DE102005040661B3 - Koordinatenmessvorrichtung - Google Patents

Koordinatenmessvorrichtung Download PDF

Info

Publication number
DE102005040661B3
DE102005040661B3 DE102005040661A DE102005040661A DE102005040661B3 DE 102005040661 B3 DE102005040661 B3 DE 102005040661B3 DE 102005040661 A DE102005040661 A DE 102005040661A DE 102005040661 A DE102005040661 A DE 102005040661A DE 102005040661 B3 DE102005040661 B3 DE 102005040661B3
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
windows
mirror
tube
measuring
length
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE102005040661A
Other languages
English (en)
Inventor
Michael Heiden
Hans-Artur Dr. Bösser
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Leica Microsystems CMS GmbH
KLA Tencor MIE GmbH
Original Assignee
Leica Microsystems CMS GmbH
Vistec Semiconductor Systems GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Leica Microsystems CMS GmbH, Vistec Semiconductor Systems GmbH filed Critical Leica Microsystems CMS GmbH
Priority to DE102005040661A priority Critical patent/DE102005040661B3/de
Priority to TW095126153A priority patent/TW200708714A/zh
Priority to CNA2006101121422A priority patent/CN1920475A/zh
Priority to JP2006221068A priority patent/JP2007064972A/ja
Priority to US11/467,410 priority patent/US20070046949A1/en
Application granted granted Critical
Publication of DE102005040661B3 publication Critical patent/DE102005040661B3/de
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/026Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/02056Passive reduction of errors
    • G01B9/02058Passive reduction of errors by particular optical compensation or alignment elements, e.g. dispersion compensation
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70858Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature
    • G03F7/70883Environment aspects, e.g. pressure of beam-path gas, temperature of optical system

