + 0,14
13 Sim 94,0 -0,04
14 Sim 93,5 + 0,03
'____βΜ*(ϋ|·|β·|^' •··*···· =31/3^ ’
15 Sim 94,3 -0,14
16 Sim 93,6 -0,15
20 Sim 92,3 + 0,70
21 Sim 94,2 -0,06
22 Sim 94,3 -0,05
23 Sim 94,3 + 0,68
Tabela 3: Propriedades das Amostras com Dois Lados Revestidos
Amostra Anti-formação de névoa? Transmissão média de luz (%) ÁTurvação média
1 Sim 95,5 -0,20
2 Sim 96,3 -0,15
3 Sim 95,2 + 0,10
4 Sim 98,5 + 0,13
5 Sim 95,1 -0,11
6 Sim 95,2 + 0,13
7 Sim 95,7 + 1,88
8 Sim 93,5 + 1,07
9 Sim 93,7 + 0,30
10 Sim 96,2 -0,15
11 Sim 92,6 + 0,28
12 Sim 95,4 -0,12
13 Sim 95,6 + 0,68
Nenhuma das amostras de controle foi determinada como tendo propriedades anti-formação de névoa. Além disso, a transmissão de luz das amostras de controle era, de modo geral, menor do que a transmissão de luz das amostras formadas de acordo com a presente invenção. Assim, conforme indicado acima, a composição de revestimento da presente • « » υτ • · · · •32/32 ·· invenção obteve formação de névoa e ofuscação reduzidas em comparação com as amostras de controle.
Embora a invenção tenha sido descrita em detalhes com relação à modalidades específicas da mesma, será apreciado que aqueles habilitados na técnica, quando de obtenção de uma compreensão do precedente, podem conceber prontamente alterações a, variações de e equivalentes a essas modalidades. Conseqüentemente, o escopo da presente invenção deverá ser avaliado como aquele das reivindicações em anexo e quaisquer equivalentes das mesmas.
1/2

Claims (9)

REIVINDICAÇÕES
1. Máscara facial compreendendo um substrato transparente, onde um revestimento está presente sobre pelo menos uma superfície do referido substrato que compreende
2/2 revestimento sobre o referido substrato transparente, caracterizado por os um ou mais alquil hidróxialquil éteres de celulose constituirem pelo menos 90% em peso do referido revestimento, e em que o substrato revestido forma um visor
3. Máscara facial, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizada pelo fato do alquil hidróxialquil éter de
15 celulose incluir etil hidroxietil celulose.
4. Máscara facial, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato do revestimento compreender menos de 10% em peso de tensoativos. 5. Máscara facial, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato do revestimento compreender menos de 1% em peso de
tensoativos.
5 ou anteparo da máscara facial.
5 um ou mais alquil hidróxialquil éteres de celulose, caracterizada por os um ou mais alquil hidróxialquil éteres de celulose constituírem pelo menos 90% em peso do referido revestimento, e em que o substrato revestido forma um visor ou anteparo da máscara facial.
10 2. Máscara facial, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato do revestimento ter uma espessura de 50 a 250 nanômetros.
6. Método para a formação de uma máscara facial que 25 compreende um substrato transparente, compreendendo:
aplicação de uma composição aquosa a pelo menos uma superfície do substrato transparente, a referida composição aquosa incluindo uma mistura de água e um ou mais alquil hidróxialquil éteres de celulose;
30 secagem da referida composição aquosa para formar um
Petição 870160015479, de 25/04/2016, pág. 7/10
7. Método, de acordo com a reivindicação 6, caracterizado pelo fato do revestimento ter uma espessura de 50 a 250 nanômetros.
8. Método, de acordo com a reivindicação 6 ou 7, 10 caracterizado pelo fato do alquil hidróxialquil éter de celulose incluir etil hidróxietil celulose.
9. Método, , de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 8, caracterizado pelo fato do revestimento compreender menos de 10% em peso de tensoativos. 10. Método, de acordo com qualquer uma das reivindicações 6 a 8, caracterizado pelo fato do revestimento compreender menos de 1% em peso de
tensoativos.
Petição 870160015479, de 25/04/2016, pág. 8/10 ·♦·· : 1/1
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