Landscapes

  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Atmospheric Sciences (AREA)
  • Toxicology (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Environmental & Geological Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein Referenzstrahl-Interferometer zur Bestimmung der Position eines verfahrbaren Tisches, wobei in den längeren der beiden Interferometerarme ein evakuiertes Rohr eingebracht ist. Das Rohr ist mit Fenstern abgeschlossen, die einen negativen Temperaturausdehnungskoeffizienten aufweisen und eine Beschichtung zur Reflexion von Wärmestrahlung aufweisen können. In den kürzeren Strahlgang sind des weiteren thermische Kompensationsplatten eingebracht.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Koordinatenmessvorrichtung zur Bestimmung der Position eines verfahrbaren Tisches, wobei die Positionsbestimmung durch einen Interferometer vorgenommen wird und wobei unterschiedliche Weglängen von Mess- und Referenzstrahlengang im Interferometer durch einen lichtdurchlässigen geschlossenen, inkompressiblen Körper ausgeglichen sind.
  • Referenzstrahl-Interferometer werden für hochgenaue Abstands- und Positionsmessungen eingesetzt und sind beispielsweise wesentlicher Bestandteil von Masken und Wafer-Vermessungsgeräten für die Halbleiterindustrie. Um die Strukturen aktueller, hochintegrierter Schaltkreise zu vermessen, weisen diese Geräte eine Genauigkeit im Bereich von wenigen Nanometern auf.
  • Bei der hochgenauen interferometrischen Messung wird der relative Wegunterschied zwischen einem Messspiegel an dem verfahrbaren Messobjekt im Messstrahlengang und einem ortsfesten Referenzspiegel im Referenzstrahlengang gemessen. Dabei werden die an den Spiegeln zurücklaufenden Strahlen überlagert und durch Interferenz bestimmt, wie sich die Phase des Lichtes bei der Bewegung des Messobjektes ändert. Dabei ist die Wellenlänge des Lichtstrahls der Massstab der Messung, und der relative Weglängenunterschied wird in der Einheit „Wellenlänge" angegeben. Der Wert der Länge einer Wellenlänge eines Lichtstrahls hängt vom Brechungsindex des vom Lichtstrahl durchlaufenen Mediums ab. Dieser variiert durch langsame oder schnelle Änderung von Temperatur, Luftdruck und Luftfeuchte oder durch Änderung der Luftzusammensetzung.
  • Die Anforderung an die Reproduzierbarkeit von Messungen mit den gattungsgemäßen Messvorrichtungen liegt heute im Bereich 5 nm. Damit wirken sich bereits kleinste Änderungen der oben angegebenen Faktoren kritisch auf die Messgenauigkeit aus. Zur Erhöhung der Messgenauigkeit ist daher die Reduktion der Einflussmöglichkeit der oben genannten Faktoren erforderlich. Für hochgenaue Entfernungsmessungen wird daher das Messgerät in einer Klimakammer betrieben in der die Temperatur und die Luftfeuchte konstant gehalten wird. Der Regelgenauigkeit von Temperatur und Luftfeuchte sind dabei technische Grenzen gesetzt. Auch lässt sich mit vertretbarem Aufwand keine hermetisch dichte, insbesondere druckdichte Kammer herstellen, insbesondere, weil einfaches und schnelles Wechseln der Messobjekte erforderlich ist.
  • In der US 5,469,260 wird das Prinzip der interferometrischen Positionsmessung dargestellt. Zur Erhöhung der Messgenauigkeit sind dabei Mess- und Referenzstrahlengang mit an beiden Enden offenen Rohren umhüllt, in die definiert temperaturstabilisierte Luft eingeblasen wird. In der DE 196 28 969 C1 wird ein gattungsgemäßer Referenzstrahl-Interferometer zur Bestimmung der Position eines verfahrbaren Tisches dargestellt. Bei diesem Zweistrahl-Interferometer wird der Einfluss von Wellenlängenänderung durch Umgebungsparameter dadurch verringert, dass in den längeren der beiden Interferometerstrahlengänge ein lichtdurchlässiger, geschlossener, inkompressibler Körper eingeführt ist, so dass die außerhalb des Körpers verlaufenden Anteile von Referenzstrahlengang und Messstrahlengang bei einer bestimmten Positionierung des verfahrbaren Messspiegels gleich lang sind. Damit wirken sich Änderungen der Umgebungsfaktoren im wesentlichen gleich auf Referez- und Messstrahlengang aus und heben sich dabei weitgehend auf.
  • Die EP 0053199 A1 offenbart ein Messverfahren zur schrittweisen Messung von geometrischen Größen und Vorrichtungen zur Durchführung des Verfahrens, wobei der Messstrahlengang einer Laser-Interferometermesseinrichtung in einem längenveränderlichen evakuiertem Hohlraum verläuft.
  • In dem U.S. Patent 5,585,922 werden durch Umgebungsturbulenzen oder Fluktuationen hervorgerufene Messfehler durch eine duale Interferometervorrichtung kompensiert.
  • Das U.S. Patent 4,813,783 A offenbart ebenfalls eine duales Interferometervorrichtung mit zwei evakuierbaren Kammern.
  • Eine vor Umgebungseinflüssen durch bewegliche Komponenten geschützte Präzisionsmessvorrichtung zeigt das U.S. Patent 4,377,036.
  • In der JP 5256611 A ist eine luftdichte Laserinterferenzvorrichtung zur präzisen Längenmessung vorgesehen.
  • Nachteilig ist beim vorliegenden Stand der Technik, dass er den weiter gestiegenen Anforderungen an die Genauigkeit der Messung nicht mehr ausreichend gerecht wird.
  • Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Referenzstrahl-Interferometer anzugeben, bei dem der Einfluss von Umgebungsparameter auf die Änderung der Wellenlänge des Lichtstrahls weiter minimiert ist.
  • Diese wird durch die im Anspruch 1 bestimmte Vorrichtung, ebenso wie durch die in den Ansprüchen 12 und 13 bestimmten Vorrichtungen gelöst. Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den weiteren Unteransprüchen angegeben.
  • Die Erfindung geht von der Erkenntnis aus, dass der verbleibende Korrekturfehler der Abstandsbestimmung weitgehend mit der über die Längendifferenz zwischen Referenzstrahlengang und Messstrahlengang durch die Änderung der Umgebungsparameter verursachten Wellenlängenänderung skaliert.
  • Um den Fehler bei der Abstandsbestimmung infolge der Änderung der Wellenlänge zu minimieren, muss also die Weglängendifferenz zwischen Referenzstrahlengang und Messstrahlengang möglichst klein gehalten werden.
  • Erfindungsgemäß wird die sich aus der Positionierung von Referenzspiegel und Messspiegel ergebende statische Weglängendifferenz in den Strahlengängen durch ein mit Fenstern versehenes Rohr ausgefüllt, wobei die Fenster einen negativen Temperaturausdehnungskoeffizienten aufweisen. Ein entsprechendes Fenster kann etwa aus Dämmmaterial N-LAK 21 bestehen. Die Fenster mit negativem Temperaturausdehnungskoeffizienten gleichen in ihrer Wirkung auf den Strahlengang die mögliche Ausdehnung des Rohres aus.
  • Bevorzugt ist das mit Fenstern versehene Rohr evakuiert. Auf diese Weise wird erreicht, dass der im Rohr verlaufende Strahl von Umgebungseinflüssen vollständig isoliert ist. Das Teilstück des Strahlengangs innerhalb des evakuierten Rohrs ist auch bei leichter Temperaturänderung eine Strecke konstanter Weglänge und wird nicht mit Fehlern aus der Wellenlängenkorrektur behaftet.
  • Vorzugsweise ist vorgesehen, dass der Innendruck des Rohrs mit einem Sensor überwacht ist und das Rohr mit einer Vakuumpumpe verbunden ist, die vom Sensor angesteuert ist. Auf diese Weise kann die Qualität des Vakuums ständig überwacht werden und ggf. der Vakuumdruck nachgeregelt werden.
  • Zweckmäßigerweise ist vorgesehen, dass das Rohr einen Ausdehnungskoeffizienten kleiner oder gleich Stahl, insbesondere kleiner oder gleich Glas aufweist. Damit ist sichergestellt, dass die Länge des Weges konstanter Wellenlänge innerhalb des Rohres von Temperaturänderung weitgehend unbeeinflusst bleibt.
  • Günstigerweise ist vorgesehen, dass das Rohr eine Wanddicke größer 10%, insbesondere größer 20%, insbesondere größer 50%, insbesondere größer 100%, insbesondere größer 200%, insbesondere größer 500%, insbesondere größer 1000% des Innendurchmessers aufweist. Durch eine solche Konstruktion ist zum Einen sichergestellt, dass Änderungen des Umgebungsdrucks wie auch Änderungen der Umgebungstemperatur in ihrem Einfluss auf das Rohrinnere weitgehend abgehalten werden. Zum Anderen ist das Rohr an sich aufgrund seiner erhöhten Wärmekapazität weniger anfällig auf kurzfristige Temperaturschwankungen. Dies betrifft auch die mögliche Längenausdehnung des Rohres.
  • Vorteilhafterweise ist vorgesehen, dass das Rohr nach außen eine Wärmeisolierung aufweist. Dies hat den Vorteil, dass Einflüsse der Temperaturänderung noch stärker in ihren Auswirkungen auf das Rohrinnere abgehalten werden.
  • Mit Vorteil ist vorgesehen, dass das Rohr aus einem Material mit einer spezifischen Wärmeleitfähigkeit kleiner oder gleich Aluminium (160 W/mK), insbesondere kleiner oder gleich Stahl (50 W/mK), insbesondere kleiner oder gleich Glas (1 W/mK) besteht. Dadurch ist sichergestellt, dass Änderungen der Umgebungstemperatur noch stärker vom Rohrinneren abgehalten werden.
  • Erfindungsgemäß ist darüber hinaus die ursprünglich genannte Aufgabe bei einem gattungsgemäßen Referenzstrahl-Interferometer dadurch gelöst, dass die Fenster eine Beschichtung zur Reflexion von Wärmestrahlung aufweisen. Dadurch wird verhindert, dass Wärmestrahlung in das Rohrinnere eindringt und dem Einfluss von Temperaturschwankungen aussetzt, die zur Wellenlängenänderung führen können.
  • Erfindungsgemäß ist des weiteren die ursprünglich genannte Aufgabe bei einem gattungsgemäßen Referenzstrahl-Interferometer dadurch gelöst, dass in den kürzeren Strahlengang eine oder mehrere thermische Kompensationsplatten eingebracht sind, mit insgesamt vergleichbarer Abhängigkeit von Temperatur und optischem Weg, wie die Fenster des Rohrs. Durch diese Anordnung wird die Temperaturabhängigkeit der Weglängenänderung zwischen den beiden Interferometerstrahlen durch die Rohrfenster kompensiert.
  • Günstigerweise bestehen die eine oder mehrere Kompensationsplatten aus dem gleichen Material wie die Fenster und weisen insgesamt eine vergleichbare Dicke wie die beiden Fenster zusammen auf. Durch die identische Ausführung und die gleiche Anzahl der Kompensationsplatten wie die Rohrfenster wird der Effekt der Rohrfenster auf temperaturinduzierte Weglängenänderungen nahezu vollständig minimiert.
  • Mit besonderem Vorteil sind die eine oder mehreren Kompensationsplatten insgesamt geringfügig dünner als die beiden Fenster zusammen. Insbesondere sind diese um bis zu 1/1000, insbesondere um bis zu 1/500, insbesondere um bis zu 1/250 der Länge des Rohres dünner als die beiden Fenster zusammen. Durch eine solche Ausführung wird die Temperaturabhängigkeit der Länge des Rohrs in etwa mit kompensiert.
  • Im folgenden wird die Erfindung anhand schematischer Darstellungen zu einem Ausführungsbeispiel näher erläutert. Gleiche Bezugszeichen in den einzelnen Figuren bezeichnen dabei gleiche Elemente. Es zeigen:
  • 1 ein Interferometer mit Strahlganganpassung,
  • 2 ein erfindungsgemäßes Rohr zur Strahlganganpassung.
  • 1 zeigt eine Koordinaten-Messvorrichtung mit einem Referenzstrahl-Interferometer 10 mit seinem Referenzstrahlengang 33 und seinem Messstrahlengang 23. Der Messstrahl 23 trifft auf den Messspiegel 22, der an dem verfahrbaren Tisch 20 befestigt ist. Der Tisch 20 ist gegenüber dem ortsfesten Unterteil 21 verfahrbar und trägt das hier nicht dargestellte Messobjekt. Der Referenzstrahl 33 trifft auf den Referenzspiegel 32, der an dem ortsfesten Objektiv 30 befestigt ist. Das Objektiv 30 fokussiert auf einen Messpunkt auf dem auf dem verfahrbaren Tisch aufliegenden Messobjekt. Bei der Messung wird das Messobjekt auf dem verfahrbaren Tisch durch diesen soweit bewegt, bis das Objektiv einen weiteren Messpunkt erfasst. Der Abstand zwischen den beiden Messpunkten wird vom Referenzstrahl-Interferometer als Abstandsänderung des verfahrbaren Tischs bezüglich des Objektivs gemessen. Das Referenzstrahl-Interferometer 10 ist mit einer Positionsbestimmungseinrichtung 11 verbunden, die die Signale des Interferometers auswertet.
  • Im dargestellten Fall ist der Referenzstrahl 33 länger als der Messstrahl 23. Änderungen der Wellenlänge beträfen also den Referenzstrahl in stärkerem Maße als den Messstrahl. Um diese stärkere Abhängigkeit zu kompensieren, ist mit dem Rohr 40 eine Strahlganganpassung in den Referenzstrahl 33 eingefügt. Dadurch sind die außerhalb des Rohres 40 verlaufenden Anteile des Referenzstrahls 33 in etwa gleich lang dem Messtrahl 23 für eine angenommene Mittelposition des verfahrbaren Tischs 20. Das Rohr 40 ist mit strahldurchlässigen Fenstern verschlossen und ist evakuiert. Über einen Drucksensor 50 innerhalb des Rohres einer Steuereinheit 51 und einer Vakuumpumpe 52 wird das Vakuum im Rohr konstant gehalten. Im Messstrahl 23 sind Kompensationsplatten 60 eingefügt, die im wesentlichen identisch zu den das Rohr abschließenden Fenstern sind. Dadurch wird der Temperatureinfluss der Rohrfenster auf Weglängenänderung im Referenzstrahl kompensiert.
  • 2 zeigt einen Schnitt durch das Rohr 40. Das Rohr besteht aus einer Rohrwand 42 und aus Fenstern 43, die das Vakuum 41 einschließen. Die Fenster sind auf ihrer Außenfläche mit einer Wärmestrahlung isolierenden Beschichtung 44 versehen. Sie können zusätzlich mit einer hier nicht dargestellter Antireflexschicht auf der Innen- und Außenseite für den Messstrahl versehen sein. Das Rohr 42 ist von einer Wärmeisolierung 45 umgeben.
  • 10
    Referenzstrahl-Interferometer
    11
    Positionsbestimmungseinrichtung
    20
    verfahrbarer Tisch
    21
    Unterteil
    22
    Messspiegel
    23
    Messstrahl
    30
    Objektiv
    32
    Referenzspiegel
    33
    Referenzstrahl
    40
    Rohr
    41
    Vakuum
    42
    Rohrwand
    43
    Fenster
    44
    Beschichtung
    45
    Wärmeisolierung
    50
    Drucksensor
    51
    Steuereinheit
    52
    Vakuumpumpe
    60
    Kompensationsplatten

Claims (15)

  1. Referenzstrahl-Interferometer zur Bestimmung der Position eines verfahrbaren Tisches mit einem verfahrbaren Tisch und einem am Tisch montierten Messspiegel, dessen Spiegelfläche senkrecht zur Verfahrrichtung des Tisches steht und einem dazu parallel ausgerichteten, ortsfesten Referenzspiegel mit einem auf den Messspiegel ausgerichteten Messstrahlengang und einem auf den Referenzspiegel ausgerichteten Referenzstrahlengang, sowie einer Einrichtung zur Bestimmung der Position des Tisches aus den vom Referenzstrahl-Interferometer erzeugten Messsignalen, einem lichtdurchlässigen, geschlossenen inkompressiblen Rohr mit lichtdurchlässigen Fenstern an dessen Enden, das so in den jeweils längeren der beiden Strahlengänge eingefügt ist, dass die außerhalb des Rohrs verlaufenden Anteile der Strahlengänge bei einer vorbestimmten Position des verfahrbaren Tisches gleich lang sind dadurch gekennzeichnet, dass die Fenster einen negativen Temperaturausdehnungskoeffizienten aufweisen.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass das Rohr evakuiert ist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass der Innendruck des Rohres mit einem Sensor überwacht ist und das Rohr mit einer Vakuumpumpe verbunden ist, die vom Sensor angesteuert ist.
  4. Vorrichtung nach einem Ansprüche 2 und 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Rohr einen Ausdehnungskoeffizienten kleiner gleich Stahl, insbesondere kleiner gleich Glas aufweist.
  5. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Rohr eine Wanddicke von größer 10%, insbesondere größer 20%, insbesondere größer 50%, insbesondere größer 100%, insbesondere größer 200%, insbesondere größer 500%, insbesondere größer 1000% des Innendurchmessers aufweist.
  6. Vorrichtung nach einem vorhergehenden Ansprüche 2 bis 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Rohr nach außen eine Wärmeisolierung aufweist.
  7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Rohr aus einem Material mit einer spezifischen Wärmeleitfähigkeit kleiner gleich 160 W/mK (Aluminium), insbesondere kleiner gleich 50 W/mK (Stahl), insbesondere kleiner gleich 1 W/mK (Glas) besteht.
  8. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Fenster eine Beschichtung zur Reflexion von Wärmestrahlung aufweisen
  9. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in den kürzeren Strahlgang eine oder mehrere thermische Kompensationsplatten eingebracht sind mit insgesamt vergleichbarer Abhängigkeit von Temperatur und optischem Weg wie die Fenster.
  10. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die eine oder mehreren Kompensationsplatten aus dem gleichen Material wie die Fenster bestehen und insgesamt eine vergleichbare Dicke wie beide Fenster zusammen aufweisen.
  11. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die eine oder mehreren Kompensationsplatten insgesamt geringfügig dünner als die beiden Fenster zusammen sind, insbesondere um bis zu 1/1000 der Länge des Rohres, insbesondere um bis zu 1/500 der Länge des Rohres, insbesondere um bis zu 1/250 der Länge des Rohres.
  12. Referenzstrahl-Interferometer zur Bestimmung der Position eines verfahrbaren Tisches mit einem verfahrbaren Tisch und einem am Tisch montierten Messspiegel, dessen Spiegelfläche senkrecht zur Verfahrrichtung des Tisches steht und einem dazu parallel ausgerichteten, ortsfesten Referenzspiegel mit einem auf den Messspiegel ausgerichteten Messstrahlengang und einem auf den Referenzspiegel ausgerichteten Referenzstrahlengang, sowie einer Einrichtung zur Bestimmung der Position des Tisches aus den vom Referenzstrahl-Interferometer erzeugten Messsignalen, einem lichtdurchlässigen, geschlossenen inkompressiblen Rohr mit lichtdurchlässigen Fenstern an dessen Enden, das so in den jeweils längeren der beiden Strahlengänge eingefügt ist, dass die außerhalb des Rohrs verlaufenden Anteile der Strahlengänge bei einer vorbestimmten Position des verfahrbaren Tisches gleich lang sind, dadurch gekennzeichnet, dass die Fenster eine Beschichtung zur Reflexion von Wärmestrahlung aufweisen
  13. Referenzstrahl-Interferometer zur Bestimmung der Position eines verfahrbaren Tisches mit einem verfahrbaren Tisch und einem am Tisch montierter Messspiegel, dessen Spiegelfläche senkrecht zur Verfahrrichtung des Tisches steht und einem dazu parallel ausgerichteten, ortsfesten Referenzspiegel mit einem auf den Messspiegel ausgerichteten Messstrahlengang und einem auf den Referenzspiegel ausgerichteten Referenzstrahlengang, sowie einer Einrichtung zur Bestimmung der Position des Tisches aus den vom Referenzstrahl-Interferometer erzeugten Messsignalen, einer lichtdurchlässigen, geschlossenen inkompressiblen Rohr mit lichtdurchlässigen Fenstern an dessen Enden, das so in den jeweils längeren der beiden Strahlengänge eingefügt ist, dass die außerhalb des Rohrs verlaufenden Anteile der Strahlengänge bei einer vorbestimmten Position des verfahrbaren Tisches gleich lang sind, dadurch gekennzeichnet, dass in den kürzeren Strahlgang eine oder mehrere thermische Kompensationsplatten eingebracht ist mit insgesamt vergleichbarer Abhängigkeit von Temperatur und optischem Weg wie die Fenster.
  14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass die eine oder mehreren Kompensationsplatten aus dem gleichen Material wie die Fenster bestehen und insgesamt eine vergleichbare Dicke wie beide Fenster zusammen aufweisen.
  15. Vorrichtung nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass die eine oder mehreren Kompensationsplatten insgesamt geringfügig dünner als die beiden Fenster zusammen sind, insbesondere um bis zu 1/1000 der Länge des Rohres, insbesondere um bis zu 1/500 der Länge des Rohres, insbesondere um bis zu 1/250 der Länge des Rohres.
DE102005040661A 2005-08-26 2005-08-26 Koordinatenmessvorrichtung Expired - Fee Related DE102005040661B3 (de)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005040661A DE102005040661B3 (de) 2005-08-26 2005-08-26 Koordinatenmessvorrichtung
TW095126153A TW200708714A (en) 2005-08-26 2006-07-18 A coordinate measuring device
CNA2006101121422A CN1920475A (zh) 2005-08-26 2006-08-11 坐标测量器件
JP2006221068A JP2007064972A (ja) 2005-08-26 2006-08-14 座標測定装置
US11/467,410 US20070046949A1 (en) 2005-08-26 2006-08-25 Coordinate measuring device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005040661A DE102005040661B3 (de) 2005-08-26 2005-08-26 Koordinatenmessvorrichtung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102005040661B3 true DE102005040661B3 (de) 2006-12-28

Family

ID=37513806

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102005040661A Expired - Fee Related DE102005040661B3 (de) 2005-08-26 2005-08-26 Koordinatenmessvorrichtung

Country Status (5)

Country Link
US (1) US20070046949A1 (de)
JP (1) JP2007064972A (de)
CN (1) CN1920475A (de)
DE (1) DE102005040661B3 (de)
TW (1) TW200708714A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008002968A1 (de) 2008-07-25 2010-02-04 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Interferometrische Einrichtung zur Positionsmessung und Koordinaten-Messmaschine

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102005046605A1 (de) * 2005-09-29 2007-04-05 Robert Bosch Gmbh Interferometrische Messeinrichtung
JP5541722B2 (ja) * 2010-10-29 2014-07-09 キヤノン株式会社 測長装置、及び工作機械
CN115047221B (zh) * 2022-05-20 2023-09-15 浙江大学 一种面向末端稳定性的冂字型长探针装置

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0053199A1 (de) * 1980-12-02 1982-06-09 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Verfahren zum schrittweisen Messen von geometrischen Grössen und Vorrichtungen zur Durchführung des Verfahrens
US4377036A (en) * 1980-02-21 1983-03-22 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Precision measuring apparatus having a measuring interval sealed from environmental influences
US4813783A (en) * 1987-11-03 1989-03-21 Carl-Zeiss-Stiftung Interferometer system for making length or angle measurements
JPH05256611A (ja) * 1992-03-13 1993-10-05 Fujitsu Ltd レーザ干渉測長装置
US5469260A (en) * 1992-04-01 1995-11-21 Nikon Corporation Stage-position measuring apparatus
US5585922A (en) * 1992-12-24 1996-12-17 Nikon Corporation Dual interferometer apparatus compensating for environmental turbulence or fluctuation and for quantization error
DE19628969C1 (de) * 1996-07-18 1997-10-02 Leica Mikroskopie & Syst Koordinaten-Meßvorrichtung

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3398287A (en) * 1965-02-15 1968-08-20 Boeing Co Radiation sensitive geophysical strain measuring apparatus
US4571082A (en) * 1982-05-18 1986-02-18 Downs Michael J Apparatus and method for measuring refractive index
US5039201A (en) * 1990-04-30 1991-08-13 International Business Machines Corporation Double-pass tunable fabry-perot optical filter
US5245405A (en) * 1990-05-11 1993-09-14 Boc Health Care, Inc. Constant pressure gas cell
JP3219349B2 (ja) * 1993-06-30 2001-10-15 キヤノン株式会社 波長コンペンセータ、該波長コンペンセータを用いたレーザ干渉測定装置、該レーザ干渉測定装置を有するステージ装置、該ステージ装置を有する露光システム、および該露光システムを用いたデバイスの製造方法
DE19528513A1 (de) * 1995-08-03 1997-02-06 Haeusler Gerd Verfahren zur berührungslosen, schnellen und genauen Erfassung der Oberflächengestalt von Objekten
JP3202183B2 (ja) * 1997-10-16 2001-08-27 株式会社ミツトヨ レーザ光を用いたスケール及び測長方法
US6222860B1 (en) * 1999-01-07 2001-04-24 Hewlett-Packard Company Laser system tolerating disturbances using multiple modes
ATE280406T1 (de) * 1999-04-07 2004-11-15 Cit Alcatel Druckregelvorrichtung für eine vakuumkammer, und eine mit einer solchen vorrichtung versehenen vakuumpumpeinheit
US6195168B1 (en) * 1999-07-22 2001-02-27 Zygo Corporation Infrared scanning interferometry apparatus and method
US6909511B2 (en) * 2001-02-27 2005-06-21 Jds Uniphase Corporation Athermal interferometer
US7215081B2 (en) * 2002-12-18 2007-05-08 General Electric Company HID lamp having material free dosing tube seal

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4377036A (en) * 1980-02-21 1983-03-22 Dr. Johannes Heidenhain Gmbh Precision measuring apparatus having a measuring interval sealed from environmental influences
EP0053199A1 (de) * 1980-12-02 1982-06-09 Dr. Johannes Heidenhain GmbH Verfahren zum schrittweisen Messen von geometrischen Grössen und Vorrichtungen zur Durchführung des Verfahrens
US4813783A (en) * 1987-11-03 1989-03-21 Carl-Zeiss-Stiftung Interferometer system for making length or angle measurements
JPH05256611A (ja) * 1992-03-13 1993-10-05 Fujitsu Ltd レーザ干渉測長装置
US5469260A (en) * 1992-04-01 1995-11-21 Nikon Corporation Stage-position measuring apparatus
US5585922A (en) * 1992-12-24 1996-12-17 Nikon Corporation Dual interferometer apparatus compensating for environmental turbulence or fluctuation and for quantization error
DE19628969C1 (de) * 1996-07-18 1997-10-02 Leica Mikroskopie & Syst Koordinaten-Meßvorrichtung

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008002968A1 (de) 2008-07-25 2010-02-04 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Interferometrische Einrichtung zur Positionsmessung und Koordinaten-Messmaschine
US8351049B2 (en) 2008-07-25 2013-01-08 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Interferometric device for position measurement and coordinate measuring machine

Also Published As

Publication number Publication date
JP2007064972A (ja) 2007-03-15
US20070046949A1 (en) 2007-03-01
TW200708714A (en) 2007-03-01
CN1920475A (zh) 2007-02-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE102011107771B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Dickenmessung eines Messobjekts
EP0527150B1 (de) Ellipsometer
DE10050749B4 (de) Laserinterferenzeinrichtung
DE102005040661B3 (de) Koordinatenmessvorrichtung
DE19544917A1 (de) Interferometer mit Laserumhüllung
DE3841488A1 (de) Koordinatenmessgeraet mit einem oder mehreren fuehrungselementen aus aluminium
DE69816321T2 (de) Asphärisch - konisches konformes optisches fenster
DE3002667A1 (de) Selbststabilisierender pneumatischer lagegeber
DE19628969C1 (de) Koordinaten-Meßvorrichtung
DE102006059432B4 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Vermessung von Lithographiemasken
WO2024056501A1 (de) Verfahren zum bearbeiten eines referenzelements für ein interferometer
DE918051C (de) Laengenmass mit Temperaturausgleich
DE3703086A1 (de) Laserinterferometer-refraktometer
DE102013017289A1 (de) Verfahren zum Durchführen einer Dickenmessung an bandförmigen Materialien und an Stückgütern sowie eine entsprechende Vorrichtung
DE3503007C2 (de)
DE10042123B4 (de) Vorrichtung zur Durchführung von optischen Messungen an einer Probe in einer Vakuumkammer
DE102013213525B3 (de) Verfahren zum Kalibrieren eines Positionsmeßsystems und Positionsmeßsystem
WO2017067657A1 (de) Infrarot-messvorrichtung
DE102019117636B3 (de) Dichtungsanordnung für eine teilweise im Vakuum angeordnete Interferometerstrecke
DE102008002968A1 (de) Interferometrische Einrichtung zur Positionsmessung und Koordinaten-Messmaschine
DE10131898A1 (de) Interferometrische Messvorrichtung zur Wellenlängenkalibrierung
DE10309284B4 (de) Dilatometer
DE102006059440A1 (de) Maskenvermessungsvorrichtung und Meßverfahren für eine Maske
DD151804A1 (de) Einrichtung zur messung der wellenlaenge eines laserstrahls
DE2136813C3 (de) Anordnung zur Messung der windabhängigen Auslenkung eines Laserstrahles zwecks Bestimmung der mittleren transversalen Windgeschwindigkeit entlang einer Strecke

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of the examined application without publication of unexamined application
8364 No opposition during term of opposition
R082 Change of representative

Representative=s name: REICHERT & LINDNER PARTNERSCHAFT PATENTANWAELT, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee